又如何能在量產(chǎn)中徹底免于短路?然而重賞之下必有勇夫,當(dāng)年的日商"古河電工"即開發(fā)出一種十分奇特的Supersolder制程(詳見電路板咨訊雜志74期)。其做法是對(duì)著80個(gè)密墊的單邊,在鋼板(Stencil)上只開出一道簡單的鴻溝,再將上述"超級(jí)錫膏"不分銅墊或間距一律予以印滿。巧妙的是在隨后的高溫熔錫過程中,其熔錫層只長在狹長的銅墊上,間距中則全無錫層,甚至殘錫或錫珠錫渣也從不見蹤跡。于是在此精細(xì)預(yù)署焊料之秘密武器下,只要小心將P-I的320只引腳全數(shù)對(duì)準(zhǔn)踩定后,即可像操作熨斗一般利用熱把(HotBar)進(jìn)行壓焊、當(dāng)年高雄的華泰電子即曾大量組裝此種搭載CPU的小型精密卡板。好景不常,此種高難度TAB用之于CPU的做法,不到三年就遭到淘汰。客觀情勢(shì)逼得Intel不得不放棄自己一向主張的TAB,而改采Motorola的BGA進(jìn)行高價(jià)位高難度CPU之封裝。于是球腳組裝PentiumII的SECC卡乃于99年正式登臺(tái),導(dǎo)致超級(jí)錫膏的精采演出立即失色,昂貴的“火蜥蜴”生產(chǎn)線幾乎成了廢鐵。技術(shù)轉(zhuǎn)變所造成業(yè)者的投資損失,不但無奈也無法預(yù)知。然而,任誰也沒想到幾年后的***,手機(jī)板上微小BGA球墊中的一階或二階盲孔,竟可以利用早已過時(shí)的“超級(jí)焊錫”事先予以熔焊填平。電鍍產(chǎn)品,就選浙江共感電鍍有限公司,讓您滿意,歡迎新老客戶來電!重慶表面電鍍鍍金
出孔大致對(duì)準(zhǔn)***陽極,這些排液孔的孔徑大小從外管相對(duì)***陽極的設(shè)置,朝向外管相對(duì)第二陽極的設(shè)置漸增;或出孔大致對(duì)準(zhǔn)第二陽極,這些排液孔的孔徑大小從外管相對(duì)第二陽極的設(shè)置,朝向外管相對(duì)***陽極的設(shè)置漸增。在一些實(shí)施方式中,下槽體包含一隔擋件,隔擋件將下槽體分隔為***下槽區(qū)與第二下槽區(qū),***下槽區(qū)設(shè)于***排水孔下方,第二下槽區(qū)設(shè)于第二排水孔下方。在一些實(shí)施方式中,液體輸送組件包含***泵與第二泵,其中***泵設(shè)于***排水孔的下方,第二泵設(shè)于第二排水孔的下方;以及管體更包含第三管部,其中***管部與***泵相連接,第三管部與第二泵相連接。本發(fā)明內(nèi)容另提供了一種電鍍的方法,包含(1)提供如前所述的電鍍裝置;(2)提供待鍍物,具有多通孔貫穿待鍍物;(3)將電鍍液注入上槽體及下槽體;(4)將待鍍物電性連接陰極,其中待鍍物將上槽體區(qū)隔為***槽及第二槽,其中***排水孔設(shè)于***槽,第二排水孔設(shè)于第二槽;(5)提供電設(shè)至陰極、***陽極及第二陽極以進(jìn)行電鍍制程,并開啟***排水孔,使設(shè)于上槽體的一部分的電鍍液從第二槽流向***槽,再從***槽經(jīng)***排水孔流至下槽體;以及(6)在執(zhí)行電鍍制程期間,關(guān)閉***排水孔并開啟第二排水孔。廣東金屬電鍍連續(xù)鍍銀浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產(chǎn)品,歡迎新老客戶來電!
