廣東雙光子灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應用解決方案。歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）。廣東雙光子灰度光刻3D微納加工

對準雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。Nanoscribe對準雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標配。北京高精度灰度光刻3D微納加工如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

微透鏡陣列對表面質(zhì)量和形貌要求比較高，因此對制備工藝提出了很嚴格的要求?？蒲腥藛T提出了許多方法來實現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備，比如針對柔性材料的熱壓印成型方法實現(xiàn)了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實現(xiàn)了微透鏡陣列；利用光刻和熱回流方式實現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實現(xiàn)具有較高表面質(zhì)量的微透鏡陣列，但通常需要使用復雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質(zhì)通常為軟質(zhì)材料，材料本身的機械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對而言，透明硬脆材料例如石英、藍寶石等由于其極高的硬度和極強的化學穩(wěn)定性，在光學窗口、光學元件等方面的應用更加廣。因此，如何制備具有高表面質(zhì)量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學元件成為研究人員研究的焦點。

在計算成像領(lǐng)域中有一個重要的分支，即光場成像。而光場成像中的中心光學元件，即為微透鏡陣列。其材質(zhì)為透明玻璃，表面刻有很多微小的透鏡，組成陣列結(jié)構(gòu)，用來成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法，但該方法存在著各種各樣的問題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設(shè)計時需通過掩膜板圖形確定，無法自由調(diào)節(jié)，且成本高，周期長。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求?；叶裙饪踢x擇納糯三維科技（上海）有限公司。

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。灰度光刻技術(shù)作為一種新型的光刻技術(shù)，具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢。湖南Nanoscribe灰度光刻技術(shù)3D打印

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。廣東雙光子灰度光刻3D微納加工

全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學元件。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計自由的同時，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。而且QuantumX提供了完全的設(shè)計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度?？焖佟蚀_的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計迭代周期，實現(xiàn)了低成本的微納加工。廣東雙光子灰度光刻3D微納加工