上海中心加壓金相磨拋機(jī)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-07-17

   金相研磨機(jī)磨盤(pán)直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選!大直徑的研磨盤(pán)會(huì)增加試樣在給定時(shí)間內(nèi)的運(yùn)動(dòng)距離。例如,轉(zhuǎn)速一樣時(shí),試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤(pán)上的運(yùn)動(dòng)距離,分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤(pán)上運(yùn)動(dòng)距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤(pán)時(shí),建議將時(shí)間減少為8英寸(200mm)研磨盤(pán)的80%或67%。大直徑的研磨機(jī)的試樣制備時(shí)間短,但耗材消耗稍多,所以大直徑的研磨機(jī)更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。陶瓷材料特別硬和脆,可能含有孔洞,必須用金剛石切割片切割。如果試樣需要熱腐蝕,那么試樣必須用樹(shù)脂鑲嵌,但環(huán)氧樹(shù)脂真空填充孔洞可以不被執(zhí)行。由于陶瓷自身的特點(diǎn),所以不需要考慮變形和掛灰的問(wèn)題,但制備過(guò)程中可能會(huì)產(chǎn)生裂紋或晶粒破裂問(wèn)題。拔出是陶瓷制備的主要問(wèn)題,因?yàn)闀?huì)把拔出當(dāng)成孔洞。采用拍擊,金屬黏結(jié)金剛石盤(pán),硬研磨盤(pán)或硬拋光布的機(jī)械制備非常成功。SiC砂紙對(duì)陶瓷材料幾乎無(wú)效,因?yàn)閮烧邘缀跻粯佑?。因此,在所有制備的步驟中,幾乎全部使用金剛石。陶瓷材料制備時(shí)的載荷比較高,經(jīng)常超過(guò)手工制備時(shí)的載荷。賦耘磨拋機(jī)的磨拋液供給系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與優(yōu)勢(shì)?上海中心加壓金相磨拋機(jī)

上海中心加壓金相磨拋機(jī),金相磨拋機(jī)

   燒結(jié)碳化物陶瓷復(fù)合材料:金屬?gòu)?fù)合物,聚合物和復(fù)合陶瓷印刷線路板微電子設(shè)備塑料和聚合物本書(shū)中討論的這些制備程序,都是在直徑8英寸(200mm)磨盤(pán)的自動(dòng)研磨機(jī)上,利用具有六個(gè)直徑(30mm)試樣孔的直徑5英寸(125mm)試樣夾持器,通過(guò)大量實(shí)驗(yàn)和研究所得的程序。這些制備程序在直徑10英寸(250mm)或直徑12英寸(300mm)的研磨盤(pán)上使用時(shí),獲得了一樣的結(jié)果。當(dāng)使用8英寸(200mm)研磨盤(pán)和直徑5英寸(125mm)試樣夾持器時(shí),應(yīng)調(diào)整試樣夾持器的位置使得試樣盡量在研磨盤(pán)外沿旋轉(zhuǎn)研磨。這將比較大化利用工作表面同時(shí)提高邊緣保持度。這種調(diào)整在使用相同直徑試樣夾持器時(shí)對(duì)大直徑研磨盤(pán)的損傷將小。然而,如果使用直徑7英寸(175mm)試樣夾持器和直徑12英寸(300mm)研磨盤(pán)時(shí),應(yīng)調(diào)整試樣夾持器的位置使得試樣在研磨盤(pán)邊緣旋轉(zhuǎn)研磨。通常情況下,當(dāng)使用不同形式研磨盤(pán)和鑲嵌樣尺寸時(shí),很難預(yù)知試樣制備的時(shí)間和載荷的大小變化。雖然嵌樣尺寸不同,但嵌樣尺寸不能作為基本的計(jì)算依據(jù),因?yàn)樵嚇幼陨泶笮”惹稑映叽绺匾?nèi)蒙古電子行業(yè)金相磨拋機(jī)磨盤(pán)大小有哪些賦耘金相拋光機(jī)金相自動(dòng)磨拋機(jī)金相磨拋機(jī)磨拋機(jī)磨光機(jī)金相研磨機(jī)磨盤(pán)直徑有200mm230mm、250mm、300mm可選!

上海中心加壓金相磨拋機(jī),金相磨拋機(jī)

   金相研磨機(jī)磨盤(pán)直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選!大直徑的研磨盤(pán)會(huì)增加試樣在給定時(shí)間內(nèi)的運(yùn)動(dòng)距離。例如,轉(zhuǎn)速一樣時(shí),試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤(pán)上的運(yùn)動(dòng)距離,分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤(pán)上運(yùn)動(dòng)距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤(pán)時(shí),建議將時(shí)間減少為8英寸(200mm)研磨盤(pán)的80%或67%。大直徑的研磨機(jī)的試樣制備時(shí)間要短,但耗材消耗稍多,所以大直徑的研磨機(jī)更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。根據(jù)報(bào)道,研磨和拋光速率因晶體方向不同而不同。錸是非常敏感于冷作的金屬,并生產(chǎn)機(jī)械孿晶。鉭是比鈮更軟的更難制備的金屬,因?yàn)樗菀子汕懈詈脱心ギa(chǎn)生變形層。在金屬材料產(chǎn)品中,鐵基合金金屬占有很大的比例。鐵基合金材料的化學(xué)成分和顯微組織的范圍也要比其它系列合金材料大的多。純鐵比較軟,易延展,不容易獲得一個(gè)無(wú)劃痕不變形的顯微組織。板鋼也有相同的問(wèn)題,可通過(guò)鍍一層保護(hù)膜如鍍鋅、鍍鋁或鍍鋅-鋁來(lái)消除影響。一般來(lái)說(shuō),比較硬的合金更容易制備。鑄鐵因其可能含有石墨,必須保證制備時(shí)能將起保留以供分析。夾雜物經(jīng)常要被定性定量分析評(píng)定。其碳含量變化范圍。

