高世代面板)表面上,或透入其表面,而把固體物料潤(rùn)濕,剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。因此,本申請(qǐng)中的高世代面板銅制程光刻膠剝離液由酰胺、醇醚、環(huán)胺與鏈胺、緩蝕劑、潤(rùn)濕劑組成。其中,酰胺可以為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種,酰胺是用于溶解光刻膠;n-甲基甲酰胺下面簡(jiǎn)稱(chēng)″nmf″醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種,醇醚是用于潤(rùn)濕、膨潤(rùn)、溶解光刻膠的;二乙二醇丁醚下面簡(jiǎn)稱(chēng)″bdg″。環(huán)胺與鏈胺,用于滲透、斷開(kāi)光刻膠分子間弱結(jié)合力;鏈胺:分子量的大小決定瞬間溶解力,分子量過(guò)大瞬間溶解力小,光刻膠未被完全溶解;分子量過(guò)小,對(duì)金屬的腐蝕性增強(qiáng),影響產(chǎn)品質(zhì)量。分子量一般在50g/mol-200g/mol,鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一種或多種;環(huán)胺:溶解光刻膠中環(huán)狀結(jié)構(gòu)的樹(shù)脂,包括氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種;上述鏈胺與環(huán)胺的比例在4∶1-1∶4之間。緩蝕劑,用于降低對(duì)金屬的腐蝕速度,緩蝕劑為三唑類(lèi)物質(zhì),具體為苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一種。潤(rùn)濕劑。維信諾用的哪家的剝離液?合肥格林達(dá)剝離液什么價(jià)格
可選擇的,旋涂光刻膠厚度范圍為1000?!?0000埃。s3,執(zhí)行離子注入:可選擇的,離子注入劑量范圍為1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕,對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離;如背景技術(shù)中所述,經(jīng)過(guò)高劑量或大分子量的源種注入后,會(huì)在光刻膠的外層形成一層硬殼即為主要光刻膠層,主要光刻膠層包裹在第二光刻膠層外。使氮?dú)浠旌蠚怏w與光刻膠反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體,反應(yīng)速率平穩(wěn),等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w與主要光刻膠層、第二光刻膠層的反應(yīng)速率相等。等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w先剝離去除主要光刻膠層,參考圖8所示。再逐步剝離去除第二光刻膠層,參考圖9和圖10所示。可選的,等離子刻蝕氣體是氮?dú)浠旌蠚怏w,氫氮混合比例范圍為4:96~30:70。s5,對(duì)襯底表面進(jìn)行清洗??蛇x擇的,對(duì)硅片執(zhí)行單片排序清洗。單片清洗時(shí),清洗液噴淋到硅片正面,單片清洗工藝結(jié)束后殘液被回收,下一面硅片清洗時(shí)再重新噴淋清洗液,清洗工藝結(jié)束后殘液再被回收,如此重復(fù)?,F(xiàn)有的多片硅片同時(shí)放置在一個(gè)清洗槽里清洗的批處理清洗工藝,在清洗過(guò)程中同批次不同硅片的反應(yīng)殘余物可能會(huì)污染其他硅片,或者上一批次硅片留在清洗槽的反應(yīng)殘余物可能會(huì)污染下一批次硅片。相比而言。合肥格林達(dá)剝離液什么價(jià)格剝離液的組成成分是什么;
需要說(shuō)明的是,本發(fā)明剝離液中,推薦*由上述成分構(gòu)成,但只要不阻礙本發(fā)明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說(shuō)明的本發(fā)明剝離液可以通過(guò)將上述成分溶于水中來(lái)制備。需要說(shuō)明的是,本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒(méi)有特別限定,但通常**將上述成分溶于水就成為堿性,因此沒(méi)有特別必要調(diào)整ph。另外,本發(fā)明剝離液可以通過(guò)將上述成分分別分開(kāi)預(yù)先溶于水,成為抗蝕劑的剝離液套件,將它們混合來(lái)制備。具體來(lái)說(shuō),可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進(jìn)而在其中使上述其它成分適當(dāng)含有于各液中的抗蝕劑的剝離液套件等。通過(guò)使用本發(fā)明剝離液對(duì)施加有抗蝕劑的基材進(jìn)行處理,抗蝕劑被細(xì)小地粉碎。
本技術(shù)通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)上述目的:一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置,包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu),所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架,所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī),所述伺服變頻電機(jī)上方設(shè)置有所述電機(jī)減速箱,所述電機(jī)減速箱上方安裝有印刷品傳送帶,所述印刷品傳送帶一側(cè)安裝有所述印刷品放置箱,所述印刷品放置箱一側(cè)安裝有所述表面印刷結(jié)構(gòu),所述表面印刷結(jié)構(gòu)上方設(shè)置有油墨放置箱,所述油墨放置箱下方安裝有油墨加壓器,所述油墨加壓器下方安裝有高壓噴頭,所述高壓噴頭一側(cè)安裝有防濺射擋板。剝離液的正確使用方式;
本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域:,更具體的說(shuō)是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)::電子行業(yè)飛速發(fā)展,光刻膠應(yīng)用也越來(lái)越。在半導(dǎo)體元器件制造過(guò)程中,經(jīng)過(guò)涂敷-顯影-蝕刻過(guò)程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線(xiàn)條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材,才能再進(jìn)行下道工序。因此,光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。但是傳統(tǒng)光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻,但對(duì)于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),傳統(tǒng)剝離液親水性不夠,水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:本申請(qǐng)公開(kāi)了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,包括以下質(zhì)量組分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;環(huán)胺與鏈胺:3-7%;緩蝕劑:%%;潤(rùn)濕劑:%%。的技術(shù)方案中,所述的酰胺為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中,所述的醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中。哪家的剝離液比較好用點(diǎn)?浙江市面上哪家剝離液什么價(jià)格
剝離液是一種用去去除光刻膠的化學(xué)品。合肥格林達(dá)剝離液什么價(jià)格
但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問(wèn)題:剝離廢液利用水洗裝置水洗過(guò)濾出光刻膠樹(shù)脂成分,回收率低。為了解決這一問(wèn)題,現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應(yīng),而后沉淀過(guò)濾出光刻膠樹(shù)脂成分,但所得到的光刻膠樹(shù)脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料,只能用于其他要求較低的樹(shù)脂需求場(chǎng)所。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的是為了提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置更為合理、使用方便可靠的光刻膠廢剝離液回收裝置,從根本上解決現(xiàn)有回收裝置回收率低的問(wèn)題,同時(shí)分級(jí)回收輸出線(xiàn)性酚醛樹(shù)脂成分,分級(jí)儲(chǔ)存,以用于不同場(chǎng)合,物盡其用。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種光刻膠廢剝離液回收裝置,包括攪拌釜和與攪拌釜連通的過(guò)濾罐,攪拌釜頂部設(shè)有廢剝離液投料口,其技術(shù)要點(diǎn)是:所述過(guò)濾罐的數(shù)量為兩個(gè),由一級(jí)過(guò)濾罐和二級(jí)過(guò)濾罐組成,所述一級(jí)過(guò)濾罐和二級(jí)過(guò)濾罐在垂直方向上位于攪拌釜下方,一級(jí)過(guò)濾罐和二級(jí)過(guò)濾罐的進(jìn)料管路分別與攪拌釜底部連通,且進(jìn)料管路上分別設(shè)有電磁閥,所述一級(jí)過(guò)濾罐的底部出液口連接有提升泵,所述提升泵的出料管路末端與攪拌釜頂部的循環(huán)料口連通,所述攪拌釜頂部另設(shè)有功能切換口。合肥格林達(dá)剝離液什么價(jià)格