維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級用相機式（10mm 量程）。 功率等級：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級用相機式（適配衰減片）。 光束形態(tài)：高斯用狹縫式（經(jīng)濟），非高斯用相機式（保留細節(jié)）。 脈沖特性：單脈沖用相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業(yè)：高功率用狹縫式，動態(tài)監(jiān)測與校準用相機式，組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療：相機式監(jiān)測能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研：超短脈沖與復雜光束分析用相機式，材料加工優(yōu)化結(jié)合狹縫式。 光通信：光纖檢測用相機式，激光...

Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構(gòu)光斑分析標準：狹縫 - 刀口雙模式切換技術(shù)，突破傳統(tǒng)設(shè)備量程限制，切換時間小于 50ms；高動態(tài)范圍傳感器，實現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應，量子效率達 85%； AI 驅(qū)動的光斑模式識別算法，率達 99.7%，可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產(chǎn)品支持 M2 因子在線測試，測量重復性達 ±0.5%，結(jié)合工業(yè)級防護設(shè)計，可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作，通過 IP65 防塵防水認證，滿足嚴苛場景需求。產(chǎn)品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認證。M2 因子測量模塊怎么選？維度光電 M2 因子測量模塊，搭配光斑分析儀，...

維度光電BeamHere 光斑分析儀通過三大價值賦能激光應用： 效率提升：全自動化檢測流程（10 秒完成參數(shù)采集 + 1 分鐘生成報告），幫助企業(yè)將光束調(diào)試周期縮短 80% 成本優(yōu)化：雙技術(shù)方案覆蓋全尺寸光斑，避免多設(shè)備購置，典型客戶設(shè)備采購成本降** 65% 質(zhì)量升級：0.1μm 超高分辨率與 M2 因子分析，助力醫(yī)療激光設(shè)備能量均勻性提升至行業(yè) ±1.2% 典型應用場景： 工業(yè)：激光切割光束實時校準，減少 25% 的材料損耗 醫(yī)療：眼科激光手術(shù)光斑能量監(jiān)測，保障臨床安全性 科研：超快激光脈沖特性，推動新型激光器光斑分析儀能測束腰位置嗎？大功率光斑分析儀價格多少光斑分析儀維度光電聚焦激光領(lǐng)域...

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀，通過配套通用軟件構(gòu)建完整光束質(zhì)量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪、發(fā)散角測量及 M2 因子計算三大功能，可有效分析光束整形、聚焦及準直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標準，包括光斑寬度、質(zhì)心偏移量和橢圓率等指標。用戶可選配 M2 測試模塊，實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計算，終通過軟件一鍵生成標準化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進?量化，并由軟件?鍵輸出測試報告，精確且?效的完成光束分析。近場光斑測試系統(tǒng)怎么搭建？無干涉光斑分析儀光斑測試光斑分析儀Dimension-Lab...

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節(jié)。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業(yè)制造：...

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計：掃描狹縫式側(cè)重高功率場景（千萬級功率），通過物理衰減機制實現(xiàn)安全測量，衰減級數(shù)達 10?:1，無需外置衰減片；相機式則主打?qū)捁庾V（200-2600nm）與實時成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑；M2 測試模塊支持光束傳播特性動態(tài)分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法，可自動識別光斑模式，率達 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數(shù)據(jù)處理時間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘?？捎糜谧詣踊O(shè)備集成的光...

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù)，實現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細節(jié)，創(chuàng)新設(shè)計解決三大檢測痛點： 小光斑測量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài)，避免像素丟失 高功率檢測：狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 激光，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫(yī)療...

維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和，而常規(guī)激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點。為解決這一問題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 高功率激光，保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片，可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設(shè)計和 C 口安裝，有鎖緊環(huán)可固定在任...

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng)，突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制，通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案，衰減達 10??，可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率，雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率，均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu)，支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設(shè)計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投...

