不同材料對(duì)三氯化鐵蝕刻液濃度的要求詳解氯化鐵蝕刻液用作凈水劑、蝕刻劑、媒染劑、銀銅礦浸出劑、玻璃器皿熱著色劑、氯苯二氯乙烷有機(jī)合成催化劑等。也可用作鐵鹽原料，如磷酸鐵、鉻鐵礦等。此外，它還可以提高混凝土強(qiáng)度、耐腐蝕性和防水滲透性。1、鋁材料，三氯化鐵蝕刻液濃度...

產(chǎn)品的開發(fā)周期：針對(duì)金屬蝕刻加工工藝的新產(chǎn)品開發(fā)可以更靈活，費(fèi)用低。設(shè)計(jì)人員在新品開發(fā)時(shí)，可以提前和我們溝通，這樣可以經(jīng)過雙方的討論，來規(guī)避一些設(shè)計(jì)上的缺陷。比如：設(shè)計(jì)的材料厚度，設(shè)計(jì)的加工管控精度，可以蝕刻的**小孔，**小的縫隙等。金屬蝕刻加工可實(shí)現(xiàn)的一些...

圣天邁蝕刻液適用于印制版銅、鋁、銅網(wǎng)格、觸摸屏、觸摸膜、ITO等的蝕刻工藝，蝕刻速度快，線型整齊美觀，無臟污殘留，蝕刻速度達(dá)4~10um/min。換槽周期長，藥液維護(hù)簡單，廢液回收簡單。本劑也可用于銅工藝品等的蝕刻。蝕刻后的板面平整而光亮。銅蝕刻液的反應(yīng)速度快...

電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的ito膜，以便后續(xù)給電子器件可控通電。該ito膜通常通過化學(xué)蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中，所用蝕刻液主要包括硫酸系、王水系和草酸系ito蝕刻液。但由于不同晶型的ito材料的特性略有區(qū)別，只有...

制備鈦碳化鋁的蝕刻液中鹽酸的濃度是多少鋁蝕刻液配方:4濃鹽酸20-50%水20-80%蝕刻溫度:40-50度5磷酸80-85%蝕刻溫度:40-60度6氫氧化鈉10-20%水80-90度1、蝕刻液，是一種銅版畫雕刻用原料。2、通過侵蝕材料的特性來進(jìn)行雕刻的一種液...

蝕刻液氯化銅的溶解度迅速降低，添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是：在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應(yīng)時(shí)，生成的Cu2Cl2不易溶于水，則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜，這種膜能夠阻止反應(yīng)的進(jìn)一步進(jìn)行。過量的Cl-能與Cu2Cl2絡(luò)合形成可溶性的絡(luò)離子(CuCl3)2...

求金屬蝕刻液配方？金屬蝕刻液配方分析--本中心提供***、一體化的產(chǎn)品配方技術(shù)研發(fā)服務(wù)。通過賦能各領(lǐng)域生產(chǎn)型企業(yè)，致力于推動(dòng)新材料研發(fā)升級(jí)，為產(chǎn)品性能帶來突破性提升。不銹鋼蝕刻液配方包括三氯化鐵、鹽酸、硝酸和己內(nèi)酰胺；該方法為將不銹鋼基材與蝕刻液接觸進(jìn)行蝕刻，...

產(chǎn)品應(yīng)用編輯播報(bào)蝕刻機(jī)主要應(yīng)用于航空、機(jī)械、標(biāo)牌工業(yè)中，蝕刻機(jī)技術(shù)地被使用于減輕重量(WeightReduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工。在半導(dǎo)體和線路版制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。也可對(duì)各種金屬如：鐵、銅、鋁、鈦金、不銹...

IC封裝藥液是將一定分量的各組分鹽酸（30~80g）、六亞甲基四胺（1~10g）、十二烷基苯磺酸鈉（1~10g）、十二烷基硫酸鈉（0~2g）、尿素、（三乙醇胺）、氯化鈉、6501、TX-10少量，再配加由十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基磺酸鈉、檸檬酸、鹽酸配制的活化...

隨著芯片尺寸加大，工藝線寬減小，從9Onm工藝開始，以往IC清潔劑在清洗過程中使用的超聲波清洗遇到一些問題，如造成半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)損傷，在65nm及以下工藝，其損傷程度可能會(huì)加劇。芯片中的深溝槽結(jié)構(gòu)清洗時(shí)清洗液和漂洗去離子水很難進(jìn)入結(jié)構(gòu)內(nèi)部，難以達(dá)到清洗目的。高...

