德國工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。靈活性高：由于無需制作實體掩膜版，無掩膜光刻技術(shù)可以快速地更改光刻圖案，方便進行試制和修改。德國工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機械超材料和3D細(xì)胞支架等。北京Nanoscribe灰度光刻設(shè)備灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面?；叶裙饪碳夹g(shù)可以相當(dāng)于二元套刻的多次曝光，提高了光刻效率。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。相比于傳統(tǒng)的二進制光刻技術(shù)，灰度光刻技術(shù)可以更高效地利用光刻膠，降低成本。吉林進口灰度光刻微納光刻

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Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配。對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配。德國工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)