光斑分析儀通過檢測光斑形態(tài)、尺寸及能量分布評估光束質(zhì)量，由光學傳感器與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)構(gòu)成。Dimension-Labs 推出兩大系列產(chǎn)品：掃描狹縫式覆蓋 200-2600nm 寬光譜，支持 2.5μm 至 10mm 光斑測量，可測千萬級功率；相機式則通過高靈敏度傳感器實現(xiàn)實時成像。全系產(chǎn)品集成 M2 因子測試模塊與分析軟件，提供光斑橢圓率、發(fā)散角等 20+ISO 11146 標準參數(shù)，覆蓋光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。激光發(fā)散角...

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù)，實現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細節(jié)，創(chuàng)新設(shè)計解決三大檢測痛點： 小光斑測量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài)，避免像素丟失 高功率檢測：狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 激光，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫(yī)療...

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節(jié)。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業(yè)制造：...

維度光電作為全球激光測量領(lǐng)域解決商，致力于打造 "三橫三縱" 產(chǎn)品矩陣： 橫向覆蓋： 光譜范圍：190-2700nm 全波段 光斑尺寸：0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級：1μW-10W 全功率 縱向深度： 工業(yè)級：支持產(chǎn)線在線監(jiān)測與自動化對接 醫(yī)療級：符合 ISO 13485 認證，保障臨床精度 科研級：開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢： 同時提供雙技術(shù)方案的廠商（狹縫式 + 相機式） AI 算法庫支持光束質(zhì)量預測性維護 模塊化設(shè)計實現(xiàn)設(shè)備功能動態(tài)擴展 適合各類激光應用中激光光束質(zhì)量測量與分析。無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。維度光電自研光斑分析儀測量光斑分析儀Dimensio...

維度光電-光斑分析儀的使用 科研場景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實驗平臺，使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時間序列分析" 功能，觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評估" 模塊，計算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長、脈寬等實驗參數(shù)，生成帶批注的報告。 工業(yè)場景 在激光切割設(shè)備光路中插入 BeamHere，選擇 "在線監(jiān)測" 模式。 實時顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當檢測到光斑漂移超過閾值時，軟件自動觸發(fā)警報并記錄異常數(shù)據(jù)。 每日生成生產(chǎn)質(zhì)量報表，統(tǒng)計良品率與設(shè)備穩(wěn)定性趨勢。如何評判激光質(zhì)量的好壞？國產(chǎn)化光斑分析儀發(fā)...

維度光電光束質(zhì)量測量解決方案基于兩大技術(shù)平臺： 掃描狹縫式系統(tǒng)：采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)，通過 ±90° 旋轉(zhuǎn)實現(xiàn) XY 軸同步掃描，結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換，突破亞微米級光斑檢測極限。光學系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器，配合高斯擬合算法，實現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復性。 相機式成像系統(tǒng)：搭載背照式 CMOS 傳感器（量子效率 95%@500-1000nm），結(jié)合非球面透鏡組消除畸變，支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術(shù)，捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計算 M2 因子，測量精度達 ±0.3%。 創(chuàng)新突破： 狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴展...

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質(zhì)量參數(shù)，為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應用提供支撐。工業(yè)加工中，其亞微米級光斑校準能力幫助優(yōu)化切割、焊接與打標工藝，確保光束輪廓一致性，保障加工質(zhì)量。醫(yī)療領(lǐng)域用于眼科準分子激光手術(shù)設(shè)備校準，實時監(jiān)測光束能量分布，確保手術(shù)安全性。科研場景中支持皮秒級脈沖激光測量，為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù)，推動新型激光器件。光通信領(lǐng)域可實現(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號傳輸穩(wěn)定性。農(nóng)業(yè)與生命中，通過分析激光誘變育種光束參數(shù)，優(yōu)化植物生長調(diào)控效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜，支持千萬級功率測量，結(jié)合M2因子測試模塊與AI分析軟件，為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到...