IC清潔劑由于連續(xù)處理過程中濃度不斷變化，要定期測(cè)定PH值，確定IC-502清洗劑含量濃度，保持在規(guī)定的濃度范圍內(nèi)，及時(shí)補(bǔ)充添加，以確保清洗效果。注意事項(xiàng)：工件油污清洗干凈后用清水沖洗，水洗后的工件再做后續(xù)處理。工件如需防銹，油污清洗干凈后直接烘干，不需要水洗...

IC封裝藥液顆粒主要是一些聚合物、光致抗蝕劑和蝕刻雜質(zhì)等。通常顆粒粘附在硅表面，影響下一工序幾何特征的形成及電特性。根據(jù)顆粒與表面的粘附情況分析，其粘附力雖然表現(xiàn)出多樣化，但主要是范德瓦爾斯吸引力，所以對(duì)顆粒的去除方法主要以物理或化學(xué)的方法對(duì)顆粒進(jìn)行底切，逐漸...

硅晶圓經(jīng)過SC-1和SC-2溶液清洗后，由于雙氧水的強(qiáng)氧化力，在晶圓表面上會(huì)生成一層化學(xué)氧化層。為了確保閘極氧化層的品質(zhì)，此表面氧化層必須在晶圓清洗過后加以去除。另外，在IC制程中采用化學(xué)汽相沉積法(CVD)沉積的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相應(yīng)的清洗過程中...

隨著芯片尺寸加大，工藝線寬減小，從9Onm工藝開始，以往IC清潔劑在清洗過程中使用的超聲波清洗遇到一些問題，如造成半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)損傷，在65nm及以下工藝，其損傷程度可能會(huì)加劇。芯片中的深溝槽結(jié)構(gòu)清洗時(shí)清洗液和漂洗去離子水很難進(jìn)入結(jié)構(gòu)內(nèi)部，難以達(dá)到清洗目的。高...

在我們會(huì)用到IC除銹劑，那么大家是否了解使用IC除銹劑時(shí)需要注意什么?下面為大家詳細(xì)介紹：為了更好的除銹效果，如果，被處理的工件表面腐蝕嚴(yán)重，首先要用鋼刷或其他機(jī)械方法去除腐蝕嚴(yán)重的部分，然后用IC除銹劑處理。處理中的材料表面如果有油層，則需要用除油劑去除油污...

STM-C190變色防止劑，STM-C190可直接取代磷酸三鈉中和處理制程。配比濃度(5%-10%)，消耗很低。在錫表面沉積一層有機(jī)薄膜，可改善鍍層因儲(chǔ)存或熱處理（烘烤、Reflow）造成的外觀變色狀況。STM-C160除銹活化劑，單劑操作，配比濃度20-40...

使用IC除銹劑時(shí)應(yīng)注意些什么？IC除銹劑的儲(chǔ)存，請(qǐng)放在陰涼處，并置于兒童接觸不到的地方。表面處理后會(huì)伴隨一層鈍化膜，厚度約為1微米，是一種由無機(jī)酸制成的產(chǎn)品與鋼鐵IC除銹劑的反應(yīng)，可起到鋼的保護(hù)作用。IC除銹劑使用一段時(shí)間后應(yīng)浮在泡沫表面并及時(shí)沉淀，并進(jìn)行濃度...

除銹后的工件自然晾干或晾干。需要油漆的工件應(yīng)在干燥后使用磷化液涂上表面，然后上油漆。IC除銹劑也有保護(hù)作用，因此為了獲得較佳效果，可以根據(jù)工作條件選擇系列(油溶、水溶、硬膜、脫水)好的IC除銹劑。使用一段時(shí)間后，要及時(shí)清理表面的泡沫和沉淀物，進(jìn)行濃度測(cè)試分析，...

IC封裝藥液適當(dāng)使用，可有效的減少生產(chǎn)中的不良品。使用時(shí)將脫膠劑倒入容器中，然后在脫膠劑中加一厘米厚水封面用于防火防揮發(fā)。將需去除膠層的零件完全浸泡于脫膠劑中，因膠層厚薄不同，約數(shù)分鐘或幾十分鐘不等，膠層和粘接灌封膠料會(huì)自動(dòng)全部脫除。脫除后用水沖洗干凈即可。脫...

在執(zhí)行晶圓的前、后段工藝過程時(shí)，晶圓需要經(jīng)過無數(shù)次的IC清潔劑清洗步驟，其次數(shù)取決于晶圓的設(shè)計(jì)和互連的層數(shù)。此外，由于清洗工藝過程要?jiǎng)冸x晶圓表面的光刻膠，同時(shí)還必須去除復(fù)雜的腐蝕殘余物質(zhì)，金屬顆粒以及其他污染物等，所以清洗過程是及其復(fù)雜的過程。清洗介質(zhì)的選擇從...

