接觸角一般用θ表示測量結(jié)果：θ可以測量靜態(tài)和動態(tài)接觸角、靜態(tài)和半動態(tài)表面/界面張力、表面自由能和液滴。可用的液滴形狀有：固定液滴、懸浮液滴、后退接觸角、傾斜液滴、前進接觸角、捕獲氣泡。達因技術(shù)提供了一整套達因測試液體來測量表面能。使用dyne測試液可以快速簡便...

作為光學方法，光學接觸角測量儀的測量精度取決于圖片質(zhì)量和分析軟件。視頻光學接觸角測量儀使用一個高質(zhì)量的單色冷LED光源，在實際測試過種中，為了避免重力影響，我們都是應(yīng)用1微升到2微升的液滴進行測試，，為了避免小水滴揮發(fā)，使用冷光源可讓水滴蒸發(fā)量降低。同時，高分...

水滴角是指在氣、液、固三相交點處所做的氣-液界面的切線，切線在液體一方的與固-液交接線之間的夾角，是潤濕程度的主要量化方式.水滴角測試現(xiàn)如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用于石油工業(yè)、浮選工業(yè)、醫(yī)藥材料、芯片產(chǎn)業(yè)、低表面能無毒防污材料、油墨、化妝品、農(nóng)藥、印染、造紙、織物整理、洗...

接觸角測量儀在多個領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用，特別是在材料科學、生物醫(yī)學和表面工程等領(lǐng)域。在材料科學領(lǐng)域，接觸角測量儀被用于評估涂層、薄膜、纖維等材料的表面能和潤濕性。通過測量不同液體在材料表面的接觸角，可以了解材料的表面能分布和潤濕性能，從而為材料的設(shè)計和優(yōu)化提供重...

接觸角的概念：所謂接觸角就是固一液界面與氣一液界面之切線在三相點處的夾角。接觸角的大小決定了潤濕程度，接觸角本身取決于界面張力的相對大小。固體表面能被液體潤濕，接觸角越?。疂櫇裥栽酱?，鋪展性也愈大，當接觸角為零時，叫完全潤濕；固體表面不被液體潤濕，說明接觸角越...

等離子清洗機，作為現(xiàn)面處理技術(shù)中的佼佼者，其基本原理基于等離子體物理學。等離子體，作為物質(zhì)的第四態(tài)，由高度電離的氣體組成，其中包含了大量的電子、離子、自由基及中性粒子等活性成分。在等離子清洗機中，通過特定的放電方式（如射頻放電、微波放電或直流放電等），將工作氣...

等離子清洗機通過使用物理或化學方法，可以有效地清潔、活化或改性材料表面。對于陶瓷基板，等離子清洗的主要作用是去除表面的污垢、氧化物、層間介質(zhì)等雜質(zhì)，同時通過活化表面，提高其潤濕性和粘合性。陶瓷基板處理后的主要優(yōu)勢：1. 增強耐高溫性能：等離子清洗處理能夠去除陶...

汽車內(nèi)外飾件普遍呈彎曲、凹凸等非平面造型，在噴漆、粘接、涂覆工藝前，可使用等離子設(shè)備對汽車內(nèi)飾件、儀表板、儲物盒、天窗導軌、車燈等內(nèi)外飾件進行表面活化，確保后續(xù)工藝質(zhì)量。等離子表面處理具有處理效果均勻。無明火室溫處理，材料不易燙壞變形、環(huán)保無污染和適用范圍廣等...

等離子體在處理固體物質(zhì)的時候，會與固體物質(zhì)發(fā)生兩種發(fā)應(yīng)：物理反應(yīng)、化學反應(yīng)物理反應(yīng)：活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面被帶走?；瘜W反應(yīng)：大氣中的氧氣等離子的活性基因可以和處理物表面的有機物反應(yīng)產(chǎn)生二氧化碳和水，達到深度清潔作用，同時在表面產(chǎn)生更多羧基等親...