光斑分析儀通過光學傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號，結(jié)合算法分析實現(xiàn)光束質(zhì)量評估。其傳感器采用量子阱材料設(shè)計，響應速度達 0.1μs，可捕捉皮秒級激光脈沖。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量，配合動態(tài)增益補償技術(shù)，在千萬級功率下仍保持線性響應；相機式則利用面陣傳感器實時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋，像素分辨率達 1280×1024，動態(tài)范圍達 60dB。全系標配 M2 因子測試模塊，結(jié)合 BeamHere 軟件，可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù)，并通過高斯擬合算法將測量誤...

針對光通信領(lǐng)域，Dimension-Labs 提供多芯光斑同步檢測方案：掃描狹縫式設(shè)備支持單芯 2.5μm 光斑檢測，結(jié)合 Fast Check MT 檢測儀實現(xiàn) 12 芯并行測試；相機式系統(tǒng)實現(xiàn)全端面成像分析，可檢測連接器端面傾斜度誤差小于 0.5°。在醫(yī)療激光領(lǐng)域，其 0.1μm 分辨率可捕捉光斑畸變，配合閉環(huán)反饋系統(tǒng)實時調(diào)整激光參數(shù)，結(jié)合 M2 因子模塊優(yōu)化光束準直度，使激光聚焦精度達 ±2μm。工業(yè)加工場景中，千萬級功率測量能力與 ISO 標準參數(shù)輸出，幫助企業(yè)將激光切割熱影響區(qū)縮小 30%，提升加工精度達 ±5μm。用于準直器生產(chǎn)的光斑質(zhì)量分析儀。束腰半徑光斑分析儀是什么光斑分析儀維...

使用維度光電BeamHere 光斑分析儀開展光斑與光束質(zhì)量測量的流程 系統(tǒng)搭建：將 BeamHere 相機式光斑分析儀的傳感器置于激光束路徑，通過支架調(diào)節(jié)位置確保光斑完整覆蓋 sensor。使用 USB 3.0 數(shù)據(jù)線連接設(shè)備與電腦，安裝 BeamHere V3.2 軟件并完成驅(qū)動校準。 數(shù)據(jù)采集：開啟半導體激光器至穩(wěn)定輸出狀態(tài)，軟件選擇 "連續(xù)采集" 模式，設(shè)置曝光時間 50μs，幀率 100fps，同步觸發(fā)激光器確保單脈沖捕捉。 參數(shù)提?。很浖詣幼R別光斑區(qū)域，計算 FWHM 直徑（XY 軸）、橢圓率、能量集中度等 12 項基礎(chǔ)參數(shù)，同時基于 ISO 11146 標準算法生成 M2 因子、...

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節(jié)。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業(yè)制造：...

針對光通信領(lǐng)域，Dimension-Labs 提供多芯光斑同步檢測方案：掃描狹縫式設(shè)備支持單芯 2.5μm 光斑檢測，結(jié)合 Fast Check MT 檢測儀實現(xiàn) 12 芯并行測試；相機式系統(tǒng)實現(xiàn)全端面成像分析，可檢測連接器端面傾斜度誤差小于 0.5°。在醫(yī)療激光領(lǐng)域，其 0.1μm 分辨率可捕捉光斑畸變，配合閉環(huán)反饋系統(tǒng)實時調(diào)整激光參數(shù)，結(jié)合 M2 因子模塊優(yōu)化光束準直度，使激光聚焦精度達 ±2μm。工業(yè)加工場景中，千萬級功率測量能力與 ISO 標準參數(shù)輸出，幫助企業(yè)將激光切割熱影響區(qū)縮小 30%，提升加工精度達 ±5μm。掃描狹縫光斑分析儀有國產(chǎn)的嗎？近紅外光斑分析儀操作光斑分析儀維度光電...

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案，致力于為激光技術(shù)應用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜，融合掃描狹縫式（2.5μm-10mm 光斑）與相機式（400-1700nm 成像）兩大技術(shù)平臺，形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態(tài)監(jiān)測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認證的 M2 因子測試模塊，結(jié)合 AI 算法，實現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評估與預測。模塊化設(shè)計支持設(shè)備功能動態(tài)擴展，適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場景需求，助力客戶構(gòu)建智能化光束檢測體系。國產(chǎn)光斑分析儀哪個好？維度光電光斑分析儀全系列。維度光電光斑分...

