北京工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)，發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15μm直徑）。相似于人類眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨(dú)特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。無掩膜光刻技術(shù)可以輕松地更改圖案，從而方便地進(jìn)行試制和修整。北京工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。廣東高分辨率無掩膜光刻技術(shù)無掩膜光刻技術(shù)也適用于制造精細(xì)的電子元件和結(jié)構(gòu)。

光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中，超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力特別好的證明?？蛻羰褂肗anoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長、遷移和干細(xì)胞分化。

由歐盟委員會(huì)及歐盟“地平線2020“計(jì)劃（Horizon2020）資助的HandheldOCT項(xiàng)目于2020年初正式啟動(dòng)。祝賀Nanoscribe成為該項(xiàng)目成員之一。這個(gè)由多所大學(xué)，研究機(jī)構(gòu)以及公司的科學(xué)家們和工程師們所組成的聯(lián)合項(xiàng)目致力于開發(fā)一種用于眼科檢查的便攜式可移動(dòng)成像設(shè)備?；诘统杀竞托⌒突攸c(diǎn)的集成光子芯片技術(shù)，該項(xiàng)目有望將光學(xué)相干斷層掃描（OCT）從局限的眼科臨床應(yīng)用帶入更廣的眼科護(hù)理移動(dòng)應(yīng)用中來。由維也納醫(yī)科大學(xué)牽頭的HandheldOCT研究項(xiàng)目旨在運(yùn)用成熟的光學(xué)相干斷層掃描成像技術(shù)（OCT），來實(shí)現(xiàn)便攜式現(xiàn)場即時(shí)眼科護(hù)理檢查。預(yù)計(jì)此款正在開發(fā)的具備先進(jìn)技術(shù)和成本效應(yīng)的便攜式集成光子芯片技術(shù)OCT成像設(shè)備將用于診斷和監(jiān)測多種眼部疾病，例如，老年性黃斑病變、糖尿病性視網(wǎng)膜病變以及青光眼，這些疾病在世界范圍內(nèi)都是導(dǎo)致失明的主要因素。該便攜式設(shè)備將會(huì)在維也納總醫(yī)院進(jìn)行測試以驗(yàn)證其在眼科診斷的效果。Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作。重慶工業(yè)級(jí)無掩膜光刻工藝

無掩膜光刻技術(shù)可在各種材質(zhì)表面制造微結(jié)構(gòu)。北京工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān)，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。歡迎咨詢北京工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)