天心區(qū)品質提供施工設備服務執(zhí)行標準

    噴涂、射流、洗滌、攪拌、粘合和剝離等操作，所有選些都可能產生靜電，在一般情況下，越是電導率小的非導體（絕緣體），由于電荷產生后不易流動，因此表現(xiàn)為越容易帶電。靜電問題所以在潔凈室中特別嚴重，是因為不但在潔凈室中具備前述產生靜電的多種工藝因素，而且因為潔凈室中的許多材料如塑料地面、墻面，尼龍、的確良等工作服都有很高的電阻率，都極易產生靜電和集聚靜電，在潔凈室的靜電災害未被重視以前，這些材料料是被***采用的。凈化工程作用編輯語音控制產品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度及溫濕度，使產品能在一個良好之環(huán)境空間中生產、制造。此空間的設計施工過程即可稱為凈化工程。凈化工程分類編輯語音亂流式(TurbulentFlow)亂流式空氣由空調箱經風管與潔凈室內之空氣過濾器(HEPA)進入潔凈室，并由潔凈室兩側隔間墻板或高架地板回風。氣流非直線型運動而呈不規(guī)則之亂流或渦流狀態(tài)。此型式適用于潔凈室等級1,000-100,000級。優(yōu)點：構造簡單、系統(tǒng)建造成本低，潔凈室的擴充比較容易，在某些特殊用途場所，可并用無塵工作臺，提高潔凈室等級。缺點：亂流造成的微塵粒子于室內空間飄浮不易排出，易污染制程產品。另外若系統(tǒng)停止運轉再***，欲達需求之潔凈度。對要求潔凈室的懸浮粒子濃度或微生物濃度更低的場合，就使用單向氣流。天心區(qū)品質提供施工設備服務執(zhí)行標準

    已是半導體、精密制造、液晶制造、光學制造、線路板制造和生物化學、醫(yī)藥、食品制造等行業(yè)不可或缺的重要設施。近幾年來，由于技術之創(chuàng)新發(fā)展，對于產品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發(fā)展上極為重視的項目，而我公司的設計理念及施工技術在行業(yè)中則處于**地位。光學微電子凈化工程一般包括：1、潔凈生產區(qū)2、潔凈輔助間（包括人員凈化用房、物料凈化用室和部分生活用室等）3、管理區(qū)（包括辦公、值班、管理和休息）4、設備區(qū)（包括凈化空調系統(tǒng)應用、電氣用房、高純水和高純氣用房、冷熱設備用房）材料1.凈化廠房墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板制造，其特點為美觀、剛性強。圓弧墻角、門、窗框等一般采用**氧化鋁型材制造。2.地面可采用環(huán)氧自流坪地坪或高級耐磨塑料地板，有防靜電要求的，可選用防靜電型。3.送回風管道用熱渡鋅板制成，貼凈化保溫效果好的阻燃型PF發(fā)泡塑膠板。4.高效送風口用不銹鋼框架，美觀清潔，沖孔網(wǎng)板用烤漆鋁板，不生銹不粘塵，宜清潔。光學微電子凈化工程解決方案:凈化工程的設計過程中，應加強對光學微電子行業(yè)凈化工程設計方案分析了解。開福區(qū)工程提供施工設備服務維修在水平流系統(tǒng)中，氣流是從一面墻流向另一面墻。

    如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以***。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產**佳濕度范圍為35—45%。氣壓規(guī)定對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則：1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。潔凈室中的氣流速度規(guī)定這里要討論的氣流速度是指潔凈室內的氣流速度，在其他潔凈空間中的氣流速度在討論具體設備時再說明。對于亂流潔凈室由于主主要靠空氣的稀釋作用來減輕室內污染的程度，所以主要用換氣次數(shù)這一概念，而不直接用速度的概念，不過對室內氣流速度也有如下要求；(1)送風口出口氣流速度不宜太大。

