深圳正性光刻膠生產(chǎn)廠家

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2025-07-09

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻膠為中心，逐步拓展至半導(dǎo)體全材料領(lǐng)域，形成了 “技術(shù)驅(qū)動(dòng)、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠，還延伸至錫膏、焊片、靶材等配套材料，為客戶提供一站式采購(gòu)服務(wù)。

市場(chǎng)與榮譽(yù)：
  • 產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球 50 多個(gè)地區(qū)，客戶包括電子制造服務(wù)商（EMS）及半導(dǎo)體廠商。
  • 獲評(píng) “廣東省專精特新企業(yè)”“廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)”，并通過(guò)技術(shù)企業(yè)認(rèn)證。
  • 生產(chǎn)基地配備自動(dòng)化設(shè)備，年產(chǎn)能超千噸，滿足大規(guī)模訂單需求。
未來(lái)展望：
公司計(jì)劃進(jìn)一步擴(kuò)大研發(fā)中心規(guī)模，聚焦第三代半導(dǎo)體材料研發(fā)，如 GaN、SiC 相關(guān)光刻膠技術(shù)。同時(shí)，深化全球化布局，在東南亞、歐洲等地設(shè)立分支機(jī)構(gòu)，強(qiáng)化本地化服務(wù)能力。
光刻膠的線邊緣粗糙度（LER）是影響芯片性能的關(guān)鍵因素之一。深圳正性光刻膠生產(chǎn)廠家

深圳正性光刻膠生產(chǎn)廠家,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號(hào)，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。


正性光刻膠 山西厚膜光刻膠品牌光刻膠的關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域。

  • LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果。
  • 半導(dǎo)體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝，滿足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
深圳正性光刻膠生產(chǎn)廠家,光刻膠

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，掌握光刻膠主要原材料（如樹(shù)脂、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級(jí)。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域（如量子點(diǎn)顯示、生物芯片）實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，分辨率達(dá)3μm，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠：針對(duì)顯示面板行業(yè)需求，開(kāi)發(fā)出高感光度、高對(duì)比度的光刻膠，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體光刻膠，計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。

技術(shù)研發(fā)：從配方到工藝的經(jīng)驗(yàn)壁壘

 配方設(shè)計(jì)的“黑箱效應(yīng)”
光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合，需通過(guò)數(shù)萬(wàn)次實(shí)驗(yàn)優(yōu)化。例如，ArF光刻膠需在193nm波長(zhǎng)下實(shí)現(xiàn)0.1μm分辨率，其光酸產(chǎn)率、熱穩(wěn)定性等參數(shù)需精確匹配光刻機(jī)性能。日本企業(yè)通過(guò)數(shù)十年積累形成的配方數(shù)據(jù)庫(kù)，國(guó)內(nèi)企業(yè)短期內(nèi)難以突破。

 工藝控制的極限挑戰(zhàn)
光刻膠生產(chǎn)需在百級(jí)超凈車間進(jìn)行，金屬離子含量需控制在1ppb以下。國(guó)內(nèi)企業(yè)在“吸附—重結(jié)晶—過(guò)濾—干燥”耦合工藝上存在技術(shù)短板，導(dǎo)致產(chǎn)品批次一致性差。例如，恒坤新材的KrF光刻膠雖通過(guò)12英寸產(chǎn)線驗(yàn)證，但量產(chǎn)良率較日本同類型產(chǎn)品低約15%。

 EUV光刻膠的“代際鴻溝”
EUV光刻膠需在13.5nm波長(zhǎng)下工作，傳統(tǒng)有機(jī)光刻膠因吸收效率低、熱穩(wěn)定性差面臨淘汰。國(guó)內(nèi)企業(yè)如久日新材雖開(kāi)發(fā)出EUV光致產(chǎn)酸劑，但金屬氧化物基光刻膠（如氧化鋅）的納米顆粒分散技術(shù)尚未突破，導(dǎo)致分辨率只達(dá)10nm，而國(guó)際水平已實(shí)現(xiàn)5nm。
負(fù)性光刻膠曝光后形成不溶結(jié)構(gòu)，適用于平板顯示等對(duì)厚度要求較高的場(chǎng)景。

深圳正性光刻膠生產(chǎn)廠家,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號(hào)，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
  • 負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率、良好的對(duì)比度和高曝光靈敏度，光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對(duì)光刻精度要求高的領(lǐng)域，如半導(dǎo)體器件制造。
  • 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100：重量 1L，具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝，如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。


光刻膠的質(zhì)量直接影響芯片良率，其研發(fā)始終是行業(yè)技術(shù)焦點(diǎn)。蘇州進(jìn)口光刻膠國(guó)產(chǎn)廠商

顯示面板制造中，光刻膠用于LCD彩膜（Color Filter）和OLED像素隔離層的圖案化。深圳正性光刻膠生產(chǎn)廠家

應(yīng)用場(chǎng)景

 半導(dǎo)體集成電路（IC）制造：

? 邏輯芯片（CPU/GPU）：在28nm以下制程中，正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細(xì)圖案化（如10nm節(jié)點(diǎn)線寬只有100nm）。

? 存儲(chǔ)芯片（DRAM/NAND）：3D堆疊結(jié)構(gòu)中，正性膠用于層間接觸孔（Contact）和柵極（Gate）的高深寬比圖形（深寬比＞10:1）。

 平板顯示（LCD/OLED）：

? 彩色濾光片（CF）：制作黑矩陣（BM）和彩色層（R/G/B），要求高透光率和邊緣銳利度（線寬5-10μm）。

? OLED電極：在柔性基板上形成微米級(jí)透明電極，需低應(yīng)力膠膜防止基板彎曲變形。

 印刷電路板（PCB）：

? 高密度互連（HDI）：用于細(xì)線路（線寬/線距≤50μm），如智能手機(jī)主板，相比負(fù)性膠，正性膠可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的線路邊緣。

 微納加工與科研：

? MEMS傳感器：制作微米級(jí)懸臂梁、齒輪等結(jié)構(gòu)，需耐干法蝕刻的正性膠（如含硅樹(shù)脂膠）。

? 納米光刻：電子束光刻膠（正性為主）用于研發(fā)級(jí)納米圖案（分辨率＜10nm）。
深圳正性光刻膠生產(chǎn)廠家

標(biāo)簽： 錫膏 光刻膠 錫片