廈門高低溫高壓試驗箱

下面為大家介紹一下高溫鐘罩爐的各項系統(tǒng)。一、氣氛系統(tǒng)。1.爐膛氣氛：2路空氣，流量計量程為7～70L/min，每路流量可調節(jié)；2.排氣系統(tǒng)：在爐膛頂部設置一個排氣囪，用于廢氣排放。二、傳動系統(tǒng)1.傳動方式：升降式2.傳動類型：電動推桿傳動3.容積：20L三、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結構：無2.產品降溫：隨爐降溫四、安全保護1.升、降、停按鈕：載料臺的升、降、?？刂?.報警指示：超溫、斷偶、過載、超程、偏差等聲光報警3.設備安全升溫速率≤5℃/min五、溫度控制系統(tǒng)1.溫度測量:采用B分度熱偶測量2.控制方式：高性能移相調壓+SCR晶閘管模塊控制2.1當測量溫度超過設定的安全值時，斷加熱，并報警2.2當測量溫度超過目標溫度達到限制偏差值時，報警3.控制儀表：采用進口智能調節(jié)儀控制。具有PID參數(shù)自整定、高溫上限報警、熱電偶失效指示等多項報警保護功能購買試驗箱，敬請聯(lián)系合肥真萍科技。廈門高低溫高壓試驗箱

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產品的高溫燒結、熱處理。下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置：

一、冷卻系統(tǒng)

1.冷卻結構無

2.產品降溫隨爐降溫

3.安全保護

4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護

5.設備安全升溫速率≤5℃/min

二、溫度控制系統(tǒng)

1.溫度測量采用K分度熱偶測量

2.控制儀表采用進口智能調節(jié)儀控制。具有PID參數(shù)自整定、高溫上限報警、熱電偶失效指示等多項報警保護功能

4.控制方式固態(tài)繼電器過零控制

5.超溫處理⑴.當測量溫度超過設定的安全值時，斷加熱，并報警。⑵.當測量溫度超過目標溫度達到安全偏差值時，報警。 北京銷售試驗箱試驗箱的運用領域有哪些呢？

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的箱體結構。1.本設備由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進設備制作、先進的工藝制造流程、線條流暢，美觀大方。3.工作室材質為不銹鋼SUS304材質，外箱材質為冷軋鋼板，產品外殼采用環(huán)保金屬漆噴制，整體設計美觀大方，適合實驗室的顏色搭配。4.工作室內擱架可隨用戶的要求任意調節(jié)高度以及擱架的數(shù)量。5.工作室與外箱之間的保溫材料為超細玻璃纖維保溫棉，保溫層厚度：＞70mm,隔溫效果好，國內，高性能的絕緣結構。從里到外有內腔、內殼、超細玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內膽熱量損失少。內膽外箱及門膽結構獨特，極大減少了內腔熱量的外傳。

真萍科技作為冷熱沖擊試驗箱設備制造廠商，在冷熱沖擊試驗箱設備制造領域的專業(yè)性是不用多說的。下面讓真萍科技從溫度方面，帶您了解冷熱沖擊試驗箱。一、溫度均勻度舊標準稱均勻度，新標準稱梯度。溫度穩(wěn)定后，在任意時間間隔內，工作空間內任意兩點的溫度平均值之差的較大值。這個指標比下面的溫度偏差指標更可以考核產品的**技術，因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項。一般標準要求指標為≤2℃。二、溫度偏差溫度穩(wěn)定后，在任意時間間隔內，工作空間中心溫度的平均值和工作空間內其它點的溫度平均值之差。雖然新舊標準對此指標的定義和稱呼相同，但檢測已有所改變，新標準更實際，更苛刻一點，但考核時間短點。一般標準要求指標為±2℃，純高溫試驗箱200℃以上可按實際使用溫度攝氏度(℃)±2%要求。試驗箱怎樣使用？合肥真萍告訴您。

真空烘箱是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕，使工作室內形成真空狀態(tài)，降低水的沸點，加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點。1.長方體工作室，使有效容積達到相當大，微電腦溫度控制器，精確控溫。2.鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體，一目了然。3.箱體閉合松緊能調節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內高真空度4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產品經久耐用。試驗箱哪家好，推薦合肥真萍科技。攀枝花高低溫試驗箱

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。廈門高低溫高壓試驗箱

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