TIO制程藥劑費(fèi)用

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-29

ITO導(dǎo)電膜玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上,利用磁控濺射的方法沉積二氧化硅(SiO2)和氧化銦錫(通稱ITO)薄膜加工制作成的。ITO是一種具有良好透明導(dǎo)電性能的金屬化合物,具有禁帶寬、可見(jiàn)光譜區(qū)光透射率高和電阻率低等特性,普遍地應(yīng)用于平板顯示器件、太陽(yáng)能電池、特殊功能窗口涂層及其他光電器件領(lǐng)域,是目前LCD、PDP、OLED、觸摸屏等各類平板顯示器件獨(dú)特的透明導(dǎo)電電極材料。作為平板顯示器件的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料,其隨著平板顯示器件的不斷更新和升級(jí)而具有更加廣闊的市場(chǎng)空間。ITO彩色顯影劑有CD-2、CD-3、CD-4等。TIO制程藥劑費(fèi)用

溫度對(duì)ITO酸性氯化銅蝕刻液速率的影響:隨著溫度的升高,蝕刻速率加快,但是溫度也不宜過(guò)高,一般控制在45~55℃范圍內(nèi)。溫度太高會(huì)引起HCl過(guò)多地?fù)]發(fā),造成溶液組分比例失調(diào)。另外,如果蝕刻液溫度過(guò)高,某些抗蝕層會(huì)被損壞。溫度對(duì)ITO堿性氯化銅蝕刻液速率的影響:蝕刻速率與溫度有很大關(guān)系,蝕刻速率隨著溫度的升高而加快。蝕刻液溫度低于40℃,蝕刻速率很慢,而蝕刻速率過(guò)慢會(huì)增大側(cè)蝕量,影響蝕刻質(zhì)量;溫度高于60℃,蝕刻速率明顯增大,但NH3的揮發(fā)量也很大程度增加,導(dǎo)致污染環(huán)境并使蝕刻液中化學(xué)組分比例失調(diào)。故溫度一般控制在45~55℃為宜。蘇州TIO清潔藥劑經(jīng)銷商為什么要選擇ITO藥水?

影響ITO蝕刻液側(cè)蝕的因素很多,下面概述幾點(diǎn):1)蝕刻速率:蝕刻速率慢會(huì)造成嚴(yán)重側(cè)蝕。蝕刻質(zhì)量的提高與蝕刻速率的加快有很大關(guān)系。蝕刻速度越快,板子在蝕刻液中停留的時(shí)間越短,側(cè)蝕量越小,蝕刻出的圖形清晰整齊。2)蝕刻液的PH值:堿性蝕刻液的PH值較高時(shí),側(cè)蝕增大。為了減少側(cè)蝕,一般PH值應(yīng)控制在8.5以下。3)蝕刻液的密度:堿性蝕刻液的密度太低會(huì)加重側(cè)蝕,選用高銅濃度的蝕刻液對(duì)減少側(cè)蝕是有利的。6)銅箔厚度:要達(dá)到較小側(cè)蝕的細(xì)導(dǎo)線的蝕刻,盡量采用(超)薄銅箔。而且線寬越細(xì),銅箔厚度應(yīng)越薄。因?yàn)?,銅箔越薄在蝕刻液中的時(shí)間越短,側(cè)蝕量就越小。

ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。市場(chǎng)上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時(shí)需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來(lái)表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當(dāng)溫度22℃,顯影時(shí)間為60秒時(shí),PD型顯影液濃度對(duì)PS版性能的影響。當(dāng)顯影液濃度過(guò)大時(shí),往往因顯影速度過(guò)快而使顯影操作不易控制;特別是它對(duì)圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng),容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊??;同時(shí)空白部位的氧化膜和封孔層也會(huì)受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。當(dāng)顯影液的濃度偏低時(shí),堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。ITO顯影液在市場(chǎng)上銷售的多是濃縮型液體。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:堿性氯化銅蝕刻液。溶液pH值的影響。蝕刻液的pH值應(yīng)保持在8.0~8.8之間,當(dāng)pH值降到8.0以下時(shí),一方面對(duì)金屬抗蝕層不利;另一方面,蝕刻液中的銅不能被完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子,溶液要出現(xiàn)沉淀,并在槽底形成泥狀沉淀,這些泥狀沉淀能在加熱器上結(jié)成硬皮,可能損壞加熱器,還會(huì)堵塞泵和噴嘴,給蝕刻造成困難。如果溶液pH值過(guò)高,蝕刻液中氨過(guò)飽和,游離氨釋放到大氣中,導(dǎo)致環(huán)境污染;同時(shí),溶液的pH值增大也會(huì)增大側(cè)蝕的程度,從而影響蝕刻的精度。ITO蝕刻液是一種無(wú)色透明的液體,無(wú)刺激性氣味,有輕微腐蝕性。江蘇ITO化學(xué)藥水廠家供貨

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TIO蝕刻液的基本信息:(1)配方。①熱水12g,氟化銨15g,草酸8g,硫酸銨10g,甘油40g,硫酸鋇15g;②氟化銨15g,草酸7g,硫酸銨8g,硫酸鈉14g,甘油35g,水10g;③氫氟酸60(體積數(shù),下同),硫酸10,水30。(2)配制方法。配制蝕刻液①和②時(shí),將上述原料與60℃熱水混合,攪拌均勻即可。配置時(shí)不要使溶液濺到皮膚上,而且操作時(shí)應(yīng)戴上口罩。配制蝕刻液③時(shí),按配方將氫氟酸和硫酸混合,然后將混合液倒入水中(不能將水倒入混合液),并不斷攪拌。(3)使用方法。使用刻蝕液①或②時(shí),把要蝕刻的玻璃洗凈、晾干,建議用電爐或紅外線燈將玻璃稍微加熱,以便于蝕刻。蝕刻時(shí),用毛筆蘸蝕刻液書寫文字或圖案于玻璃上,2min蝕刻工作即完成。制作毛玻璃時(shí),將玻璃洗凈、晾干,用刷子均勻涂上腐蝕液即可。TIO制程藥劑費(fèi)用