縱觀國(guó)內(nèi)外拋光機(jī)的狀況,國(guó)內(nèi)研發(fā)的拋光機(jī)在性能和外觀等方面還存在一定差距二例如,國(guó)內(nèi)研制的拋光機(jī)多數(shù)機(jī)型的拋光盤(pán)為單盤(pán)或雙盤(pán),有水龍頭,但冷卻條件差由于冷卻條件差,試樣表面易發(fā)熱變灰暗,而且會(huì)繼續(xù)增厚形變擾動(dòng)層,對(duì)快速拋光好試樣帶來(lái)麻煩;拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速固定不變,而金相試樣制備過(guò)程不允許組織變形,軟相(石墨)脫落,硬相(碳化物)浮凸,拋光后試樣表面應(yīng)光亮如鏡、無(wú)磨痕。為此,賦耘根據(jù)不同性質(zhì)的材料,需采取不同措施,研制的全自動(dòng)拋光機(jī),能夠自動(dòng)控制冷卻液的流量,整個(gè)操作過(guò)程采用全自動(dòng)化模式,節(jié)省了人工并有效地提高了研究效率與質(zhì)量。




金相磨拋機(jī)不同型號(hào)的功能差異及適用場(chǎng)景?

上海中心加壓金相磨拋機(jī),金相磨拋機(jī)

賦耘檢測(cè)技術(shù)(上海)有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售金相制樣設(shè)備的綜合性企業(yè)。我們會(huì)根據(jù)不同材料、不同要求提供不同金相磨拋機(jī)。產(chǎn)品名稱(chēng):自動(dòng)金相磨拋機(jī)產(chǎn)品型號(hào):FY-MP-100產(chǎn)品特點(diǎn):8寸觸摸屏操作控制,自動(dòng)調(diào)壓力,精確力度控制;通過(guò)編程實(shí)現(xiàn)連續(xù)制樣,每個(gè)工序完成自動(dòng)停機(jī),方便更換拋光組織物,同時(shí)可以暫停查看制樣效果,每部工序計(jì)時(shí),能精確的制樣和節(jié)省制樣時(shí)間。同時(shí)也可以通過(guò)手動(dòng)操作參數(shù)制樣,方便制樣多樣性;一次可制樣1-6個(gè);可連接自動(dòng)滴液器功能;自動(dòng)鎖緊功能;錐度磨盤(pán)系統(tǒng),更換清理更容易;防濺水橢圓水槽設(shè)計(jì)可靠保護(hù)部件的使用壽命及保持機(jī)臺(tái)的整潔;大口徑的排水管道,解決易堵的問(wèn)題;三檔定速,能快速定位常用轉(zhuǎn)速;水流量可調(diào)。金相拋光機(jī)金相自動(dòng)磨拋機(jī)金相磨拋機(jī)磨拋機(jī)磨光機(jī)金相研磨機(jī)中心壓力、單點(diǎn)壓力兩種運(yùn)行模式,可根據(jù)工況選擇合適的方式!試樣夾盤(pán)可快速裝卸轉(zhuǎn)換,靈活使用不同口徑夾盤(pán)!磁性盤(pán)設(shè)計(jì),支持快速換盤(pán),墊板噴涂特氟龍,更換砂紙拋布無(wú)殘留!采用高清LCD觸摸屏操控和顯示,操作簡(jiǎn)便,清晰直觀!自動(dòng)研磨系統(tǒng),可定時(shí)定速,水系統(tǒng)自動(dòng)啟閉功能,有效代替手工磨拋!全自動(dòng)款可存儲(chǔ)十多種磨拋程序,針對(duì)不同試樣。金相磨拋機(jī)與其他金相設(shè)備的配套使用方法?廣西陶瓷金相磨拋機(jī)怎么選擇

金相磨拋機(jī)在金相試樣平整度控制上的優(yōu)勢(shì)?上海中心加壓金相磨拋機(jī)

固定型的研磨砂紙,學(xué)生實(shí)驗(yàn)室使用的較多,但在工業(yè)生產(chǎn)中并不常用,一般以條狀或卷狀供應(yīng),例如HandiMet2卷狀砂紙。試樣在砂紙上從頂?shù)降着c砂紙上的磨削顆粒摩擦,每一個(gè)研磨過(guò)程保持一個(gè)方向,要么縱向要么橫向,這樣獲得的研磨面要比一會(huì)縱向一會(huì)橫向的平整度好。本程序可以以“干式”研磨,但通常會(huì)加水以冷卻試樣表面,同時(shí)用把研磨顆粒碎片帶走。帶式研磨機(jī),例如SurfMetI或DuoMetII帶式研磨機(jī)如圖16,在許多實(shí)驗(yàn)室都會(huì)見(jiàn)到。另外有一種類(lèi)似的高速盤(pán)式研磨機(jī),象SuperMet研磨機(jī),如圖17。這些研磨機(jī)通常用于粗磨砂紙,粒度從60到240,主要用于去除切割帶來(lái)的毛刺,修整不需要保留的邊緣,平整要檢查的被切割的表面,或去除切割缺陷。研磨拋光是制備試樣的步驟或中間步驟,以得到一個(gè)平整無(wú)劃痕無(wú)變形的鏡面。這樣的表面是觀察真實(shí)顯微組織的基礎(chǔ)以便隨后的金相解釋?zhuān)ǘ慷ㄐ?。拋光技術(shù)不應(yīng)引入外來(lái)組織,例如干擾金屬,坑洞,夾雜脫出,彗星拖尾,著色或浮雕(不同相的高度不同或孔和組織高度不同)。


上海中心加壓金相磨拋機(jī)