離子氮化保護非氮化表面的屏蔽方法，離子滲氮法是在～10Torr（1Torr=）的含氮氣氛中，以爐體為陽極，被處理工件為陰極，在陰陽極間加上數(shù)百伏的直流電壓，由于輝光放電現(xiàn)象便會產(chǎn)生像霓虹燈一樣的柔光覆蓋在被處理工件的表面。此時，已離子化了的氣體成分被電場加速，撞擊被處理工件表面而使其加熱，同時依靠濺射及離子化作用等進行氮化處理。作為一種全新的氮化方法，現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于汽車、機床、航天、塑料機械、紡織機械、精密儀器、模具、量韌具等許多領(lǐng)域，而且其應(yīng)用范圍仍在日益擴大。目前，我國在離子氮化的某些理論和技術(shù)方面已處于水平。與氣體滲氮相比，離子滲氮具有許多優(yōu)點，主要表現(xiàn)在：滲層組織易于控制、脆性?。坏蠊ぜ冃涡。还?jié)能、省氣；無毒。離子氮化使用手冊介紹。梅州高頻離子氮化和氣體氮液的區(qū)別
離子氮化處理工藝：處理溫度：閥板880～900。C，閥座840～860。C處理時間：6～8h比較大加熱速度：15℃/min比較大冷卻速度：18℃/min反應(yīng)氣氛：N2與H2混合氣體，并適當(dāng)引入其他氣體，如氧等氮勢：66%～90%工作氣壓：3999～5332Pa氣體流量：100～150L/h電流密度：3～7mA/cm2擬進行離子氮化的零件必須經(jīng)過徹底的清洗，以免因油污、銹斑、揮發(fā)物等而引起電弧，損傷零件。零件在裝爐時，其間隙必須足夠大而均勻，裝載過密處往往會引起溫度過高。對局部氮化的零件，可在非滲部位用外罩(對凸出面而言)或塞子(對內(nèi)凹面或孔而言)屏蔽，以避免在該處起輝。裝爐時還要注意合理地分布測溫監(jiān)控?zé)犭娕肌４送怆x子氮化技術(shù)主要儀器就是離子氮化爐，通過離子滲氮可以使?jié)B氮的周期縮短60%～70%，簡化工序，零件變形小，產(chǎn)品質(zhì)量好，節(jié)約能源，無污染，是近年來發(fā)展較快的熱處理工藝。離子氮化設(shè)備由氮化爐、真空系統(tǒng)、供氮系統(tǒng)、電源及溫度測控系統(tǒng)組成。氮化介質(zhì)一般采用氨或氮氫混合氣體。離子氮化操作要求嚴格，否則易導(dǎo)致溢度不均勻和弧光放電。離子氮化開始于30年代，到50年代只用于炮管內(nèi)膛氮化。60年代推廣使用于結(jié)構(gòu)鋼、工模具鋼、球墨鑄鐵、合金鑄鐵、不銹鋼和耐熱鋼等。 河源真空離子氮化處理廠家離子氮化硬度和深度。
離子氮化脈沖電源的優(yōu)點：無需堵孔，由于脈沖電源對弧光放電的抑制作用，因此對于很多零件無需堵孔，這樣給生產(chǎn)操作帶來很大的方便。例如處理曲軸時就不需堵孔，而當(dāng)曲軸上存在有一些為提高零件性能的工藝孔時，這種優(yōu)點就顯得更為突出。處理質(zhì)量好、變形小，利于提高層深，由于脈沖電源對弧光發(fā)電的抑制作用，弧光在零件表面作用的時間極短，可獲得高質(zhì)量的表面，絕無灼傷。并且提高了工件溫度的均勻性，零件變形小。由于其改善了工藝條件，在相同的時間內(nèi)或者不利于氮化的條件下，能提高層深。能提高設(shè)備的利用率，在直流電源的條件下，由于工藝參數(shù)和物理參數(shù)的相互影響，在保溫時電壓的調(diào)節(jié)范圍通常在650V左右，而采用脈沖電源，電壓調(diào)節(jié)范圍將提高，例如在處理狹縫時可將電壓提高到900V，增加了電源的有效輸出。
離子氮化法的優(yōu)點二：離子氮化是在真空中進行，因而可獲得無氧化的加工表面，也不會損害被處理工件的表面光潔度。而且由于是在低溫下進行處理，被處理工件的變形量極小，處理后無需再行加工。通過控制氣氛，可調(diào)節(jié)化合物層的相結(jié)構(gòu)，化合物層的脆性明顯低于氣體氮化的脆性，離子氮化為工件的還有就是一道工序。離子氮化從380℃起即可進行氮化處理，此外，對鈦、鈦合金等特殊材料也可在850℃的高溫下進行氮化處理，因而適應(yīng)范圍十分廣。離子氮化是在低氣壓下以離子注入的方式進行，因而耗氣量極少（只為氣體滲氮的百分之幾），可降低處理成本。鋼材熱處理：離子氮化、液體氮化、氣體氮化的作用及技術(shù)流程。
由于離子氮化是在真空中進行，因而可獲得無氧化的加工表面，也不會損害被處理工件的表面光潔度。而且由于是在低溫下進行處理，被處理工件的變形量極小，處理后無需再行加工，極適合于成品的處理。通過調(diào)節(jié)氮、氫及其他（如碳、氧、硫等）氣氛的比例，可自由地調(diào)節(jié)化合物層的相組成，從而獲得預(yù)期的機械性能。離子氮化從380℃起即可進行氮化處理，此外，對鈦等特殊材料也可在850℃的高溫下進行氮化處理，因而適應(yīng)范圍十分廣。由于離子氮化是在低氣壓下以離子注入的方式進行，因而耗氣量極少（只為氣體滲氮的百分之幾）。離子氮化處理工藝介紹。深圳低溫離子氮化處理廠家
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離子滲氮滲氮層的形成也是由分解、吸收、擴散三個基本過程組成的。但是，由于輝光放電的作用，其機理有所不同。在真空爐體內(nèi)，工件接陰極，爐體接陽極，在陰陽極間施加數(shù)百伏的直流電壓，產(chǎn)生輝光放電，使含氮的稀薄氣體﹝如氨氣﹞電離，形成等離子體。N+、H+離子在陰極位降區(qū)被加速，轟擊陰極表面，使陰極表面活化，并發(fā)生一系列反應(yīng)。首先，離子轟擊動能轉(zhuǎn)化為熱能，加熱工件。其次，離子轟擊打出電子，產(chǎn)生二次電子發(fā)射，同時，由于陰極濺射作用，工件表面的C、O、Fe等原子被轟擊出來，F(xiàn)e與陰極附近的活性N原子﹝或N離子﹞結(jié)合形成FeN沉積在陰極表面，依次分解：FeN→Fe2N→Fe3N→Fe4N，并同時產(chǎn)生活性N原子，由于陰極由表及里的高N濃度差，活性N原子在一定溫度下，向心部擴散形成滲氮層。 梅州高頻離子氮化和氣體氮液的區(qū)別
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