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來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-06-22

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎?,是一種X光無法穿透的藥劑,用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時(shí)能看得更清楚。例如消化道攝影時(shí),醫(yī)師會(huì)讓患者喝下一杯顯影劑溶液(大多含鋇),然后用各種角度照相,就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強(qiáng)較大的地方產(chǎn)生游離銀,而對底片不做進(jìn)一步處理,則把它一拿出暗室,未顯影的鹵化銀就會(huì)立刻曝光。此后,幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個(gè)問題,必須找到一種適當(dāng)?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子(S2O32-)與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物,因而達(dá)到“固定”底片的目的。ITO酸性蝕刻液較容易再生與回收,從而減少污染。南通TIO銅網(wǎng)格黑化

影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:溶液pH值的影響。蝕刻液的pH值應(yīng)保持在8.0~8.8之間,當(dāng)pH值降到8.0以下時(shí),一方面對金屬抗蝕層不利;另一方面,蝕刻液中的銅不能被完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子,溶液要出現(xiàn)沉淀,并在槽底形成泥狀沉淀,這些泥狀沉淀能在加熱器上結(jié)成硬皮,可能損壞加熱器,還會(huì)堵塞泵和噴嘴,給蝕刻造成困難。如果溶液pH值過高,蝕刻液中氨過飽和,游離氨釋放到大氣中,導(dǎo)致環(huán)境污染;同時(shí),溶液的pH值增大也會(huì)增大側(cè)蝕的程度,從而影響蝕刻的精度。網(wǎng)格發(fā)黑費(fèi)用ITO黑白顯影劑是硫酸對甲氨基苯酚、對苯二酚等。

ITO導(dǎo)電玻璃制造工藝:(1)電化學(xué)擴(kuò)散工藝:在玻璃上用電化學(xué)擴(kuò)散方法可獲得摻雜超導(dǎo)薄膜。玻璃在電化學(xué)處理裝置中與熔融金屬或化合物接觸,在一定的電場作用下,熔融金屬或化合物中的離子會(huì)擴(kuò)散到玻璃表面,玻璃中的一價(jià)堿金屬離子離解處來,等量地?cái)U(kuò)散至陰極表面,使玻璃表面的化學(xué)組成發(fā)生變化。性能隨之改變。(2)高溫噴涂和等離子體噴涂工藝:這種技術(shù)是將粉末狀金屬或非金屬、無機(jī)材料加熱至熔化或未熔化狀態(tài),并進(jìn)一步加溫使其霧化,形成高溫高速焰流噴向需噴涂的玻璃基體。采用這種方式可以先在基體上制備YBaGUOx等涂層,在經(jīng)過熱處理可成為超導(dǎo)性材料。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:氯化鐵蝕刻液。1、Fe3+濃度的影響:Fe3+的濃度對蝕刻速率有很大的影響。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加,對銅的蝕刻速率相應(yīng)加快。當(dāng)所含超過某一濃度時(shí),由于溶液粘度增加,蝕刻速率反而有所降低。2、蝕刻液溫度的影響:蝕刻液溫度越高,蝕刻速率越快,溫度的選擇應(yīng)以不損壞抗蝕層為原則,一般在40~50℃為宜。3、鹽酸添加量的影響:在蝕刻液中加入鹽酸,可以阻止FeCl3水解,并可提高蝕刻速率,尤其是當(dāng)溶銅量達(dá)到37.4g/L后,鹽酸的作用更明顯。但是鹽酸的添加量要適當(dāng),酸度太高,會(huì)導(dǎo)致液態(tài)光致抗蝕劑涂層的破壞。4、蝕刻液的攪拌:靜止蝕刻的效率和質(zhì)量都是很差的,原因是在蝕刻過程中在板面和溶液里會(huì)有沉淀生成,而使溶液呈暗綠色,這些沉淀會(huì)影響進(jìn)一步的蝕刻。ITO顯影液主要是用硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀等硼酸、對苯二酚配合組成的一種特殊的用材。

影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長;在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。2、氯化銨含量的影響:通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會(huì)降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。ITO顯影劑可以一刷成像。ITO藥劑哪家性價(jià)比高

ITO蝕刻液可以說是通過侵蝕材料的特性來進(jìn)行雕刻的一種液體。南通TIO銅網(wǎng)格黑化

溫度對ITO酸性氯化銅蝕刻液速率的影響:隨著溫度的升高,蝕刻速率加快,但是溫度也不宜過高,一般控制在45~55℃范圍內(nèi)。溫度太高會(huì)引起HCl過多地?fù)]發(fā),造成溶液組分比例失調(diào)。另外,如果蝕刻液溫度過高,某些抗蝕層會(huì)被損壞。溫度對ITO堿性氯化銅蝕刻液速率的影響:蝕刻速率與溫度有很大關(guān)系,蝕刻速率隨著溫度的升高而加快。蝕刻液溫度低于40℃,蝕刻速率很慢,而蝕刻速率過慢會(huì)增大側(cè)蝕量,影響蝕刻質(zhì)量;溫度高于60℃,蝕刻速率明顯增大,但NH3的揮發(fā)量也很大程度增加,導(dǎo)致污染環(huán)境并使蝕刻液中化學(xué)組分比例失調(diào)。故溫度一般控制在45~55℃為宜。南通TIO銅網(wǎng)格黑化

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