等離子清洗機通過使用物理或化學方法，可以有效地清潔、活化或改性材料表面。對于陶瓷基板，等離子清洗的主要作用是去除表面的污垢、氧化物、層間介質(zhì)等雜質(zhì)，同時通過活化表面，提高其潤濕性和粘合性。陶瓷基板處理后的主要優(yōu)勢：1.提高附著力：通過等離子清洗，陶瓷基板的表面...

等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表...

光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率，去膠效果太強容易造成基底損傷，影響整個產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術(shù)不斷選代更新，越來越多IC制造商開...

等離子清洗機，作為現(xiàn)面處理技術(shù)中的佼佼者，其基本原理基于等離子體物理學。等離子體，作為物質(zhì)的第四態(tài)，由高度電離的氣體組成，其中包含了大量的電子、離子、自由基及中性粒子等活性成分。在等離子清洗機中，通過特定的放電方式（如射頻放電、微波放電或直流放電等），將工作氣...

目前，在汽車發(fā)動機領(lǐng)域，油底殼與曲軸箱、曲軸箱與缸體等密封面通常采用硅膠密封，這些硅膠密封面常因殘留有機物(如珩磨油、切削液、清洗液等)造成硅膠的附著力不足，從而導致密封失效，發(fā)動機漏油。目前的常規(guī)工藝為涂膠前對涂膠面進行人工擦拭，而人工擦拭存在諸多缺點，無法...

什么是等離子體？等離子體（plasma）是由自由電子和帶電離子為主要成分的物資狀態(tài)。被稱為物資的第四態(tài)。如何產(chǎn)生等離子體？通常我們接觸到的等離子有三種方式：高溫（燃燒）、高壓（閃電）或者高頻、高壓源（等離子電源）下產(chǎn)生。等離子體在處理固體物質(zhì)的時候，會有固體物...

靜態(tài)接觸角：當液體在固體表面達到平衡時，氣液的界線與液固的界線之間的夾角稱為接觸角，此時為靜態(tài)接觸角；而動態(tài)接觸角，有多種狀態(tài)定義：其一，對于讓處于非平衡狀態(tài)的液滴在固體表面上自由鋪展，動態(tài)接觸角又分為前進角和后退角，這里可以適當附上前進后退角的概念，測試前進...

目前，在汽車發(fā)動機領(lǐng)域，油底殼與曲軸箱、曲軸箱與缸體等密封面通常采用硅膠密封，這些硅膠密封面常因殘留有機物(如珩磨油、切削液、清洗液等)造成硅膠的附著力不足，從而導致密封失效，發(fā)動機漏油。目前的常規(guī)工藝為涂膠前對涂膠面進行人工擦拭，而人工擦拭存在諸多缺點，無法...

汽車儲物盒在做靜電植絨時，通常會在基材上膠前加上一層底涂，以使膠水與儲物盒的粘接性更好。采用等離子體表面處理技術(shù)來替代上膠前的上底涂工藝，不僅可以活化表面提高粘接力，而且還能降低成本，工藝更加環(huán)保。為確保汽車車燈的長期使用壽命，必須對它們進行有效保護，防止水分...

汽車內(nèi)外飾件普遍呈彎曲、凹凸等非平面造型，在噴漆、粘接、涂覆工藝前，可使用等離子設(shè)備對汽車內(nèi)飾件、儀表板、儲物盒、天窗導軌、車燈等內(nèi)外飾件進行表面活化，確保后續(xù)工藝質(zhì)量。等離子表面處理具有處理效果均勻。無明火室溫處理，材料不易燙壞變形、環(huán)保無污染和適用范圍廣等...

在半導體制造行業(yè)，等離子清洗機被廣泛應(yīng)用于晶圓清洗、封裝前處理等環(huán)節(jié)。通過去除芯片表面的微小顆粒、有機物殘留和金屬離子等污染物，確保芯片的純凈度和可靠性，提高成品率和性能。在精密機械領(lǐng)域，等離子清洗技術(shù)用于清洗精密零件表面，去除油漬、銹跡和氧化物等，改善零件的...

