上海德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合?？蛻羰褂肗anoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。上海德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。海南工業(yè)級無掩膜光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術(shù)的運用。

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機械超材料和3D細胞支架等。

Nanoscribe公司成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者，一直致力于推動諸如力學(xué)超材料，微納機器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。如今，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng)。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司。自Nanoscribe進軍中國市場以來，已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶，其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員，例如：北京大學(xué)，復(fù)旦大學(xué)，南京大學(xué)等等。無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術(shù)的便利，很大程度提高了無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率。

多年來，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年，名為Miliquant，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作，還需要開發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。想要了解無掩膜光刻的特點和用途，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。北京2GL無掩膜光刻

Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究。上海德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機競爭，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D，一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin。作為市場上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”，可實現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認(rèn)為該打印機能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機依賴于基于移動鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統(tǒng)控制單元，并結(jié)合了行業(yè)-級脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件，并且對第三方或定制材料開放。此外，它可以通過設(shè)備的集成觸摸屏和遠程訪問軟件nanoConnectX進行控制，允許遠程控制連接打印機的打印作業(yè)，將實驗室的準(zhǔn)備時間減少到限度低值，并在共享系統(tǒng)時簡化團隊協(xié)作。上海德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