主營產(chǎn)品: 微納加工技術(shù)服務(wù)|真空鍍膜技術(shù)服務(wù)|紫外光刻技術(shù)服務(wù)|材料刻蝕技術(shù)服務(wù)
主營產(chǎn)品: 微納加工技術(shù)服務(wù)|真空鍍膜技術(shù)服務(wù)|紫外光刻技術(shù)服務(wù)|材料刻蝕技術(shù)服務(wù)
主營產(chǎn)品: 微納加工技術(shù)服務(wù)|真空鍍膜技術(shù)服務(wù)|紫外光刻技術(shù)服務(wù)|材料刻蝕技術(shù)服務(wù)
材料刻蝕技術(shù)作為高科技產(chǎn)業(yè)中的關(guān)鍵技術(shù)之一,對(duì)于推動(dòng)科技進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級(jí)具有重要意義。在半導(dǎo)體制造、微納加工、光學(xué)元件制備等領(lǐng)域,材料刻蝕技術(shù)...
光刻過程對(duì)環(huán)境條件非常敏感。溫度波動(dòng)、濕度變化、電磁干擾等因素都可能影響光刻設(shè)備的精度和穩(wěn)定性。因此,在進(jìn)行光刻之前,必須對(duì)工作環(huán)境進(jìn)行嚴(yán)格...
曝光是光刻過程中的重要步驟之一。曝光條件的控制將直接影響光刻圖形的精度和一致性。在曝光過程中,需要控制的因素包括曝光時(shí)間、光線強(qiáng)度、光斑形狀...
光刻過程對(duì)環(huán)境條件非常敏感。溫度波動(dòng)、電磁干擾等因素都可能影響光刻圖案的分辨率。因此,在進(jìn)行光刻之前,必須對(duì)工作環(huán)境進(jìn)行嚴(yán)格的控制。首先,需...
廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所微納加工平臺(tái),面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊(duì)伍。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供技術(shù)支持。