普陀區(qū)工業(yè)微納3D打印激光直寫

微納3D打印技術(shù)具有多方面的明顯優(yōu)勢，使其在多個領(lǐng)域得到應(yīng)用。以下是一些主要的優(yōu)勢：高精度和復(fù)雜性：微納3D打印系統(tǒng)可以在微米和納米尺度上實現(xiàn)高精度的打印，從而制造出具有復(fù)雜幾何形狀和微觀結(jié)構(gòu)的零件。這使得它在生物醫(yī)學(xué)、電子、光學(xué)和航空航天等領(lǐng)域具有很廣的應(yīng)用前景。定制化設(shè)計：該技術(shù)可以根據(jù)用戶的需求進行定制設(shè)計，從而實現(xiàn)個性化和定制化生產(chǎn)。這為設(shè)計師提供了更大的設(shè)計自由度，使得他們可以更容易地實現(xiàn)創(chuàng)新設(shè)計。材料利用率高：與傳統(tǒng)的加工方法相比，微納3D打印系統(tǒng)的材料利用率更高。因為在打印過程中，只有需要的材料才會被使用，而不需要的材料則會被避免浪費。這有助于降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率?？捎貌牧戏N類多：微納3D打印可用的材料種類豐富，包括有機聚合物、生物材料、金屬、陶瓷、玻璃、復(fù)合材料等，這使得它在不同領(lǐng)域的應(yīng)用更加靈活。方便快捷、效率高：微納3D打印技術(shù)具有方便快捷、效率高的特點，能夠快速制造出所需的產(chǎn)品或部件，滿足快速響應(yīng)市場需求的要求。綜上所述，微納3D打印技術(shù)因其高精度、定制化設(shè)計、高材料利用率、多樣的可用材料以及高效快捷的特點，在多個領(lǐng)域具有明顯的優(yōu)勢和廣闊的應(yīng)用前景。Nanoscribe微納米3D打印全方面涉足中國市場。普陀區(qū)工業(yè)微納3D打印激光直寫

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān)，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。工業(yè)微納3D打印制造價格微納米3D打印系統(tǒng)基于新型的面投影微光刻技術(shù)原理設(shè)計而成，能實現(xiàn)多材料的微納尺度材料三維打印。

Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先，同時也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個新的高度。由于其光學(xué)特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用，例如光電應(yīng)用中，他們可以增加顯示設(shè)備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外，這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng)，內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時間。德國Nanoscribe的光學(xué)微納3D打印可制造各種納米級鏡片。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施微納3D打印的精度能達到細觀、微觀和納觀（即十億分之一米）級別。普陀區(qū)工業(yè)微納3D打印激光直寫

Nanoscribe是微納米生產(chǎn)的和3D打印市場的帶領(lǐng)人物。普陀區(qū)工業(yè)微納3D打印激光直寫

生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域：微納3D打印技術(shù)在此領(lǐng)域的應(yīng)用尤為突出，可以用于制造生物材料、醫(yī)療器械、藥物載體、細胞和組織培養(yǎng)等。這種技術(shù)的使用有助于提高醫(yī)療診斷水平，為個性化醫(yī)療和精細醫(yī)療提供了新的可能性。航空航天領(lǐng)域：微納3D打印技術(shù)能夠制造航空航天領(lǐng)域的精密零件和復(fù)雜結(jié)構(gòu)，如渦輪發(fā)動機的葉片、燃料噴射器等。這些復(fù)雜而精細的部件有助于提高航空器的性能和穩(wěn)定性，對推動航空航天技術(shù)的發(fā)展具有重要意義。電子科技領(lǐng)域：該技術(shù)也廣泛應(yīng)用于電子科技領(lǐng)域，可以制造電子元件、電路板、太陽能電池等。這種技術(shù)的使用有助于提高電子產(chǎn)品的性能和降低成本，推動電子科技的快速發(fā)展。光學(xué)領(lǐng)域：在光學(xué)領(lǐng)域，微納3D打印技術(shù)可用于制造光學(xué)元件、光學(xué)器件和光電子器件等，有助于提高光學(xué)設(shè)備的性能和降低成本。建筑領(lǐng)域：該技術(shù)也被用于建筑領(lǐng)域，制造建筑模型、建筑構(gòu)件等，有助于提高建筑的設(shè)計和建造效率。娛樂領(lǐng)域：此外，微納3D打印技術(shù)還在娛樂領(lǐng)域找到了應(yīng)用，如制造玩具、游戲道具等，為娛樂行業(yè)提供了新的創(chuàng)意和產(chǎn)品。隨著技術(shù)的不斷進步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓寬，微納3D打印技術(shù)的應(yīng)用前景將更加廣闊。同時，我們也期待看到更多創(chuàng)新性的應(yīng)用案例。普陀區(qū)工業(yè)微納3D打印激光直寫