等離子表面處理機的功能和特點表面活化：等離子體能夠活化物體表面，去除氧化層和有機雜質(zhì)，提高表面清潔度和粘接性。涂覆處理：通過等離子體輔助化學反應(yīng)，實現(xiàn)表面上的涂覆和鍍膜，提供耐磨、防腐、防氧化等功能。表面改性：等離子體能夠改變物體表面的化學結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，提高材料...

等離子清洗機(plasma cleaner)是高科技的一款表面處理設(shè)備，通過等離子體來達到表面處理的作用；獲得清洗、活化、刻蝕、涂層等多方向的應(yīng)用，解決各種行業(yè)的表面處理難題。1、等離子清洗機原理密閉的反應(yīng)腔體（真空室、真空腔體）被真空泵不斷抽氣，從1個標準大...

芯片封裝等離子體應(yīng)用包括用于晶圓級封裝的等離子體晶圓清洗、焊前芯片載體等離子體清洗、封裝和倒裝芯片填充。電極的表面性質(zhì)和抗組分結(jié)構(gòu)對顯示器的光電性能都有重要影響。為了保的像素形成和大的亮度，噴墨印刷的褶皺材料需要非常特殊的表面處理。這種表面工程是利用平面微波等...

在Mini LED封裝工藝中，針對不同污染物并根據(jù)基板及芯片材料的不同，采用不同的清洗工藝可以得到理想的效果，但是使用錯誤的工藝氣體方案，都會導致清潔效果不好甚至產(chǎn)品報廢。例如銀材料的芯片采用氧等離子工藝，則會被氧化發(fā)黑甚至報廢。一般情況下，顆粒污染物及氧化物...

在市場方面，隨著全球半導體市場的持續(xù)增長和國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，半導體封裝等離子清洗機的市場需求將持續(xù)增長。同時，隨著國內(nèi)半導體封裝等離子清洗機技術(shù)的不斷成熟和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展，國產(chǎn)設(shè)備的市場競爭力也將逐漸增強。綜上所述，半導體封裝等離子清洗機在半導體制...

等離子體在處理固體物質(zhì)的時候，會與固體物質(zhì)發(fā)生兩種發(fā)應(yīng)：物理反應(yīng)、化學反應(yīng)物理反應(yīng)：活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面被帶走?；瘜W反應(yīng)：大氣中的氧氣等離子的活性基因可以和處理物表面的有機物反應(yīng)產(chǎn)生二氧化碳和水，達到深度清潔作用，同時在表面產(chǎn)生更多羧基等親...

半導體封裝過程中，等離子清洗機扮演著至關(guān)重要的角色。在封裝前，芯片表面往往會殘留微量的有機物、金屬氧化物和微粒污染物，這些污染物不僅影響芯片的性能，還可能導致封裝過程中的失效。因此，清潔度成為了封裝工藝中不可或缺的一環(huán)。等離子清洗機利用高能等離子體對芯片表面進...

封裝過程中的污染物，可以通過離子清洗機處理，它主要是通過活性等離子體對材料表面進行物理轟擊或化學反應(yīng)來去除材料表面污染，但射頻等離子技術(shù)因處理溫度、等離子密度等技術(shù)因素，已無法滿足先進封裝的技術(shù)需求，因此，更推薦大家使用微波等離子清洗技術(shù)~微波等離子清洗機的優(yōu)...

光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率，去膠效果太強容易造成基底損傷，影響整個產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術(shù)不斷選代更新，越來越多IC制造商開...

接觸角一般用θ表示測量結(jié)果：θ可以測量靜態(tài)和動態(tài)接觸角、靜態(tài)和半動態(tài)表面/界面張力、表面自由能和液滴?？捎玫囊旱涡螤钣校汗潭ㄒ旱巍腋∫旱?、后退接觸角、傾斜液滴、前進接觸角、捕獲氣泡。達因技術(shù)提供了一整套達因測試液體來測量表面能。使用dyne測試液可以快速簡便...