原位芯片掌握先進(jìn)的光刻技術(shù),為企業(yè)提供光刻代加工服務(wù)。電子束曝光技術(shù)簡(jiǎn)稱(chēng)“光刻”,是當(dāng)前**常用的微納加工方案,充當(dāng)模板的是“光刻膠”。理論上光刻的精度可以達(dá)到1納米,但是實(shí)際情況下很難,儀器輕微的振動(dòng)、外界磁場(chǎng)的干擾、操作人員的經(jīng)驗(yàn)都會(huì)影響**終結(jié)果?!澳壳半娮?..
"在微納加工世界,灰塵就是‘導(dǎo)彈’,頭發(fā)絲就是‘火箭’,平時(shí)我們不在意的小細(xì)節(jié)都會(huì)對(duì)芯片的精度產(chǎn)生重大影響!”微納加工平臺(tái)算得上是世上**干凈的實(shí)驗(yàn)室了,做微納加工工藝的工程師們,在進(jìn)入潔凈室前,首先要在更衣室里更換凈化服,還需佩戴頭套、口罩和手套。再經(jīng)過(guò)風(fēng)淋間...
微流控芯片(Microfluidic Chip)是一種將生物、化學(xué)、醫(yī)學(xué)分析過(guò)程的樣品制備、反應(yīng)、分離、檢測(cè)和廢液回收等基本操作單元集成到一塊微米尺度的生化芯片上,從而自動(dòng)完成分析全過(guò)程。這種方式可以很好地取代傳統(tǒng)生化實(shí)驗(yàn)室中的一整套流程,提高了效率的同時(shí)避免...
微納加工制造與測(cè)試技術(shù)作為我國(guó)從制造大國(guó)走向制造強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略的重要前沿交叉關(guān)鍵技術(shù),對(duì)制造工業(yè)、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)以及社會(huì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展都具有重要意義,***高度重視先進(jìn)傳感器技術(shù)的研究。MEMS傳感器研究要站在戰(zhàn)略的高度,重點(diǎn)關(guān)注其顛覆性技術(shù)和關(guān)鍵**技術(shù)的突破;微納制造技...
微流控技術(shù)優(yōu)勢(shì) 生命分析技術(shù)不斷發(fā)展,在新的時(shí)代背景下,又面臨新挑戰(zhàn)和發(fā)展機(jī)遇:要求在特別小的空間,特定的時(shí)間,特定的外界條件進(jìn)行物質(zhì)定性、定量、結(jié)構(gòu)分析、形貌分析等工作。 而微流控技術(shù)的出現(xiàn)為生命分析面臨的三大特殊挑戰(zhàn)提供了有力的操控工具。微流控技術(shù)...
微納加工制造與測(cè)試技術(shù)作為我國(guó)從制造大國(guó)走向制造強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略的重要前沿交叉關(guān)鍵技術(shù),對(duì)制造工業(yè)、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)以及社會(huì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展都具有重要意義,***高度重視先進(jìn)傳感器技術(shù)的研究。MEMS傳感器研究要站在戰(zhàn)略的高度,重點(diǎn)關(guān)注其顛覆性技術(shù)和關(guān)鍵**技術(shù)的突破;微納制造技...
PI膜的未來(lái)發(fā)展 未來(lái)高性能PI薄膜子柔性有機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池和新一代柔性L(fǎng)CD和OLED顯示器產(chǎn)業(yè)以及鋰電池等新型動(dòng)力儲(chǔ)電池技術(shù)產(chǎn)業(yè)均有廣闊的發(fā)展需求,PI薄膜的研究主要向高性能化、多功能化、易成型加工和低成本等方向發(fā)展,同時(shí)在差別化和特殊應(yīng)用的高性能PI薄...
激光微納加工制造是微納制造技術(shù)的重要部分。激光微納制造是通過(guò)激光與材料相互作用,改變材料的物態(tài)和性質(zhì),實(shí)現(xiàn)微米至納米尺度或跨尺度的控形與控性。由于激光微納制造在能量密度、作用的空間和時(shí)間尺度、制造體吸收能量的可控尺度都可分別趨于極端,而使制造過(guò)程所利用的物理效...
