顯微微光顯微鏡成像儀

芯片制造工藝復雜精密，從設(shè)計到量產(chǎn)的每一個環(huán)節(jié)都可能潛藏缺陷，而失效分析作為測試流程的重要一環(huán)，是攔截不合格產(chǎn)品、追溯問題根源的 “守門人”。微光顯微鏡憑借其高靈敏度的光子探測技術(shù)，能夠捕捉到芯片內(nèi)部因漏電、熱失控等故障產(chǎn)生的微弱發(fā)光信號，定位微米級甚至納米級的缺陷。這種檢測能力，能幫助企業(yè)快速鎖定問題所在 —— 無論是設(shè)計環(huán)節(jié)的邏輯漏洞，還是制造過程中的材料雜質(zhì)、工藝偏差，都能被及時發(fā)現(xiàn)。這意味著企業(yè)可以針對性地優(yōu)化生產(chǎn)工藝、改進設(shè)計方案，從而提升芯片良率。在當前芯片制造成本居高不下的背景下，良率的提升直接轉(zhuǎn)化為生產(chǎn)成本的降低，讓企業(yè)在價格競爭中占據(jù)更有利的位置。微光顯微鏡的快速預熱功能，可縮短設(shè)備啟動至正常工作的時間，提高檢測效率。顯微微光顯微鏡成像儀

在故障分析領(lǐng)域，微光顯微鏡（EmissionMicroscope,EMMI）是一種極具實用價值且效率出眾的分析工具。其功能是探測集成電路（IC）內(nèi)部釋放的光子。在IC元件中，電子-空穴對（ElectronHolePairs,EHP）的復合過程會伴隨光子（Photon）的釋放。具體可舉例說明：當P-N結(jié)施加偏壓時，N區(qū)的電子會向P區(qū)擴散，同時P區(qū)的空穴也會向N區(qū)擴散，隨后這些擴散的載流子會與對應區(qū)域的載流子（即擴散至P區(qū)的電子與P區(qū)的空穴、擴散至N區(qū)的空穴與N區(qū)的電子）發(fā)生EHP復合，并在此過程中釋放光子。非制冷微光顯微鏡哪家好電路驗證中出現(xiàn)閂鎖效應及漏電，微光顯微鏡可定位位置，為電路設(shè)計優(yōu)化提供依據(jù)，保障系統(tǒng)穩(wěn)定運行。

可探測到亮點的情況

一、由缺陷導致的亮點結(jié)漏電（Junction Leakage）接觸毛刺（Contact Spiking）熱電子效應（Hot Electrons）閂鎖效應（Latch-Up）氧化層漏電（Gate Oxide Defects / Leakage (F-N Current)）多晶硅晶須（Poly-silicon Filaments）襯底損傷（Substrate Damage）物理損傷（Mechanical Damage）等。

二、器件本身固有的亮點飽和 / 有源狀態(tài)的雙極晶體管（Saturated/Active Bipolar Transistors）飽和狀態(tài)的 MOS 管 / 動態(tài) CMOS（Saturated MOS/Dynamic CMOS）正向偏置二極管 / 反向偏置二極管（擊穿狀態(tài)）（Forward Biased Diodes / Reverse Biased Diodes (Breakdown)）等。

致晟光電始終以客戶需求為重心，兼顧貨源保障方面。目前，我們有現(xiàn)貨儲備，設(shè)備及相關(guān)配件一應俱全，能夠快速響應不同行業(yè)、不同規(guī)?？蛻舻牟少徯枨?。無論是緊急補購的小型訂單，還是批量采購的大型項目，都能憑借充足的貨源實現(xiàn)高效交付，讓您無需為設(shè)備短缺而擔憂，確保生產(chǎn)計劃或項目推進不受影響。

為了讓客戶對設(shè)備品質(zhì)有更直觀的了解，我們大力支持現(xiàn)場驗貨。您可以親臨我們的倉庫或展示區(qū)，近距離觀察設(shè)備的外觀細節(jié)，親身操作查驗設(shè)備的運行性能、精度等關(guān)鍵指標。每一臺設(shè)備都經(jīng)過嚴格的出廠檢測，我們敢于將品質(zhì)擺在您眼前，讓您在采購前就能對設(shè)備的實際狀況了然于胸，消除后顧之憂。 氧化層漏電及多晶硅晶須引發(fā)電流異常時，會產(chǎn)生光子，使微光顯微鏡下出現(xiàn)亮點。

半導體材料分為直接帶隙半導體和間接帶隙半導體，而Si是典型的直接帶隙半導體，其禁帶寬度為1.12eV。所以當電子與空穴復合時，電子會彈射出一個光子，該光子的能量為1.12eV，根據(jù)波粒二象性原理，該光子的波長為1100nm，屬于紅外光區(qū)。通俗的講就是當載流子進行復合的時候就會產(chǎn)生1100nm的紅外光。這也就是產(chǎn)生亮點的原因之一：載流子復合。所以正偏二極管的PN結(jié)處能看到亮點。如果MOS管產(chǎn)生latch-up現(xiàn)象，（體寄生三極管導通）也會觀察到在襯底處產(chǎn)生熒光亮點。為提升微光顯微鏡探測力，我司多種光學物鏡可選，用戶可依樣品工藝與結(jié)構(gòu)選裝，滿足不同微光探測需求。低溫熱微光顯微鏡規(guī)格尺寸

熱電子與晶格相互作用及閂鎖效應發(fā)生時也會產(chǎn)生光子，在顯微鏡下呈現(xiàn)亮點。顯微微光顯微鏡成像儀

致晟光電 RTTLIT E20 微光顯微分析系統(tǒng)（EMMI）是一款專為半導體器件漏電缺陷檢測量身打造的高精度檢測設(shè)備。該系統(tǒng)搭載先進的 - 80℃制冷型 InGaAs 探測器與高分辨率顯微物鏡，憑借超高檢測靈敏度，可捕捉器件在微弱漏電流信號下產(chǎn)生的極微弱微光。通過超高靈敏度成像技術(shù)，設(shè)備能快速定位漏電缺陷并開展深度分析，為工程師優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提升產(chǎn)品可靠性提供關(guān)鍵支持，進而為半導體器件的質(zhì)量控制與失效分析環(huán)節(jié)提供安全可靠的解決方案。顯微微光顯微鏡成像儀