制版光刻膠應(yīng)用場景:印刷電路板(FPC)、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工。特點:高分辨率與耐化學(xué)性,確保模板的長期使用壽命。
水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子)的制造,以及柔性電路的生產(chǎn)。特點:以水為溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標準。
水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,部分需溶劑顯影),提升生產(chǎn)靈活性。
嚴苛光刻膠標準品質(zhì),吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢。陜西納米壓印光刻膠廠家
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,適用于不同領(lǐng)域。
厚板光刻膠 JT - 3006:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標準,保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封,使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工,在對精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場景中發(fā)揮作用,如特定的電路板制造領(lǐng)域。
水油光刻膠 SR - 3303:適用于光學(xué)儀器、太陽能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點,由工廠研發(fā)且支持定制,工廠直銷。
云南光刻膠感光膠半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認證,支持定制化解決方案!
吉田半導(dǎo)體獲評 "專精特新" 企業(yè),行業(yè)技術(shù)標準,以技術(shù)創(chuàng)新與標準化生產(chǎn)為,吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號,樹立行業(yè)。
憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn),吉田半導(dǎo)體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" ",承擔(dān)多項國家 02 專項課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標準,推動國產(chǎn)材料標準化進程。未來,吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景,深化技術(shù)研發(fā)與市場拓展,為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻" 中國力量 "。
作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè),廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將環(huán)保理念融入產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)全流程。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢,持續(xù)推出符合國際環(huán)保標準的半導(dǎo)體材料解決方案。
公司在錫膏、焊片等產(chǎn)品中采用無鹵無鉛配方,嚴格遵循 RoHS 指令要求,避免使用有害物質(zhì)。以錫膏為例,其零鹵素配方通過第三方機構(gòu)認證,不僅減少了電子產(chǎn)品廢棄后的環(huán)境負擔(dān),還提升了焊接可靠性,適用于新能源汽車、精密電子設(shè)備等領(lǐng)域。同時,納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產(chǎn)過程中,公司通過優(yōu)化原料配比,減少揮發(fā)性有機物(VOCs)排放,確保產(chǎn)品符合歐盟 REACH 法規(guī)。
吉田半導(dǎo)體:以技術(shù)革新驅(qū)動光刻膠產(chǎn)業(yè)升級。
不同光刻膠類型的適用場景對比
類型 波長范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導(dǎo)體YK-300系列
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED電極圖案化 國際主流:JSR ARF系列
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進制程、3D NAND堆疊 研發(fā)中(吉田半導(dǎo)體合作攻關(guān))
水性光刻膠 全波長適配 5-50μm 柔性顯示、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導(dǎo)體WT-200系列
總結(jié):多領(lǐng)域滲透的“工業(yè)維生素”
光刻膠的應(yīng)用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè),從半導(dǎo)體芯片的“納米級雕刻”到PCB的“毫米級線路”,再到顯示面板的“色彩精細控制”,其技術(shù)參數(shù)(分辨率、耐蝕刻性、靈敏度)需根據(jù)場景設(shè)計。隨著**新能源(車規(guī)芯片、光伏)、新型顯示(Micro LED)、先進制造(納米壓印)**等領(lǐng)域的發(fā)展,光刻膠的應(yīng)用邊界將持續(xù)擴展,成為支撐制造的關(guān)鍵材料。
納米壓印光刻膠哪家強?吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%!廣西低溫光刻膠報價
PCB光刻膠國產(chǎn)化率超50%。陜西納米壓印光刻膠廠家
吉田半導(dǎo)體 SU-3 負性光刻膠:國產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝
自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。
針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性,已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝,不采用國外材料,成本較進口產(chǎn)品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐。
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