日本輪廓儀值得買

來源: 發(fā)布時間:2021-07-24

表面三維輪廓儀對精密加工的作用:

一、從根源保障物件成品的準確性:

通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測,得出物件的誤差和超差參數(shù),**提高物件在生產(chǎn)加工時的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”,造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離,**終導(dǎo)致整個生產(chǎn)鏈更大的損失。

二、提高效率:

  智能化檢測,全自動測量,檢測時只需將物件放置在載物臺,然后在檢定軟件上選擇相關(guān)參數(shù),即可一鍵分析批量測量。擯棄傳統(tǒng)檢測方法耗時耗力,精確度低的缺點,**提高加工效率。

三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析:

  表面三維輪廓儀可測量300余種2D、3D參數(shù),無論加工的物件使用哪一種評定標準,都可以提供***的檢測結(jié)果作為評定依據(jù),可輕松獲取被測物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。

四、穩(wěn)定性強,高重復(fù)性:

  儀器運用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計,不受外部環(huán)境影響測量的準確性。超精密的Z向掃描模塊和測量軟件完美結(jié)合,保證高重復(fù)性,將測量誤差降低到亞納米級別。 表面三維評定參數(shù)由于能更***,更真實的反應(yīng)零件表面的特征。日本輪廓儀值得買

輪廓儀產(chǎn)品概述:  

NanoX-2000/3000

系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光

垂直掃描干涉測量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級測量準確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測件的表面粗

糙度、表面輪廓、臺階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。


想要了解更多的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器。 山東晶圓片輪廓儀自動聚焦范圍 : ± 0.3mm。

表面三維微觀形貌測量的意義

 在生產(chǎn)中,表面三維微觀形貌對工程零件的許多技術(shù)性能的評家具有**直接的影響,而且表面三維評定參數(shù)由于能更***,更真實的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來越受到重視,因此表面三維微觀形貌的測量就越顯重要。通過兌三維形貌的測量可以比較***的評定表面質(zhì)量的優(yōu)劣,進而確認加工方法的好壞以及設(shè)計要求的合理性,這樣就可以反過來通過知道加工,優(yōu)化加工工藝以及加工出高質(zhì)量的表面,確保零件使用功能的實現(xiàn)。

 表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富,通??煞譃榻佑|時和非接觸時兩種,其中以非接觸式測量方法為主。


NanoX-8000 3D輪廓測量主要技術(shù)參數(shù)

3D測量主要技術(shù)指標(1):

測量模式: PSI + VSI + CSI

Z軸測量范圍: 大行程PZT 掃描 (300um 標配/500um選配)

10mm 精密電機拓展掃描

CCD相機: 1920x1200 高速相機(標配)

干涉物鏡: 2.5X, 5X, 10X(標配), 20X, 50X, 100X(NIKON )

物鏡切換: 5孔電動鼻切換 FOV: 1100x700um(10X物鏡), 220x140um(50X物鏡)

Z軸聚焦: 高精密直線平臺自動聚焦

照明系統(tǒng): 高 效長壽白光LED + 濾色鏡片電動切換(綠色/藍色)

傾斜調(diào)節(jié): ±5°電動調(diào)節(jié)

橫向分辨率: ≥0.35μm(與所配物鏡有關(guān))

3D測量主要技術(shù)指標(2):

垂直掃描速度: PSI : <10s,VSI/CSI:< 38um/s

高度測量范圍: 0.1nm – 10mm

表面反射率: > 0.5%

測量精度: PSI: 垂直分辨率 < 0.1nm

準確度 < 1nm

RMS重復(fù)性 < 0.01nm (1σ)

臺階高重復(fù)性:0.15nm(1σ)

VSI/CSI:垂直分辨率 < 0.5nm

準確度<1%

重復(fù)性<0.1% (1σ,10um臺階高) 輪廓儀可用于藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)。

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求?

答:輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm(可擴展),Z向測量范圍比較大可達10mm,但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進行拼接測量,檢測效率會比較低,建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區(qū)域進行抽點檢測,以單點或多點反映整個面的粗糙度參數(shù);

4.測量的**小尺寸是否可以達到12mm,或者能夠測到更小的尺寸?


如果需要了解更多,請訪問官網(wǎng)。 由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。Nano X-3000輪廓儀價格怎么樣

白光干涉系統(tǒng)基于無限遠顯微鏡系統(tǒng),通過干涉物鏡產(chǎn)生干涉條紋,使基本的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x.日本輪廓儀值得買

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本,復(fù)雜度,和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強度,使得橢偏儀對超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(yīng)(絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱)。因為不涉及任何移動設(shè)備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優(yōu)先,而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術(shù)都可用。而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。日本輪廓儀值得買

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