IQ Aligner®：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用
■用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用
■三個(gè)**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償
■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能
紫外線壓印_紫外線固化
印章
防紫外線基材
附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記
用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。
μ-接觸印刷
軟印章
基板上的材料
領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章
IQ Aligner UV-NIL是自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)，是用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。陜西納米壓印微流控應(yīng)用
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動(dòng)化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了**
新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
安徽納米壓印技術(shù)支持EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。
SmartNIL技術(shù)簡(jiǎn)介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。
EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。
EVG ® 520 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用
自動(dòng)化壓花工藝
EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印
氣動(dòng)壓花選項(xiàng)
軟件控制的流程執(zhí)行
EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)
加熱器尺寸：150毫米，200毫米
比較大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米
比較大接觸力：10、20、60、100 kN
比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C
粘合卡盤系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar SmartNIL 非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。山西納米壓印有哪些應(yīng)用
分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。陜西納米壓印微流控應(yīng)用
HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）
■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)
■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作
■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
陜西納米壓印微流控應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)等，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn)，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí)，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。