德國(guó)納米雙光子聚合無(wú)掩光刻

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維帶您一起探討國(guó)內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。德國(guó)納米雙光子聚合無(wú)掩光刻

Nanoscribe稱(chēng)，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶(hù)的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開(kāi)始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。例如，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行，以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制。Nanoscribe稱(chēng)，QuantumX在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡(jiǎn)單和復(fù)雜的光學(xué)形狀，具有可變的特征高度湖北納米雙光子聚合3D打印Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)。

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)，發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來(lái)打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見(jiàn)光的龍勃透鏡（15μm直徑）。相似于人類(lèi)眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨(dú)特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě)，而是在孔型支架內(nèi)。

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花，請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿(mǎn)足客戶(hù)的需求。Nanoscribe將在未來(lái)在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿(mǎn)足不用客戶(hù)群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過(guò)2,500多名用戶(hù)在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。雙光子聚合技術(shù)（2PP）是一種“納米光學(xué)”3D打印方法。內(nèi)蒙古雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討國(guó)內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。德國(guó)納米雙光子聚合無(wú)掩光刻

雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域也有著廣泛的應(yīng)用前景。通過(guò)控制激光束的強(qiáng)度和聚焦點(diǎn)的位置，我們可以在生物材料中實(shí)現(xiàn)微創(chuàng)傷害，實(shí)現(xiàn)精確的細(xì)胞操作。這為組織工程等領(lǐng)域的研究提供了新的工具和方法，有望推動(dòng)醫(yī)學(xué)科學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展。雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)的發(fā)展離不開(kāi)科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過(guò)不斷優(yōu)化激光系統(tǒng)、改進(jìn)材料性能，使得這項(xiàng)技術(shù)在實(shí)際應(yīng)用中更加穩(wěn)定和可靠。同時(shí)，企業(yè)的支持也為雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)的發(fā)展提供了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。展望未來(lái)，雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)將繼續(xù)推動(dòng)科技的發(fā)展。我們有理由相信，隨著技術(shù)的不斷成熟和應(yīng)用的不斷拓展，雙光子聚合激光直寫(xiě)技術(shù)將在更多領(lǐng)域展現(xiàn)出其無(wú)限的潛力，為人類(lèi)創(chuàng)造更美好的未來(lái)。德國(guó)納米雙光子聚合無(wú)掩光刻