**近許多對(duì)PCB鍍銅的研究,發(fā)現(xiàn)氯離子還可協(xié)助有機(jī)助劑(尤其是載運(yùn)劑)發(fā)揮其各種功能。且氯離子濃度對(duì)于鍍銅層的展性(Ductility)與抗拉強(qiáng)度(TensileStrength)也有明顯的影響力。電鍍銅槽液的管理槽液中的主成分每周可執(zhí)行2-3次之化學(xué)分析,并采取必要的添補(bǔ)作業(yè)以維持Cu++、SO4-、與CL-應(yīng)有的管制范圍。至于有機(jī)添加劑的分析,早先一向以經(jīng)驗(yàn)導(dǎo)向的HullCell試鍍片,作為管理與追查的工具。此種不夠科學(xué)的做法,80年代時(shí)即已逐漸被CVS法(CyclicVoltametricStripping循環(huán)電壓剝鍍分析法)所取代?,F(xiàn)役之CVS自動(dòng)分析儀器中,不但硬件十分精密,且更具備了由多項(xiàng)試驗(yàn)項(xiàng)模擬的結(jié)果而變得更為科學(xué),此等預(yù)先設(shè)置的精確軟件程序,對(duì)于上述三種有機(jī)助劑與氯離子,均可進(jìn)行精確的分析與紀(jì)錄,使得酸性鍍銅的管理也將更上軌道。電化學(xué)的基礎(chǔ)理論頗多,但用之于實(shí)際鍍銅現(xiàn)場(chǎng)時(shí),則似乎又關(guān)系不夠而有使不上力的感覺。一些常見的電化學(xué)書籍,多半只涉及實(shí)驗(yàn)室的理論與說明,極少對(duì)實(shí)際電鍍所發(fā)生的現(xiàn)象加以闡述。以下即為筆者根據(jù)多年閱讀與實(shí)務(wù)所得之少許心得,*就某些電鍍行為斗膽加以詮釋,不周之處尚盼高明指正。電鍍銅可逆反應(yīng)。
ReversibleReaction)假設(shè)將一支銅棒放入酸性藍(lán)色的**銅溶液中,理論上固與液兩相之間并非***靜止之狀態(tài)。其微觀介面上,將會(huì)出現(xiàn)銅溶解與銅離子沉積兩種反應(yīng)同時(shí)進(jìn)行。金屬銅的溶解(例如CuCu+++Ze-)在電化學(xué)上稱為游離或解離,是一種失去電子的廣義氧化作用。銅離子的鍍出(例如Cu+++2e-Cu0)則是一種接受電子的沉積反應(yīng),是一種還原作用。因?yàn)槭怯羞M(jìn)有出有來有往,故學(xué)理上稱之為可逆反應(yīng)(ReversibleReaction),但其間對(duì)外的凈電流(NetCurrent)卻保持在零的狀態(tài)。若從動(dòng)力學(xué)的觀點(diǎn),此種電極可逆反應(yīng)進(jìn)行所需的吉布森自由能(Gibbsfreeenergy)(G1與上G2)可從下示意圖中得知。電鍍銅電極電位(ElectrodePotential)因?yàn)閱我浑姌O的電極反應(yīng),無法求出其電位倒底是多少,故必須找出一種公定的參考標(biāo)準(zhǔn),做彼此較量比對(duì)的依據(jù),才能比較出各種金屬電極在某一溶液中的電極電位。電化學(xué)領(lǐng)域是以“標(biāo)準(zhǔn)氫電極”(StandardHydrogenElectrode;SHE)做為參考。也就將下圖中白金極(Pt)所發(fā)出的H2與氫離子之間的反應(yīng),當(dāng)成人為的零電位:但先決條件是必須要將反應(yīng)狀況設(shè)定在氫氣壓為一個(gè)大氣壓(1atm),氫離子活性(Activity)為1,反應(yīng)溫度為25℃之狀態(tài)。電鍍產(chǎn)品,就選浙江共感電鍍有限公司。
