南京油墨光刻膠感光膠

來源： 發(fā)布時(shí)間：2025-05-05

以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動(dòng)，吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā)，搶占行業(yè)制高點(diǎn)。布局下一代光刻技術(shù)。
面對(duì)極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn)，吉田半導(dǎo)體與中科院合作開發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠，在感光效率（<10mJ/cm2）和耐蝕性（>80%）指標(biāo)上取得階段性進(jìn)展。同時(shí)，公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā)，對(duì)標(biāo)日本王子控股技術(shù)，探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用。這些技術(shù)儲(chǔ)備為 7nm 及以下制程提供支撐，助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用。南京油墨光刻膠感光膠

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納米制造與表面工程

? 納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列、孔陣列），用于批量復(fù)制微流控芯片或柔性顯示基板。

? 表面功能化：在基底表面構(gòu)建納米級(jí)粗糙度（如仿生荷葉超疏水表面）或化學(xué)圖案（引導(dǎo)細(xì)胞定向生長的納米溝槽），用于生物醫(yī)學(xué)或能源材料（如電池電極的納米陣列結(jié)構(gòu)）。

量子技術(shù)與精密測量

? 超導(dǎo)量子比特：在鈮酸鋰或硅基底上，通過光刻膠定義納米級(jí)約瑟夫森結(jié)陣列，構(gòu)建量子電路。

? 納米傳感器：制備納米級(jí)懸臂梁（表面鍍光刻膠圖案化的金屬電極），用于探測單個(gè)分子的質(zhì)量或電荷變化（分辨率達(dá)亞納米級(jí)）。
南京負(fù)性光刻膠國產(chǎn)廠家吉田質(zhì)量管控與認(rèn)證壁壘。

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 感光機(jī)制

? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應(yīng)固化，適用于精細(xì)圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。

? SBQ型（單液型）：預(yù)混光敏劑，無需調(diào)配，感光度高（曝光時(shí)間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）。

? 環(huán)保型：采用無鉻配方（如CN10243143A），通過多元固化體系（熱固化+光固化）實(shí)現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光，分辨率達(dá)2μm，符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn)。

 功能細(xì)分

? 耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶劑，適用于電子油墨印刷。

? 耐水型：如瑞士科特1711，抗水性強(qiáng)，適合紡織品水性漿料。

? 厚版型：如德國K?ppen厚版膠，單次涂布可達(dá)50μm，用于立體印刷。


典型應(yīng)用場景：

? PCB制造：使用360目尼龍網(wǎng)+重氮感光膠，配合LED曝光（405nm波長），實(shí)現(xiàn)0.15mm線寬，耐酸性蝕刻液。

? 紡織印花：圓網(wǎng)制版采用9806A型感光膠，涂布厚度20μm，耐堿性染料色漿，耐印率超10萬次。

? 包裝印刷：柔版制版選用杜邦賽麗® Lightning LFH版材，UV-LED曝光+無溶劑工藝，碳排放降低40%。


作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品質(zhì)量視為重要發(fā)展動(dòng)力。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導(dǎo)體材料解決方案。

公司產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等，原材料均嚴(yán)格選用美國、德國、日本等國的質(zhì)量進(jìn)口材料。通過全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備與精細(xì)化工藝控制，確保每批次產(chǎn)品的穩(wěn)定性與一致性。例如，納米壓印光刻膠采用特殊配方，可耐受 250℃高溫及復(fù)雜化學(xué)環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高分辨率和穩(wěn)定性，成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。


半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。

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國產(chǎn)替代進(jìn)程加速
日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后，國內(nèi)企業(yè)加速驗(yàn)證本土產(chǎn)品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬大單，二期300噸生產(chǎn)線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610，已通過中芯國際14nm工藝驗(yàn)證。預(yù)計(jì)到2025年，國內(nèi)KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率將從不足5%提升至10%。

 原材料國產(chǎn)化突破
光刻膠樹脂占成本50%-60%，八億時(shí)空的光刻膠樹脂產(chǎn)線預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)百噸級(jí)量產(chǎn)，其產(chǎn)品純度達(dá)到99.999%，金屬雜質(zhì)含量低于1ppb。怡達(dá)股份作為全球電子級(jí)PM溶劑前段（市占率超40%），與南大光電合作開發(fā)配套溶劑，打破了日本關(guān)東化學(xué)的壟斷。這些進(jìn)展使光刻膠生產(chǎn)成本降低約20%。

 供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)緩解
合肥海關(guān)通過“空中專線”保障光刻膠運(yùn)輸，將進(jìn)口周期從28天縮短至17天，碳排放減少18%。國內(nèi)在建12座光刻膠工廠（占全球總數(shù)58%），預(yù)計(jì)2025年產(chǎn)能達(dá)3000噸/年，較2023年增長150%。
松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載，提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案。江西LED光刻膠生產(chǎn)廠家

光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體，23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!南京油墨光刻膠感光膠

主要應(yīng)用場景

 印刷電路板（PCB）：

? 通孔/線路加工：負(fù)性膠厚度可達(dá)20-50μm，耐堿性蝕刻液（如氯化鐵、堿性氯化銅），適合制作大尺寸線路（線寬/線距≥50μm），如雙面板、多層板的外層電路。

? 阻焊層：作為絕緣保護(hù)層，覆蓋非焊盤區(qū)域，需厚膠（50-100μm）和高耐焊接溫度（260℃以上），負(fù)性膠因工藝簡單、成本低而廣泛應(yīng)用。

 微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：

? 深硅蝕刻（DRIE）：負(fù)性膠作為蝕刻掩膜，厚度可達(dá)100μm以上，耐SF?等強(qiáng)腐蝕性氣體，用于制作加速度計(jì)、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)（深寬比＞20:1）。

? 模具制造：在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具，利用負(fù)性膠的厚膠成型能力。

 平板顯示（LCD）：

? 彩色濾光片（CF）基板預(yù)處理：在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層，耐濕法蝕刻（如HF溶液），確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布。

 功率半導(dǎo)體與分立器件：

? IGBT、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻：負(fù)性膠用于制作較寬的隔離溝槽（寬度＞10μm），耐高濃度酸堿蝕刻，降低工藝成本。
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標(biāo)簽： 光刻膠 錫片