國(guó)產(chǎn)平替熱紅外顯微鏡

致晟光電推出的多功能顯微系統(tǒng)，創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)熱紅外與微光顯微鏡的集成設(shè)計(jì)，搭配靈活可選的制冷/非制冷模式，可根據(jù)您的實(shí)際需求定制專屬配置方案。這套設(shè)備的優(yōu)勢(shì)在于一體化集成能力：只需一套系統(tǒng)，即可同時(shí)搭載可見光顯微鏡、熱紅外顯微鏡及InGaAs微光顯微鏡三大功能模塊。這種設(shè)計(jì)省去了多設(shè)備切換的繁瑣，更通過硬件協(xié)同優(yōu)化提升了整體性能，讓您在同一平臺(tái)上輕松完成多波段觀測(cè)任務(wù)。相比單獨(dú)購(gòu)置多套設(shè)備，該集成系統(tǒng)能大幅降低采購(gòu)與維護(hù)成本，在保證檢測(cè)精度的同時(shí)，為實(shí)驗(yàn)室節(jié)省空間與預(yù)算，真正實(shí)現(xiàn)性能與性價(jià)比的雙重提升。國(guó)產(chǎn)熱紅外顯微鏡憑借自主研發(fā)軟件，具備時(shí)域重構(gòu)等功能，提升檢測(cè)效率。國(guó)產(chǎn)平替熱紅外顯微鏡

EMMI 技術(shù)基于半導(dǎo)體器件在工作時(shí)因電子 - 空穴復(fù)合產(chǎn)生的光子輻射現(xiàn)象，通過高靈敏度光學(xué)探測(cè)器捕捉微弱光子信號(hào)，能夠以皮安級(jí)電流精度定位漏電、短路等微觀缺陷。這種技術(shù)尤其適用于檢測(cè)芯片內(nèi)部的柵極氧化層缺陷、金屬導(dǎo)線短路等肉眼難以察覺的故障，為工程師提供精確的失效位置與成因分析。

熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI）則聚焦于器件發(fā)熱與功能異常的關(guān)聯(lián)，利用紅外熱成像技術(shù)實(shí)時(shí)呈現(xiàn)半導(dǎo)體器件的熱分布。在高集成度芯片中，局部過熱可能引發(fā)性能下降甚至損壞，熱紅外顯微鏡通過捕捉0.1℃級(jí)別的溫度差異，可快速鎖定因功率損耗、散熱不良或設(shè)計(jì)缺陷導(dǎo)致的熱失效隱患。兩者結(jié)合，實(shí)現(xiàn)了從電學(xué)故障到熱學(xué)異常的全維度失效診斷，極大提升了分析效率與準(zhǔn)確性。 高分辨率熱紅外顯微鏡牌子量化 SiC、GaN 等寬禁帶半導(dǎo)體的襯底熱阻、結(jié)溫分布，優(yōu)化散熱設(shè)計(jì)。

熱紅外顯微鏡與光學(xué)顯微鏡雖同屬微觀觀測(cè)工具，但在原理、功能與應(yīng)用場(chǎng)景上存在明顯差異，尤其在失效分析等專業(yè)領(lǐng)域各有側(cè)重。

從工作原理看，光學(xué)顯微鏡利用可見光（400-760nm 波長(zhǎng)）的反射或透射成像，通過放大樣品的物理形態(tài)（如結(jié)構(gòu)、顏色、紋理）呈現(xiàn)細(xì)節(jié)，其主要是捕捉 “可見形態(tài)特征”；而熱紅外顯微鏡則聚焦 3-10μm 波長(zhǎng)的紅外熱輻射，通過檢測(cè)樣品自身發(fā)射的熱量差異生成熱分布圖，本質(zhì)是捕捉 “不可見的熱信號(hào)”。

在主要功能上，光學(xué)顯微鏡擅長(zhǎng)觀察樣品的表面形貌、結(jié)構(gòu)缺陷（如裂紋、變形），適合材料微觀結(jié)構(gòu)分析、生物樣本觀察等；熱紅外顯微鏡則專注于微觀熱行為解析，能識(shí)別因電路缺陷、材料熱導(dǎo)差異等產(chǎn)生的溫度異常，即使是納米級(jí)的微小熱點(diǎn)（如半導(dǎo)體芯片的漏電區(qū)域）也能精確捕捉，這是光學(xué)顯微鏡無法實(shí)現(xiàn)的。