涂覆蠟制劑時(shí),零件應(yīng)預(yù)熱到50~70℃,再涂覆熔化了的蠟制劑,先涂一薄層,覆蓋整個(gè)需絕緣的表面,這時(shí)蠟不應(yīng)中途凝固,然后再反復(fù)涂至所需厚度。涂覆后在尚未冷卻到室溫之前的溫?zé)釥顟B(tài)下,用小刀對(duì)絕緣端邊進(jìn)行修整,再用棉球沾汽油反復(fù)擦拭欲鍍表面,該操作要十分仔細(xì)。鍍后可在熱水或**蠟桶內(nèi)將蠟制劑熔化回收,然后用汽油等溶劑或水溶性清洗劑對(duì)零件進(jìn)行清洗。電鍍涂料絕緣法電鍍時(shí)經(jīng)常使用漆類絕緣涂料進(jìn)行絕緣保護(hù)。這種絕緣保護(hù)方法操作簡便,可適用于復(fù)雜零件。常用的絕緣涂料有過氯乙烯防腐清漆、聚氯乙烯絕緣涂料、硝基膠等。電鍍發(fā)展階段編輯(1)直流發(fā)電機(jī)階段這種電源耗能大、效率低、噪聲大.已經(jīng)被淘汰。(2)硅整流階段是直流發(fā)電機(jī)的換代產(chǎn)品,技術(shù)十分成熟,但效率低,體積大,控制不方便。仍有許多企業(yè)使用這種電鍍電源。(3)可控硅整流階段是替代硅整流電源的主流電源,具有效率高、體積小、調(diào)控方便等特點(diǎn)。隨著**器件——可控硅技術(shù)的成熟與發(fā)展.該電源技術(shù)日趨成熟,已獲得***應(yīng)用。(4)晶體管開關(guān)電源即脈沖電源階段脈沖電鍍電源是當(dāng)今**為**的電鍍電源,它的出現(xiàn)是電鍍電源的一次**。浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產(chǎn)品,有需求可以來電咨詢!廣東表面電鍍鍍銅錫
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然而此種做法在下游印刷錫膏與后續(xù)熔焊(Reflow)球腳時(shí),眾多墊內(nèi)微盲孔中免不了會(huì)吸引若干錫膏的不當(dāng)流入。此而負(fù)面效應(yīng);一則會(huì)因錫量流失而造成焊點(diǎn)(SolderJoint)強(qiáng)度的不足,二則可能會(huì)引發(fā)盲孔內(nèi)錫膏助焊劑的氣化而吹漲出討厭的空洞(Voids),兩者均使得焊點(diǎn)可靠度為之隱憂不已。而且設(shè)計(jì)者為了追求高頻傳輸?shù)钠焚|(zhì)起見,01年以前“1+4+1”增層一次的做法,又已逐漸改變?yōu)楝F(xiàn)行“2+2+2”增層二次更新的面貌。此種“增二式”的**新規(guī)矩,使得內(nèi)層之傳統(tǒng)雙面板(core),只扮演了Vcc/Gnd等人銅面的參考角色而已;所有傳輸資料的訊號(hào)線(SignalLine),幾乎都已全數(shù)布局在后續(xù)無玻纖(DK較低,訊號(hào)品質(zhì)較好)的各次增層中。如此一來外層中某些必須接地或按電源的二階盲孔,甚至還會(huì)坐落在已填塞埋通孔之頂環(huán)或底環(huán)上。此等高難度的制程場(chǎng)已在BGA球墊之中多量出現(xiàn)。不幸是此種二階盲孔在凹陷與孔徑變大的情形下,其鍍銅之空虛不足自必更甚于一階者,使得原已棘手的小型焊點(diǎn)問題,變得更為嚴(yán)重凄慘。于是手機(jī)板的客戶們不得不一再要求電鍍銅能夠?qū)γた椎谋M量填平,以維持整體功能于不墜。截至目前為止?,F(xiàn)役酸性鍍銅的本事只能說填多少算多少。重慶表面電鍍鍍金