深圳場鏡主平面

激光打標(biāo)是激光場鏡的**應(yīng)用場景之一，不同打標(biāo)需求對應(yīng)不同型號選擇。若需小幅面精細(xì)打標(biāo)，64-60-100是合適選擇——其掃描范圍60x60mm，聚焦點直徑*10μm，能實現(xiàn)細(xì)微圖案的清晰標(biāo)記；若需中等幅面，64-110-160B掃描范圍110x110mm，焦距160mm，工作距離170mm，兼顧范圍與精度；大幅面打標(biāo)則可考慮64-450-580，450x450mm的掃描范圍能覆蓋大型工件，且50μm的聚焦點直徑可保證標(biāo)記均勻性。此外，部分型號如64-220-330D采用大口徑設(shè)計，入射光斑直徑達(dá)18mm，適合高能量打標(biāo)需求。場鏡選型指南：從參數(shù)到場景的實用技巧。深圳場鏡主平面

激光清洗通過激光能量去除污漬，場鏡在其中的作用是將激光均勻投射到待清洗表面。針對小型零件清洗，64-70-1600（70x70mm掃描范圍）足夠使用，35μm的聚焦點能精細(xì)***局部銹跡；清洗大型設(shè)備表面時，64-110-254（110x110mm）更高效。全石英鏡片型號（如64-85-160-silica）耐激光沖擊，適合長時間清洗；而64-70-210Q-silica的14mm入射光斑直徑，能承載更高功率激光，提升頑固污漬的清洗效率。此外，工作距離（如263mm）可避免鏡頭接觸污漬，減少污染。深圳場鏡入射光光徑低畸變場鏡：測繪與測量的選擇。

激光場鏡與普通聚焦鏡的差異主要體現(xiàn)在三方面：一是F*Θ特性，場鏡能通過公式計算加工位置，普通聚焦鏡則需復(fù)雜校準(zhǔn)；二是大視場均勻性，場鏡在60x60mm到800x800mm范圍內(nèi)保持均勻，普通聚焦鏡在大視場下邊緣能量衰減明顯；三是功能適配，場鏡能將振鏡偏轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)化為焦點移動，普通聚焦鏡*能聚焦，無法配合振鏡實現(xiàn)高速掃描。例如激光打標(biāo)中，普通聚焦鏡打標(biāo)范圍超過100mm后邊緣模糊，而場鏡的110x110mm范圍仍能保持清晰，這也是場鏡在工業(yè)激光加工中不可替代的原因。

355nm波長的激光場鏡更適用于需要高精度加工的場景，其型號如DXS-355系列覆蓋了從300x300mm到800x800mm的掃描范圍。以DXS-355-500-750為例，掃描范圍500x500mm，焦距750mm，工作距離820.4mm，入射光斑直徑16mm，能滿足中大幅面的精密加工需求；而DXS-355-800-1090的掃描范圍達(dá)800x800mm，焦距1090mm，適合大型工件的激光處理。這類場鏡在波長適配性上經(jīng)過優(yōu)化，能減少355nm激光的能量損失，在需要高分辨率的加工任務(wù)中表現(xiàn)出色，比如精細(xì)電路的激光刻蝕。場鏡與物鏡搭配：提升成像質(zhì)量的關(guān)鍵。

F-theta場鏡的參數(shù)體系包含波長、掃描范圍、焦距、入射光斑直徑等**指標(biāo)，各參數(shù)間存在聯(lián)動關(guān)系。波長決定適配的激光類型，1064nm適用于多數(shù)工業(yè)激光，355nm適用于精細(xì)加工；掃描范圍與焦距正相關(guān)，如掃描范圍從60x60mm（焦距100mm）到800x800mm（焦距1090mm），選擇時需匹配工件大??；入射光斑直徑影響能量承載，18mm大口徑型號（如64-450-580）比12mm型號更適合高功率激光。此外，工作距離（如64-60-100的100mm）需與加工設(shè)備的機(jī)械結(jié)構(gòu)適配，避免鏡頭與工件碰撞。場鏡與鏡頭接口：匹配才不會出問題。江蘇光纖場鏡品牌排行

場鏡工作原理：為何是光學(xué)系統(tǒng)的 “隱形助手”。深圳場鏡主平面

1064nm波長的激光場鏡在大幅面加工中表現(xiàn)突出，其型號覆蓋從200x200mm到480x480mm的掃描范圍。以64-450-580為例，450x450mm的掃描范圍可覆蓋大型板材，580mm的焦距能保證足夠的工作距離，避免加工時鏡頭與工件干涉；64-480-580則進(jìn)一步擴(kuò)展到480x480mm，且50μm的聚焦點直徑可平衡范圍與精度。這類大幅面型號多采用大口徑設(shè)計（入射光斑直徑18mm），能承載更高功率的激光，適合厚材切割、大面積打標(biāo)等場景。同時，F(xiàn)*θ線性好的特性，讓450mm范圍內(nèi)的加工位置計算誤差控制在極小范圍。深圳場鏡主平面