從適用場(chǎng)景來看，光學(xué)顯微鏡是通用型觀測(cè)工具，廣泛應(yīng)用于基礎(chǔ)科研、教學(xué)等領(lǐng)域；而熱紅外顯微鏡更偏向?qū)I(yè)細(xì)分場(chǎng)景，尤其在半導(dǎo)體失效分析中，可定位短路、虛焊等隱性缺陷引發(fā)的熱異常，在新材料研發(fā)中能分析不同組分的熱傳導(dǎo)特性，為解決 “熱相關(guān)問題” 提供關(guān)鍵依據(jù)。

熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)的突出優(yōu)勢(shì)二：

與傳統(tǒng)接觸式檢測(cè)方法相比，熱紅外顯微鏡的非接觸式檢測(cè)優(yōu)勢(shì)更勝——無需與被測(cè)設(shè)備直接物理接觸，從根本上規(guī)避了傳統(tǒng)檢測(cè)中因探針壓力、靜電放電等因素對(duì)設(shè)備造成的損傷風(fēng)險(xiǎn)，這對(duì)精密電子元件與高精度設(shè)備的檢測(cè)尤為關(guān)鍵。在接觸式檢測(cè)場(chǎng)景中，探針接觸產(chǎn)生的機(jī)械應(yīng)力可能導(dǎo)致芯片焊點(diǎn)形變或線路微損傷，而靜電放電（ESD）更可能直接擊穿敏感半導(dǎo)體器件。

相比之下，熱紅外顯微鏡通過捕捉設(shè)備運(yùn)行時(shí)的熱輻射信號(hào)實(shí)現(xiàn)非侵入式檢測(cè)，不僅能在設(shè)備正常工作狀態(tài)下獲取實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)，更避免了因接觸干擾導(dǎo)致的檢測(cè)誤差，大幅提升了檢測(cè)過程的安全性與結(jié)果可靠性。這種非接觸式技術(shù)突破，為電子設(shè)備的故障診斷與性能評(píng)估提供了更優(yōu)解。 在高低溫循環(huán)（-40℃~125℃）中監(jiān)測(cè)車載功率模塊、傳感器的熱疲勞退化。

熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI) 圖像分析是通過探測(cè)物體自身發(fā)出的紅外輻射，將其轉(zhuǎn)化為可視化圖像，進(jìn)而分析物體表面溫度分布等信息的技術(shù)。其原理是溫度高于零度的物體都會(huì)向外發(fā)射紅外光，熱紅外顯微鏡通過吸收這些紅外光，利用光電轉(zhuǎn)換將其變?yōu)闇囟葓D像。物體內(nèi)電荷擾動(dòng)會(huì)產(chǎn)生遠(yuǎn)場(chǎng)輻射和近場(chǎng)輻射，近場(chǎng)輻射以倏逝波形式存在，強(qiáng)度隨遠(yuǎn)離物體表面急劇衰退，通過掃描探針技術(shù)可散射近場(chǎng)倏逝波，從而獲取物體近場(chǎng)信息，實(shí)現(xiàn)超分辨紅外成像。在半導(dǎo)體制造中，通過逐點(diǎn)熱掃描篩選熱特性不一致的晶圓，提升良率。制造熱紅外顯微鏡內(nèi)容

熱紅外顯微鏡對(duì)電子元件進(jìn)行無損熱檢測(cè)，保障元件完整性 。國(guó)產(chǎn)平替熱紅外顯微鏡

熱紅外顯微鏡和紅外顯微鏡并非同一事物，二者是包含與被包含的關(guān)系。紅外顯微鏡是個(gè)廣義概念，涵蓋利用0.75-1000微米紅外光進(jìn)行分析的設(shè)備，依波長(zhǎng)分近、中、遠(yuǎn)紅外等，通過樣品對(duì)紅外光的吸收、反射等特性分析化學(xué)成分，比如識(shí)別材料中的官能團(tuán)，應(yīng)用于材料科學(xué)、生物學(xué)等領(lǐng)域。而熱紅外顯微鏡是其分支，專注7-14微米的熱紅外波段，無需外部光源，直接探測(cè)樣品自身的熱輻射，依據(jù)黑體輻射定律生成溫度分布圖像，主要用于研究溫度分布與熱特性，像定位電子芯片的熱點(diǎn)、分析復(fù)合材料熱傳導(dǎo)均勻性等。前者側(cè)重成分分析，后者聚焦熱特性研究。國(guó)產(chǎn)平替熱紅外顯微鏡

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