相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復雜度： 1. 光斑尺寸 相機式：受限于 sensor 尺寸（≤10mm），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元）。 狹縫式：刀口模式可測小 2.5μm 光斑，適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機式： 6 片衰減片（BeamHere 標配），可測 1W，需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式：狹縫物理衰減機制支持近 10W 直接測量，無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機式：觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑，兼容性強。 狹縫式：需匹配掃描頻率與激光重頻，易丟失脈沖信息。 4. 光斑形...

維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和，而常規(guī)激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點。為解決這一問題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 高功率激光，保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片，可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設(shè)計和 C 口安裝，有鎖緊環(huán)可固定在任...

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設(shè)計實現(xiàn)三大優(yōu)勢： 雙模式自適應檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布，全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機制允許單次通過狹縫區(qū)域光，無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率，完整捕捉亞微米級光斑細節(jié)，避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪，...

維度光電BeamHere 光斑分析儀通過三大價值賦能激光應用： 效率提升：全自動化檢測流程（10 秒完成參數(shù)采集 + 1 分鐘生成報告），幫助企業(yè)將光束調(diào)試周期縮短 80% 成本優(yōu)化：雙技術(shù)方案覆蓋全尺寸光斑，避免多設(shè)備購置，典型客戶設(shè)備采購成本降** 65% 質(zhì)量升級：0.1μm 超高分辨率與 M2 因子分析，助力醫(yī)療激光設(shè)備能量均勻性提升至行業(yè) ±1.2% 典型應用場景： 工業(yè)：激光切割光束實時校準，減少 25% 的材料損耗 醫(yī)療：眼科激光手術(shù)光斑能量監(jiān)測，保障臨床安全性 科研：超快激光脈沖特性，推動新型激光器光斑分析儀應該怎么選？光斑位置光斑分析儀怎么收費光斑分析儀Dimension-L...

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案，致力于為激光技術(shù)應用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜，融合掃描狹縫式（2.5μm-10mm 光斑）與相機式（400-1700nm 成像）兩大技術(shù)平臺，形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態(tài)監(jiān)測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認證的 M2 因子測試模塊，結(jié)合 AI 算法，實現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評估與預測。模塊化設(shè)計支持設(shè)備功能動態(tài)擴展，適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場景需求，助力客戶構(gòu)建智能化光束檢測體系。光斑分析儀如何測量 M2 因子？beam here光斑分析儀國...

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為，覆蓋 190-2700nm 全光譜，可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限，捕捉亞微米級光斑細節(jié)。 技術(shù)優(yōu)勢： 雙模式智能適配：軟件自主切換刀口 / 狹縫模式，解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測：創(chuàng)新狹縫物理衰減機制，無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像：基于狹縫掃描原理，完整還原光斑能量分布，避免特征丟失 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束...

在激光應用領(lǐng)域，高功率光束檢測一直是個難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏，在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會飽和，常規(guī)激光器功率遠超此強度，不衰減光束不僅無法測量光斑信息，還可能損壞設(shè)備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 的高功率激光，無需額外衰減片。在此基礎(chǔ)上，還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件，可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配，可測功率超 1000W。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1，45° 傾斜設(shè)計，取樣率 4% - 5%，有 C 口安裝方式和鎖緊...

相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復雜度： 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式（2.5μm 精度） ≥55μm → 相機式（10mm 量程） 激光功率 ≥1W → 狹縫式（直接測量近 10W） ≤1W → 相機式（6 片衰減片適配） 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟） 非高斯 / 高階橫模 → 相機式（保留細節(jié)） 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機式（觸發(fā)同步） 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式（高精度掃描） 推薦組合： 場景：相機式 + 狹縫式組合，覆蓋全尺寸與復雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線：狹縫式（高功率）+ 相機式（動態(tài)監(jiān)測） ...