無錫IC去膠清洗劑銷售

來源: 發(fā)布時間:2023-06-07

IC除銹活化劑溶液,其特征在于:包含百分比含量為15-40%的硫酸,百分比含量為2-20%的鹽酸,百分比含量為5-25%的過一硫酸氫鉀,百分比含量為0。1-1%的脂肪醇聚氧乙烯醚,其余為水。本發(fā)明具有危害性較小,適用性較廣,除銹活化速度快的優(yōu)點。性能優(yōu)良:本品可快速去除金屬表面上的油、銹和非金屬表面上的油污,無氫脆和過腐蝕現(xiàn)象,并有防灰功能。本品對鐵離子容忍性大,使用壽命極長,并可循環(huán)添加使用。工藝簡單:除油去銹、活化同步進行,一步完成,只需綜合處理→水洗兩道工序。IC封裝藥水對表面的深層頑固污漬的去除有效果。無錫IC去膠清洗劑銷售

STM-C190變色防止劑,STM-C190可直接取代磷酸三鈉中和處理制程。配比濃度(5%-10%),消耗很低。在錫表面沉積一層有機薄膜,可改善鍍層因儲存或熱處理(烘烤、Reflow)造成的外觀變色狀況。STM-C160除銹活化劑,單劑操作,配比濃度20-40%。適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy不含H2O2,藥液維護容易。微蝕均一性好,藥劑穩(wěn)定性良好。STM-C150除銹活化劑單劑操作,配比濃度20-40%。適用于各種Cu-alloy、Fe-Ni-alloy、Ni。不含H202,藥液維護容易。微蝕均一性好,藥劑穩(wěn)定性良好。蘇州電子元件清洗劑供應(yīng)商IC封裝藥水在錫表面沉積一層有機薄膜,可改善鍍層因儲存或熱處理造成的外觀變色狀況。

在執(zhí)行晶圓的前、后段工藝過程時,晶圓需要經(jīng)過無數(shù)次的IC清潔劑清洗步驟,其次數(shù)取決于晶圓的設(shè)計和互連的層數(shù)。此外,由于清洗工藝過程要剝離晶圓表面的光刻膠,同時還必須去除復(fù)雜的腐蝕殘余物質(zhì),金屬顆粒以及其他污染物等,所以清洗過程是及其復(fù)雜的過程。清洗介質(zhì)的選擇從濕法清洗的實踐中,越來越多出現(xiàn)難于解決的問題時,迫使科技人員探索和尋找替代的技術(shù),除了如增加超聲頻率(采用MHz技術(shù))等補救方法之外,選擇的途徑就是選擇氣相清洗技術(shù)來替代(熱氧化法、等離子清洗法等)。

IC封裝藥液適用于金屬表面,塑料表面,玻璃表面等的清洗和光亮,可以高效去除其表面的松香焊藥,吸塑膠以及墻上粘貼的膠紙,并且有很好的光亮效果。對表面的深層頑固污漬的去除有很好的效果。可采用浸泡法和擦拭法進行除膠。浸泡十分鐘~3小時后,取出工件,再用棉布或軟毛刷將粘膠剝離擦除。由多種進口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑,針對去除切割工藝的膠粘合劑特別研制。具有除膠速度快,除膠徹底,工作溫度低等優(yōu)點。按比例稀釋成工作液后,加熱至40-60度,浸泡4-6分鐘IC封裝藥水使用簡單,常溫浸泡,封閉前無需干燥產(chǎn)品。

翻新處理過程中,清洗是比較重要的環(huán)節(jié),由于電路板與IC芯片等元器件回收來源復(fù)雜,表面污染物差異很大,除了常見的三防漆、松香殘留、油脂、導(dǎo)電膠、導(dǎo)熱膏、灰塵、設(shè)備長期運行產(chǎn)生的積碳等,還會混有其他生活和工業(yè)垃圾所帶來的各種污染物。目前常用的主流環(huán)保清洗方法有以碳氫清洗劑為主的溶劑類清洗及高效水基清洗,碳氫清洗方法運行成本較高;水基清洗對某些污染物的去除能力有限,同時需要配置烘干環(huán)節(jié)。如正確選用合適的IC清潔劑,一般情況下可做到成本與清潔效果的兼顧。STM-C160除銹活化劑,單劑操作,配比濃度20-40%。江蘇IC鍍錫藥劑專業(yè)生產(chǎn)廠家

IC封裝藥水不影響鍍層的導(dǎo)電性、可焊性,保持鍍層外觀潔白光亮。無錫IC去膠清洗劑銷售

IC除銹劑使用方法及注意事項:浸泡法:優(yōu)點是可以在表面形成均勻的防銹膜,保證產(chǎn)品的完全覆蓋,成本較低,缺點是只適用于小型產(chǎn)品,使用低粘度的防銹油,浸泡槽必須有很好排水系統(tǒng)。噴霧法:適用于大型且結(jié)構(gòu)復(fù)雜的產(chǎn)品,必須使用高效能的噴霧器,容易出現(xiàn)產(chǎn)品未能完全形成防銹膜,使用時工作環(huán)境要求通風性能要好。刷涂法:此方法使用簡單,但是必須要確保工件的每一個位置都有刷涂到,使用前刷子必需保持清潔。沖洗法:效率高,循環(huán)使用,可節(jié)省成本,但是需要定期對槽內(nèi)的產(chǎn)品進行排水以及定期進行更換,避免水分及其他物質(zhì)過多影響防銹效果。無錫IC去膠清洗劑銷售

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