上海2PP無掩膜光刻激光直寫

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。想要了解無掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。上海2PP無掩膜光刻激光直寫

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設備，可實現(xiàn)在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。湖南超高速無掩膜光刻無掩膜激光直寫無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術，即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。

如何能夠利用微納尺寸的旋轉軸和鉸鏈改進傳感器并為新的傳感器設計概念鋪平道路？這正是位于代頓（俄亥俄州）的美國空軍技術學院的科研人員們通過在光纖上打印具有可活動部件的微型3D傳感器所聚焦的課題。內置的鉸鏈和微軸給傳感器設計帶來的新的設計理念，例如用于流量傳感的微轉子，可通過物***相沉積法來進入以往不易觸及的區(qū)域的微型傳感器。光纖上3D打印的流量傳感器（渲染動畫）：轉子被安裝在光纖端面的一個偏心軸上，傳感器的信號由通過光纖芯的反射光產(chǎn)生，以實現(xiàn)流量傳感的應用。

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環(huán)境進行生物打印，適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相關產(chǎn)品線開發(fā)，用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。CELLINK集團的前列宏觀結構生物打印技術與Nanoscribe公司的微觀結構生物打印技術相結合做到了強強聯(lián)手的協(xié)作效應，可以實現(xiàn)更逼真的組織結構，例如血管化和細胞支持體等。2PP技術將實現(xiàn)CELLINK集團所有三個業(yè)務的跨領域應用，并增強集團的耗材產(chǎn)品開發(fā)和供應。“借助Nanoscribe特別先進的2PP技術，我們可以實現(xiàn)擴大補充我們的產(chǎn)品組合，為我們的客戶提供更加廣的產(chǎn)品?！盋ELLINK首席執(zhí)行官ErikGatenholm強調說，“為了改善全球人民的健康狀況，我們正在以此為目標導向，不斷強大公司擴大規(guī)模，持續(xù)開發(fā)研究開創(chuàng)性生物融合技術?！盢anoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究。

集成光子學可較廣地應用于各種領域，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術，尤其是微型光子組件應用，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難，科學家們提出了寬帶光纖耦合概念，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn)。無掩膜光刻技術被廣泛應用于半導體芯片的制造過程中，它可以將微小的電路和組件刻畫在硅片上。湖北雙光子無掩膜光刻

低成本：無掩膜光刻技術降低了掩膜的成本，同時也減少了制造時間和材料浪費。上海2PP無掩膜光刻激光直寫

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。上海2PP無掩膜光刻激光直寫