    3．對綜合通訊的干擾這主要分為：清楚或滿意，稍困難，困難，不可能對以上三方面指標都用A聲級來評價。在50年代曾提出用一條頻譜曲線作為評價標準即各頻帶中心頻率的聲壓級不得超過該曲線。后來了解到刷A等級來計量噪聲與噪聲的語音干擾和煩惱程度更為臺適，可以代替倍頻帶聲壓級作為評價標準的指標。向有很高的要求。這里有必要先說明一下無窗潔凈室的照明方式：(1)一般照明它指不考慮特殊的局部需要，為照亮整個被照面積而設置的照明。(2)局部照明這是指為增加某一指定地點（如工作點）的照度而設置的照明。但在室內照明由一般不單獨使用局部照明。(3)混合照明這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設計規(guī)范》應占總照度的10%—15%，但不低干150LX。單位被照面積上接受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。國外潔凈室的強度要求極高，例如美國關于潔凈室的幾個標準的要求是．人工光300lx有較好的效果，當工件精細程度更高時，500x也是允許的。對于要紅燈照明的地方，如電子行業(yè)的光刻車間，其照度一般為(25—501x)，用天然光時可允許更高的照度，因而對工作是有利的。因此這種情況下不僅有流層之間因紊流流動而發(fā)生的摻混。

    由于風速較低，空氣稀釋程度較小，從而使得污染濃度較高。因此，必須將風速保持在（60英尺/分鐘至100英尺/分鐘）的范圍里，以便使中斷的單向流能快速恢復，充分稀釋障礙物周圍紊流區(qū)的污染。用風速可以正確地表示出單向流，因為風速越高室內就越潔凈。而每小時換氣次數(shù)與房間的體積有關，如吊頂?shù)母叩?，因此不適合用來表示單向流。單向流室內的送風量是紊流室的很多倍（10到100倍）。凈化工程控制編輯語音潔凈室中的溫濕度控制潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了，所以必須有±，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露。凈化工程單向流潔凈室單向流潔凈室一般有兩種類型，即水平流和垂直流。開福區(qū)工程提供施工設備服務維修

使產品能在一個良好的環(huán)境空間中生產、制造。此環(huán)境空間的設計施工過程即可稱為凈化工程。天心區(qū)品質提供施工設備服務執(zhí)行標準

    所以今后潔凈室的照明既采用人工光也采用天然光可能是有前途的，這也是為了節(jié)能而出現(xiàn)的一種動向。防靜電潔凈室中由于靜電引起的的事故屢有發(fā)生，因此潔凈室的防靜電能力如何已成為評價其質量的一個不可忽視的方面。所謂靜電，是由于摩擦等原因破壞了物體中正(+)負<一）電荷等量的均勻的電中性狀態(tài)，而使電荷過剩，物體呈帶電狀態(tài)，由于這些電荷平時是不流動的，故稱靜電。在潔凈室內靜電導致的事故有以下幾方面；1．靜電電引起的靜電電擊，引起人的不安全和恐懼感，并可造成二次傷害(例如人因受電擊而摔倒，由摔倒又致傷)；2．靜電放電引起的放電電流，可導致諸如半導體元件等破壞和誤動作，例如將50塊P-MOS電路放在塑料袋內，搖晃數(shù)次后，與非門柵極嚴重擊穿者計39塊，失效率競達78%，這是因為半導體器件對靜電放電十分靈敏；3．靜電放電產生的電磁波可導致電子儀器和裝置的雜音和誤動作；4．靜電放電的發(fā)光可導致照相肢片等感光破壞；5．靜電的力學現(xiàn)象可導致篩孔被粉塵堵塞，紡紗線紛亂，印刷品深淺不均和制品污染；靜電事故的產生主要在于靜電的產生和積累，而氣流的流動，氣流和管道、風口、過濾器等摩擦，人體和衣服的摩擦，衣服之間的摩擦，工藝上的研磨。天心區(qū)品質提供施工設備服務執(zhí)行標準

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