目前可以實(shí)現(xiàn)表面微納結(jié)構(gòu)的加工方法主要有以下幾種。 (1)光刻技術(shù),利用電子束或激光光束可以得到加工尺寸在幾十納米的微納結(jié)構(gòu),該方法優(yōu)勢(shì)在于精度高,得到的微納結(jié)構(gòu)形狀可以得到很好的控制; (2)飛秒激光加工技術(shù),由于飛秒激光具有不受衍射極限限制的特點(diǎn),可以加工...
微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻(SUSS)、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)(注入B、P等)、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD(SiO2、Si...
超短脈沖激光微細(xì)加工技術(shù)指的是利用超短脈沖激光對(duì)材料的顯微加工、精密裁切以及微觀(guān)改性。相對(duì)于傳統(tǒng)的激光打標(biāo)、激光焊接、激光切割等,超短脈沖激光精密微細(xì)加工還屬于新興的市場(chǎng),在太陽(yáng)能電池、LCD、醫(yī)療、精密加工、透明材料及微電子學(xué)等領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。隨著超...
目前可以實(shí)現(xiàn)表面微納結(jié)構(gòu)的加工方法主要有以下幾種。 (1)光刻技術(shù),利用電子束或激光光束可以得到加工尺寸在幾十納米的微納結(jié)構(gòu),該方法優(yōu)勢(shì)在于精度高,得到的微納結(jié)構(gòu)形狀可以得到很好的控制; (2)飛秒激光加工技術(shù),由于飛秒激光具有不受衍射極限限制的特點(diǎn),可以加工...
原位芯片掌握先進(jìn)的光刻技術(shù),為企業(yè)提供光刻代加工服務(wù)。電子束曝光技術(shù)簡(jiǎn)稱(chēng)“光刻”,是當(dāng)前**常用的微納加工方案,充當(dāng)模板的是“光刻膠”。理論上光刻的精度可以達(dá)到1納米,但是實(shí)際情況下很難,儀器輕微的振動(dòng)、外界磁場(chǎng)的干擾、操作人員的經(jīng)驗(yàn)都會(huì)影響**終結(jié)果?!澳壳半娮?..
原位芯片掌握先進(jìn)的光刻技術(shù),為企業(yè)提供光刻代加工服務(wù)。電子束曝光技術(shù)簡(jiǎn)稱(chēng)“光刻”,是當(dāng)前**常用的微納加工方案,充當(dāng)模板的是“光刻膠”。理論上光刻的精度可以達(dá)到1納米,但是實(shí)際情況下很難,儀器輕微的振動(dòng)、外界磁場(chǎng)的干擾、操作人員的經(jīng)驗(yàn)都會(huì)影響**終結(jié)果。“目前電子...
應(yīng)用于不同領(lǐng)域的PI售價(jià)及利潤(rùn)水平相差較大,如傳統(tǒng)的低端電工級(jí)PI絕緣薄膜經(jīng)過(guò)多年的發(fā)展,目前售價(jià)約為300-400元/kg,而電子級(jí)聚酰亞胺絕緣基膜的售價(jià)則達(dá)到1000元/kg,毛利率達(dá)到約70%。技術(shù)難度更高的軌交用薄膜售價(jià)在2000元/kg以上,微電子封...
微流控的優(yōu)點(diǎn): 芯片設(shè)計(jì)多流道、多個(gè)反應(yīng)單元的相互隔離,使各個(gè)反應(yīng)互不干擾。 檢測(cè)試劑消耗少,樣本量需求少 微流控芯片反應(yīng)單元腔體特別小,試劑使用量遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于常規(guī)操作。 污染少 芯片集成功能避免了人工操作的污染。 微流控技術(shù)將持續(xù)推動(dòng)生命分析...
目前可以實(shí)現(xiàn)表面微納結(jié)構(gòu)的加工方法主要有以下幾種。 (1)光刻技術(shù),利用電子束或激光光束可以得到加工尺寸在幾十納米的微納結(jié)構(gòu),該方法優(yōu)勢(shì)在于精度高,得到的微納結(jié)構(gòu)形狀可以得到很好的控制; (2)飛秒激光加工技術(shù),由于飛秒激光具有不受衍射極限限制的特點(diǎn),可以加工...