IC封裝藥液是將一定分量的各組分鹽酸（30~80g）、六亞甲基四胺（1~10g）、十二烷基苯磺酸鈉（1~10g）、十二烷基硫酸鈉（0~2g）、尿素、（三乙醇胺）、氯化鈉、6501、TX-10少量，再配加由十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基磺酸鈉、檸檬酸、鹽酸配制的活化...

IC清潔劑水清洗技術(shù)是今后清洗技術(shù)的發(fā)展方向，須設(shè)置純凈水源和排放水處理車間。IC清潔劑以水作為清洗介質(zhì)，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑。可以除去水溶劑和非極性污染物。其清洗工藝特點(diǎn)是：安全性好，不燃燒、不炸裂，基本無...

現(xiàn)代清洗技術(shù)中的關(guān)鍵要求：IC清潔劑在未來90~65nm節(jié)點(diǎn)技術(shù)工藝中，除了要考慮清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技術(shù)指標(biāo)外，也要考慮對(duì)環(huán)境的污染以及清洗的效率其經(jīng)濟(jì)效益等。硅片清洗技術(shù)評(píng)價(jià)的主要指標(biāo)可以歸納為：微粗糙度（RMS)；自然氧化物去除...

IC封裝藥液適當(dāng)使用，可有效的減少生產(chǎn)中的不良品。使用時(shí)將脫膠劑倒入容器中，然后在脫膠劑中加一厘米厚水封面用于防火防揮發(fā)。將需去除膠層的零件完全浸泡于脫膠劑中，因膠層厚薄不同，約數(shù)分鐘或幾十分鐘不等，膠層和粘接灌封膠料會(huì)自動(dòng)全部脫除。脫除后用水沖洗干凈即可。脫...

現(xiàn)代清洗技術(shù)中的關(guān)鍵要求：IC清潔劑在未來90~65nm節(jié)點(diǎn)技術(shù)工藝中，除了要考慮清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技術(shù)指標(biāo)外，也要考慮對(duì)環(huán)境的污染以及清洗的效率其經(jīng)濟(jì)效益等。硅片清洗技術(shù)評(píng)價(jià)的主要指標(biāo)可以歸納為：微粗糙度（RMS)；自然氧化物去除...

IC除銹劑中鹽酸可以清洗表面，提高酸洗效果，增快酸洗速度。該IC除銹劑在循環(huán)使用時(shí)，為進(jìn)一步提高除銹速度、消除氣味，可加入檸檬酸、鹽酸配成的活化劑。檸檬酸可中和鐵離子。鹽酸可增加酸的能量。制備方法：先將有機(jī)酸、糊精、鉬酸鈉、磷酸和水放入混合罐內(nèi)室溫下勻速攪拌3...

IC封裝藥液在酸性、中性、堿性條件下均能溶解透明，且長期穩(wěn)定。與磷酸酯類物質(zhì)相比，本劑具有好于磷酸酯類物質(zhì)”三倍以上的防腐蝕效果。“磷酸酯類物質(zhì)”含磷，易生菌，容易產(chǎn)生大量泡沫。而本劑不含磷、不易生菌、無泡。對(duì)黑色金屬和其它有色金屬都有輔助的防腐蝕作用；無毒、...

IC清潔劑水清洗技術(shù)是今后清洗技術(shù)的發(fā)展方向，須設(shè)置純凈水源和排放水處理車間。IC清潔劑以水作為清洗介質(zhì)，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑?？梢猿ニ軇┖头菢O性污染物。其清洗工藝特點(diǎn)是：安全性好，不燃燒、不炸裂，基本無...

IC封裝藥液起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用，防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸，從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達(dá)到防腐蝕的作用。防變色劑一般分為兩種：一種為有機(jī)封閉劑，一種為油性封閉劑。有機(jī)封閉劑：閃點(diǎn)高（110度），可水溶性，不易燃燒，使用安全，環(huán)保，無鉻，無排放；...

IC封裝藥液適當(dāng)使用，可有效的減少生產(chǎn)中的不良品。使用時(shí)將脫膠劑倒入容器中，然后在脫膠劑中加一厘米厚水封面用于防火防揮發(fā)。將需去除膠層的零件完全浸泡于脫膠劑中，因膠層厚薄不同，約數(shù)分鐘或幾十分鐘不等，膠層和粘接灌封膠料會(huì)自動(dòng)全部脫除。脫除后用水沖洗干凈即可。脫...