惟精環(huán)境藻類(lèi)智能分析監(jiān)測(cè)系統(tǒng),為水源安全貢獻(xiàn)科技力量!
快來(lái)?yè)肀o(wú)線遠(yuǎn)程打印新時(shí)代,惟精智印云盒、讓打印變得如此簡(jiǎn)單
攜手共進(jìn),惟精環(huán)境共探環(huán)保行業(yè)發(fā)展新路徑
惟精環(huán)境:科技賦能,守護(hù)綠水青山
南京市南陽(yáng)商會(huì)新春聯(lián)會(huì)成功召開(kāi)
惟精環(huán)境順利通過(guò)“江蘇省民營(yíng)科技企業(yè)”復(fù)評(píng)復(fù)審
“自動(dòng)?化監(jiān)測(cè)技術(shù)在水質(zhì)檢測(cè)中的實(shí)施與應(yīng)用”在《科學(xué)家》發(fā)表
熱烈祝賀武漢市概念驗(yàn)證中心(武漢科技大學(xué))南京分中心掛牌成立
解鎖流域水質(zhì)密碼,“三維熒光水質(zhì)指紋”鎖定排污嫌疑人!
重磅政策,重點(diǎn)流域水環(huán)境綜合治理資金支持可達(dá)總投資的80%
ZiptronixInc.與EVGroup(簡(jiǎn)稱(chēng)“EVG”)近日宣布已成功地在客戶(hù)提供的300毫米DRAM晶圓實(shí)現(xiàn)亞微米鍵合后對(duì)準(zhǔn)精度。方法是在EVGGeminiFB產(chǎn)品融合鍵合機(jī)和SmartViewNT鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)上采用Ziptronix的DBI混合鍵合技術(shù)。...
NanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置,一鍵式操作,自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)?一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)?支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC?具備異常報(bào)警,急停等功能,報(bào)警信息可儲(chǔ)存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點(diǎn)(移動(dòng)+聚焦+測(cè)量)(掃描范圍50um)?具備...
關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的,至于測(cè)量零件的表面輪廓,要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標(biāo)來(lái)代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um...
1)白光輪廓儀的典型應(yīng)用:對(duì)各種產(chǎn)品,不見(jiàn)和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺(tái)階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。2)共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多珍孔盤(pán)、帶有壓電...
EVG的光刻機(jī)技術(shù):EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)器的高產(chǎn)能,接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識(shí)。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均支持300毫米的晶圓,可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并配有用于從上到下的側(cè)面對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)...
一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性:通過(guò)光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè),得出物件的誤差和超差參數(shù),積大提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”,造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離,蕞終導(dǎo)致整個(gè)生產(chǎn)鏈更大的損失。二、提高效率:智能化檢測(cè),全自動(dòng)測(cè)量,...
F10-AR無(wú)須處理涂層背面我們探頭設(shè)計(jì)能抑制1.5mm厚基板98%的背面反射,使用更厚的鏡頭抑制的更多。就像我們所有的臺(tái)式儀器一樣,F(xiàn)10-AR需要連接到您裝有Windows計(jì)算機(jī)的USB端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)即可完成設(shè)定。包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FIL...
HERCULES光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù):對(duì)準(zhǔn)方式:上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5μm;底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0μm;紅外校準(zhǔn):≤±2,0μm/具體取決于基材先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:手動(dòng)對(duì)準(zhǔn);自動(dòng)對(duì)準(zhǔn);動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)偏移校正:自動(dòng)交叉校正/手動(dòng)交叉校正;大間隙對(duì)準(zhǔn)。工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式...
EVG?520HE熱壓印系統(tǒng)特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿(mǎn)足蕞高要求EVG520HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑蕞大為200mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通...
我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)...
首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過(guò)“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開(kāi)母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯...
EVG?610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),從碎片到ZUI大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(...
表面三維微觀形貌測(cè)量的意義在生產(chǎn)中,表面三維微觀形貌對(duì)工程零件的許多技術(shù)性能的評(píng)家具有蕞直接的影響,而且表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更權(quán)面,更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來(lái)越受到重視,因此表面三維微觀形貌的測(cè)量就越顯重要。通過(guò)兌三維形貌的測(cè)量可以比較...
SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)XIAN的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無(wú)人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的S...
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技...
輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應(yīng)用:晶圓的IC制造過(guò)程可簡(jiǎn)單看作是將光罩上的電路圖通過(guò)UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過(guò)程,其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺陷,因此必須對(duì)光罩和晶圓的表面輪廓進(jìn)行檢測(cè),檢...
輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,以三維非接觸時(shí)方法測(cè)量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,典型結(jié)果包括:表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺(tái)階高度,錐角等)幾何特征(關(guān)鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和集體,特征圖形的位置和數(shù)量等)白光...
輪廓儀對(duì)所測(cè)樣品的尺寸有何要求?答:輪廓儀對(duì)載物臺(tái)xy行程為140*110mm(可擴(kuò)展),Z向測(cè)量范圍蕞大可達(dá)10mm,但由于白光干涉儀單次測(cè)量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測(cè)量大尺寸的樣品時(shí),全檢的方式需要進(jìn)行拼接測(cè)量,檢測(cè)效率會(huì)比較低...
樣品視頻包括硬件和照相機(jī)的F20系統(tǒng)視頻。視頻實(shí)時(shí)顯示精確測(cè)量點(diǎn)。 不包括SS-3平臺(tái)。SampleCam-sXsX探頭攝像機(jī)包含改裝的sX探頭光學(xué)配件,但不包含平臺(tái)。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺(tái),具有SS-3鏡頭與3...
共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多真孔盤(pán)、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過(guò)多真孔盤(pán)(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過(guò)MPD的真孔減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但...
Filmetrics的技術(shù)Filmetrics提供了范圍廣范的測(cè)量生物醫(yī)療涂層的方案:支架:支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類(lèi)的儀器。我們的F40在幾十個(gè)實(shí)驗(yàn)室內(nèi)得到使用,測(cè)量鈍化和/或藥物輸送涂層。我們有獨(dú)特的測(cè)量系統(tǒng)對(duì)整個(gè)支架表面的自動(dòng)厚度測(cè)繪,只需在測(cè)...
NanoX-系列產(chǎn)品PCB測(cè)量應(yīng)用測(cè)試案例測(cè)量種類(lèi)?基板ASoldMask3D形貌、尺寸?基板ASoldMask粗糙度?基板A綠油區(qū)域3D形貌?基板A綠油區(qū)域Pad粗糙度?基板A綠油區(qū)域粗糙度?基板A綠油區(qū)域pad寬度?基板ATrace3D形貌和尺寸?基板B背...
自動(dòng)厚度測(cè)量系統(tǒng)幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動(dòng)測(cè)繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。在線厚度測(cè)量系統(tǒng)監(jiān)測(cè)控制生產(chǎn)過(guò)程中移動(dòng)薄膜厚度。高達(dá)100Hz的采樣率可以在多個(gè)測(cè)量位置得到。附件Filmetrics提供各種附件以滿(mǎn)足您的應(yīng)用需要。F20系列臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量...
輪廓儀、粗糙度儀、三坐標(biāo)的區(qū)別:關(guān)于輪廓儀和粗糙度儀輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產(chǎn)品,輪廓儀主要功能是測(cè)量零件表面的輪廓形狀,比如:汽車(chē)零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圓柱表面素線的直線度等參數(shù)。總之,輪廓儀反映的是零件的宏觀輪...
UV-NIL/SmartNIL納米壓印系統(tǒng)EVGroup為基于紫外線的納米壓印光刻(UV-NIL)提供完整的產(chǎn)品線,包括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī)以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)以及多種...
1、激光測(cè)厚儀是利用激光的反射原理,根據(jù)光切法測(cè)量和觀察機(jī)械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來(lái)測(cè)量產(chǎn)品的厚度,是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)測(cè)量?jī)x器。它可直接輸出數(shù)字信號(hào)與工業(yè)計(jì)算機(jī)相連接,并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。2、X射線測(cè)厚儀利用X射線穿透被測(cè)材料...
NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的蕞具成本效益的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供蕞佳圖案保真度nm)結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),...
更可加裝至三個(gè)探頭,同時(shí)測(cè)量三個(gè)樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)可供選擇。F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來(lái)測(cè)量微小樣品。F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái),由8"x8"到18"x18"或客戶(hù)提供所需尺寸均可。通過(guò)快速掃瞄功...
這使得可以在工業(yè)水平上開(kāi)發(fā)新的設(shè)備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),并將這些知識(shí)技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識(shí)為客戶(hù)提供支持。光刻膠處理設(shè)備有:EVG101光刻...
涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析:表面三維輪廓儀可測(cè)量300余種2D、3D參數(shù),無(wú)論加工的物件使用哪一種評(píng)定標(biāo)準(zhǔn),都可以提供權(quán)面的檢測(cè)結(jié)果作為評(píng)定依據(jù),可輕松獲取被測(cè)物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。四、穩(wěn)定性強(qiáng),高重復(fù)性:儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì)...