海多吉濃又名幾奴尼,它的學(xué)名被稱作對苯二,它的顏色呈灰白或白色,一般是細(xì)針狀晶體,在20℃時每100毫升水中可溶解6克,其水溶液很易變黃,這是因?yàn)樗且籽趸奈镔|(zhì)。為了防止氧化,使其具有良好的顯影性能,一般的要在水中先溶解亞硫酸鈉,而后溶解海多吉濃。海多吉濃顯影作用較慢。尤其對曝光特別少的部分,作用甚微,但是一經(jīng)出現(xiàn)影像后,密度會增高很快,因此底片明暗或黑白差別非常大。具有高反差的顯影作用,在使用海多吉濃顯影液時,其溶液的PH值和溫度變化對顯影作用影響很大,所以,使用顯影液應(yīng)在一定溫度下顯影,以達(dá)穩(wěn)定的目的。它必須在堿性顯影液中才能顯影,在PH值為9.5~11范圍使用較好,PH值越大即堿性越是增強(qiáng),底片的密度和反差越大。顯影液的溫度如果低于10℃時,顯影作用非常緩慢,溫度很低時,幾乎不起顯影作用,但是如果溫度高于20℃時,顯影雖然快,但使底片很容易產(chǎn)生蒙翳。因此,使用時溫度應(yīng)在較穩(wěn)定的范圍內(nèi),它常與米吐爾合用,取長補(bǔ)短,從而達(dá)到了正確的顯影目的,在與米吐爾合用時,稱它們?yōu)镸—Q顯影液。 [2涂膠顯影機(jī)的工作原理主要涉及到硅片的光刻膠涂覆和顯影過程。無錫質(zhì)量涂膠顯影機(jī)推薦貨源
顯影是在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中,讓影像顯現(xiàn)的一個過程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的,反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時,顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時,在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下,色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分,吸附色粉的能力越強(qiáng);靜電潛像電位越低的部分,吸附色粉的能力越弱。對應(yīng)靜電潛像電位(電荷的多少)的不同,其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復(fù)印機(jī)中。錫山區(qū)挑選涂膠顯影機(jī)廠家價格根據(jù)測試結(jié)果調(diào)節(jié)壓力,保證網(wǎng)點(diǎn)還原。
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顯影機(jī)一般由傳動系統(tǒng)、顯影系統(tǒng)、沖洗系統(tǒng)、烘干系統(tǒng)、程序控制系統(tǒng)等部分組成。傳動系統(tǒng)傳動系統(tǒng)是引導(dǎo)印版運(yùn)行的驅(qū)動裝置。是由電機(jī)通過蝸輪蝸桿或鏈輪鏈條帶動傳送輥轉(zhuǎn)動,并通過對壓膠輥驅(qū)動使印版通過顯影機(jī)的各個工作環(huán)節(jié)。顯影系統(tǒng)印版顯影過程中,經(jīng)過循環(huán)顯影液均勻、連續(xù)地噴淋,將印版空白部位的感光層迅速溶解,有的顯影機(jī)還加有刷輥刷洗,加速這種溶解。為了保證顯影液在恒定條件下工作,此部分還有加熱器和冷卻器,可自動調(diào)節(jié)溫度(一般控制在25℃左右)。藥液自動循環(huán)過濾,保證各處藥液濃度和溫度均勻一致。自動化程度高:可以與光刻機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè),滿足工廠自動化生產(chǎn)的需求。
同時,系統(tǒng)可在不按下車型按扭情況下工作,操作工可自由選擇工件,可單件或幾種工件一起組合,按下相應(yīng)的工件指示燈(按扭式),相應(yīng)工件的自動檢測開關(guān)開始工作,紅燈亮,裝夾好相應(yīng)的工件后,工件到位檢測綠燈亮后,方可按下機(jī)器人起動按扭,機(jī)器人按檢測到的工件自動調(diào)用相應(yīng)的程序自動點(diǎn)膠;點(diǎn)膠完畢機(jī)器人自動復(fù)位,程序結(jié)束指示燈亮;同樣,如果不更改工件號或工件組合,系統(tǒng)將默認(rèn)上次程序內(nèi)容進(jìn)行工作直至更改工件或工件組合;干燥系統(tǒng)由送風(fēng)管和膠輥組成,通過吹風(fēng)和加熱使印版迅速干燥,將印版送出。江陰質(zhì)量涂膠顯影機(jī)銷售電話
每天擦洗膠輥(可能干凈的軟布沾顯影液擦冼);無錫質(zhì)量涂膠顯影機(jī)推薦貨源
涂膠顯影機(jī)(track)是一種用于半導(dǎo)體制造過程中光刻工藝的關(guān)鍵設(shè)備。以下是對涂膠顯影機(jī)的詳細(xì)介紹:一、工作原理涂膠顯影機(jī)的工作原理主要涉及到硅片的光刻膠涂覆和顯影過程。首先,將硅片放置在涂覆模塊下方,通過涂覆模塊將光刻膠均勻涂覆在硅片表面。然后,將硅片轉(zhuǎn)移到曝光模塊下方,利用光刻技術(shù)將圖案投射到光刻膠表面。曝光后,再將硅片轉(zhuǎn)移到顯影模塊下方,通過顯影模塊將未曝光區(qū)域的光刻膠去除,從而在硅片上形成所需的圖案結(jié)構(gòu)。二、主要功能無錫質(zhì)量涂膠顯影機(jī)推薦貨源
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