ITO酸性蝕刻液用途可用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作;而堿性蝕刻液一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻。而總的來(lái)說(shuō),堿性與酸性蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。ITO酸性蝕刻液的蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染;而堿性蝕刻液的蝕刻速率快,側(cè)蝕??;溶銅能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低。ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎?。觸摸屏網(wǎng)格黑化制造商
ITO蝕刻液是通過(guò)侵蝕材料的特性來(lái)進(jìn)行雕刻的一種液體,是一種銅版畫(huà)雕刻用原料。從理論上講,凡能氧化鋼而生成可溶性銅鹽的試劑,都可以用來(lái)蝕刻敷銅箔板,但是ITO蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。對(duì)于ITO蝕刻液用法的理解,我們可以用個(gè)比較通俗的說(shuō)法,那就是使用具有腐蝕性的一些化學(xué)材料對(duì)某種物品進(jìn)行腐蝕,將不需要的部分腐蝕掉,從而將其雕刻成所需要的目標(biāo)物品的過(guò)程。那這個(gè)具有腐蝕性的化學(xué)材料,就稱為ITO蝕刻液了蘇州TIO銅網(wǎng)格黑化零售價(jià)ITO彩色顯影劑有CD-2、CD-3、CD-4等。
ITO蝕刻廢液的處理具體特點(diǎn):第1、印制板廠的廢蝕刻液不必再由外單位拉走,在廠內(nèi)就可直接銅回收和廢蝕刻液的循環(huán)使用。實(shí)現(xiàn)了清潔生產(chǎn),不會(huì)對(duì)環(huán)境造成任何污染,符合國(guó)家法律政策。第二、印制板廠蝕刻機(jī)的氨洗水,也同時(shí)獲得了再生回用,或可實(shí)現(xiàn)無(wú)污染排放。第三、很大程度減輕了印制板廠廢水處理站的運(yùn)行負(fù)荷,降低運(yùn)行成本。第四、變廢為寶,為企業(yè)帶來(lái)良好的經(jīng)濟(jì)效益。第五、自主研制、開(kāi)發(fā)、制造、安裝、調(diào)試,全套設(shè)備采用PLC數(shù)字控制,易操作管理。第六、落實(shí)了國(guó)家《清潔生產(chǎn)促進(jìn)法》,樹(shù)立科學(xué)發(fā)展觀,創(chuàng)造人和自然的和諧發(fā)展,實(shí)現(xiàn)“資源再生,循環(huán)經(jīng)濟(jì)”的可持續(xù)經(jīng)濟(jì)發(fā)展目標(biāo),有著非常重要的意義。
ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。市場(chǎng)上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時(shí)需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來(lái)表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當(dāng)溫度22℃,顯影時(shí)間為60秒時(shí),PD型顯影液濃度對(duì)PS版性能的影響。當(dāng)顯影液濃度過(guò)大時(shí),往往因顯影速度過(guò)快而使顯影操作不易控制;特別是它對(duì)圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng),容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊??;同時(shí)空白部位的氧化膜和封孔層也會(huì)受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。當(dāng)顯影液的濃度偏低時(shí),堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。ITO顯影液用于黑白膠片顯影的顯影液稱黑白顯影液。
影響ITO酸性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu+含量的影響:根據(jù)蝕刻反應(yīng)機(jī)理,隨著銅的蝕刻就會(huì)形成一價(jià)銅離子。較微量的Cu+就會(huì)明顯的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個(gè)低的范圍內(nèi)。2、Cu2+含量的影響:溶液中的Cu2+含量對(duì)蝕刻速率有一定的影響。一般情況下,溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時(shí),蝕刻速率較低;在2mol/L時(shí)速率較高。隨著蝕刻反應(yīng)的不斷進(jìn)行,蝕刻液中銅的含量會(huì)逐漸增加。當(dāng)銅含量增加到一定濃度時(shí),蝕刻速率就會(huì)下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率,必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內(nèi)。ITO顯影劑的黑白顯影是使曝光后產(chǎn)生的潛影鹵化銀顆粒還原成金屬銀影像。蘇州TIO顯影液現(xiàn)貨
ITO蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量的特性。觸摸屏網(wǎng)格黑化制造商
影響ITO蝕刻液側(cè)蝕的因素很多,下面概述幾點(diǎn):1)蝕刻速率:蝕刻速率慢會(huì)造成嚴(yán)重側(cè)蝕。蝕刻質(zhì)量的提高與蝕刻速率的加快有很大關(guān)系。蝕刻速度越快,板子在蝕刻液中停留的時(shí)間越短,側(cè)蝕量越小,蝕刻出的圖形清晰整齊。2)蝕刻液的PH值:堿性蝕刻液的PH值較高時(shí),側(cè)蝕增大。為了減少側(cè)蝕,一般PH值應(yīng)控制在8.5以下。3)蝕刻液的密度:堿性蝕刻液的密度太低會(huì)加重側(cè)蝕,選用高銅濃度的蝕刻液對(duì)減少側(cè)蝕是有利的。6)銅箔厚度:要達(dá)到較小側(cè)蝕的細(xì)導(dǎo)線的蝕刻,盡量采用(超)薄銅箔。而且線寬越細(xì),銅箔厚度應(yīng)越薄。因?yàn)?,銅箔越薄在蝕刻液中的時(shí)間越短,側(cè)蝕量就越小。觸摸屏網(wǎng)格黑化制造商
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