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該實(shí)施例中所含成分及各成分稱(chēng)取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分別為總質(zhì)量的%、%。實(shí)施例2本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱(chēng)取濃度為85%的磷酸,然后稱(chēng)取添加劑加入磷酸中,該實(shí)施例中所含成分及各成分稱(chēng)取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為三乙二醇乙醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉,添加量分別為總質(zhì)量的%、%。實(shí)施例3本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱(chēng)取濃度為85%的磷酸,然后稱(chēng)取添加劑加入磷酸中,該實(shí)施例中所含成分及各成分稱(chēng)取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為三甘醇單丁醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉,添加量分別為總質(zhì)量的%、%。實(shí)施例4本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱(chēng)取濃度為85%的磷酸,然后稱(chēng)取添加劑加入磷酸中,該實(shí)施例中所含成分及各成分稱(chēng)取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為二乙二醇單甲醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分別為總質(zhì)量的%、%。實(shí)施例5本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱(chēng)取濃度為85%的磷酸,然后稱(chēng)取添加劑加入磷酸中,該實(shí)施例中所含成分及各成分稱(chēng)取的質(zhì)量顯示于表1。BOE蝕刻液,助您打造精美絕倫的蝕刻作品。安徽BOE蝕刻液供應(yīng)商
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本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,通過(guò)在磷酸中添加醇醚類(lèi)和表面活性劑,來(lái)改善磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力,使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù):氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料,氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中,一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來(lái)蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展,器件的特征尺寸越來(lái)越小,集成度越來(lái)越高,對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來(lái)越高,如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí),晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測(cè)量時(shí),檢測(cè)點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問(wèn)題,通過(guò)在磷酸中添加醇醚類(lèi)和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸、%的醇醚類(lèi)、%的表面活性劑。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液。
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