超短脈沖激光微細(xì)加工技術(shù)指的是利用超短脈沖激光對(duì)材料的顯微加工、精密裁切以及微觀(guān)改性。相對(duì)于傳統(tǒng)的激光打標(biāo)、激光焊接、激光切割等,超短脈沖激光精密微細(xì)加工還屬于新興的市場(chǎng),在太陽(yáng)能電池、LCD、醫(yī)療、精密加工、透明材料及微電子學(xué)等領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。隨著超...
激光微納加工制造是微納制造技術(shù)的重要部分。激光微納制造是通過(guò)激光與材料相互作用,改變材料的物態(tài)和性質(zhì),實(shí)現(xiàn)微米至納米尺度或跨尺度的控形與控性。由于激光微納制造在能量密度、作用的空間和時(shí)間尺度、制造體吸收能量的可控尺度都可分別趨于極端,而使制造過(guò)程所利用的物理效...
微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻(SUSS)、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)(注入B、P等)、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD(SiO2、Si...
掩膜版,又稱(chēng)光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下***業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具,是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。通俗點(diǎn)理解,掩膜版的功能類(lèi)似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”。 掩膜版主要用于下游電子元器件制造業(yè)的批量生產(chǎn),是下*...
作為一種新興的科學(xué)技術(shù),微流控器件研究已經(jīng)涉及化學(xué)、生物學(xué)、工程學(xué)和物理學(xué)等諸多領(lǐng)域,學(xué)科交叉性強(qiáng),在時(shí)間、空間和分析對(duì)象的精密操控上進(jìn)行突破,能夠解決生命分析的許多關(guān)鍵問(wèn)題。作為芯片實(shí)驗(yàn)室(Lab on chip)的典型**技術(shù),微流控技術(shù)發(fā)展迅速,目前已經(jīng)...
微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻(SUSS)、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)(注入B、P等)、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD(SiO2、Si...
原位芯片掌握先進(jìn)的光刻技術(shù),為企業(yè)提供光刻代加工服務(wù)。電子束曝光技術(shù)簡(jiǎn)稱(chēng)“光刻”,是當(dāng)前**常用的微納加工方案,充當(dāng)模板的是“光刻膠”。理論上光刻的精度可以達(dá)到1納米,但是實(shí)際情況下很難,儀器輕微的振動(dòng)、外界磁場(chǎng)的干擾、操作人員的經(jīng)驗(yàn)都會(huì)影響**終結(jié)果?!澳壳半娮?..
微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻(SUSS)、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)(注入B、P等)、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD(SiO2、Si...
目前可以實(shí)現(xiàn)表面微納結(jié)構(gòu)的加工方法主要有以下幾種。 (1)光刻技術(shù),利用電子束或激光光束可以得到加工尺寸在幾十納米的微納結(jié)構(gòu),該方法優(yōu)勢(shì)在于精度高,得到的微納結(jié)構(gòu)形狀可以得到很好的控制; (2)飛秒激光加工技術(shù),由于飛秒激光具有不受衍射極限限制的特點(diǎn),可以加工...
激光微納加工制造是微納制造技術(shù)的重要部分。激光微納制造是通過(guò)激光與材料相互作用,改變材料的物態(tài)和性質(zhì),實(shí)現(xiàn)微米至納米尺度或跨尺度的控形與控性。由于激光微納制造在能量密度、作用的空間和時(shí)間尺度、制造體吸收能量的可控尺度都可分別趨于極端,而使制造過(guò)程所利用的物理效...
超短脈沖激光微細(xì)加工技術(shù)指的是利用超短脈沖激光對(duì)材料的顯微加工、精密裁切以及微觀(guān)改性。相對(duì)于傳統(tǒng)的激光打標(biāo)、激光焊接、激光切割等,超短脈沖激光精密微細(xì)加工還屬于新興的市場(chǎng),在太陽(yáng)能電池、LCD、醫(yī)療、精密加工、透明材料及微電子學(xué)等領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。隨著超...
微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻(SUSS)、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)(注入B、P等)、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD(SiO2、Si...
芯片集成的單元部件越來(lái)越多,且集成的規(guī)模也越來(lái)越大,微流控芯片有著強(qiáng)大的集成性。同時(shí)可以大量平行處理樣品,具有高通量的特點(diǎn),分析速度快、耗低,物耗少,污染小,分析樣品所需要的試劑量*幾微升至幾十個(gè)微升,被分析的物質(zhì)的體積甚至在納升級(jí)或皮升級(jí)。廉價(jià),安全,因...