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來源: 發(fā)布時間:2022-10-29

ITO膜層的主要成份是氧化銦錫。在厚度只有幾千埃的情況下,氧化銦透過率高,氧化錫導電能力強,液晶顯示器所用的ITO玻璃正是一種具有高透過率的導電玻璃。由于ITO具有很強的吸水性,所以會吸收空氣中的水份和二氧化碳并產生化學反應而變質,俗稱“霉變”,因此在存放時要防潮。ITO層在活性正價離子溶液中易產生離子置換反應,形成其它導電和透過率不佳的反應物質,所以在加工過程中,盡量避免長時間放在活性正價離子溶液中。ITO層由很多細小的晶粒組成,晶粒在加溫過程中會裂變變小,從而增加更多晶界,電子突破晶界時會損耗一定的能量,所以ITO導電玻璃的ITO層在600度以下會隨著溫度的升高,電阻也增大。ITO顯影液質量的優(yōu)劣,直接影響電子產品的質量。江蘇網格發(fā)黑價格

ITO蝕刻液是通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體。從理論上講,凡能氧化銅而生成可溶性銅鹽的試劑,都可以用來蝕刻敷銅箔板,但權衡對抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,蝕刻系數、溶銅容量、溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護及經濟效果等方面。已經使用的蝕刻液類型有六種類型:酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅,工藝體系,根據添加不同的氧化劑又可細分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,在生產過程中通過補加鹽酸+空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來實現線路板板的連續(xù)蝕刻生產。江蘇TIO蝕刻藥水供應企業(yè)ITO顯影液的濃度偏低時,堿性弱,顯影速度慢,易出現顯影不凈、版面起臟、暗調小白點糊死等現象。

ITO蝕刻廢液的處理法:目前通行的做法是,在各印制板廠內儲存起來,放在密封的池子或儲罐內等待外單位拉走處理。外單位一般是經當地環(huán)保部門審批過有資質的回收公司,他們把廢液拉回去后,使用化學方法(中和法、電解法、置換法)回收廢液內的銅,或提煉成硫酸銅產品。這些方法,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經濟效益不明顯,有二次污染污染物排放。特別是堿性蝕刻,由于有大量的氨離子存在,一旦處理不當往外排放,勢必對水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。

TIO蝕刻液的基本信息:(1)配方。①熱水12g,氟化銨15g,草酸8g,硫酸銨10g,甘油40g,硫酸鋇15g;②氟化銨15g,草酸7g,硫酸銨8g,硫酸鈉14g,甘油35g,水10g;③氫氟酸60(體積數,下同),硫酸10,水30。(2)配制方法。配制蝕刻液①和②時,將上述原料與60℃熱水混合,攪拌均勻即可。配置時不要使溶液濺到皮膚上,而且操作時應戴上口罩。配制蝕刻液③時,按配方將氫氟酸和硫酸混合,然后將混合液倒入水中(不能將水倒入混合液),并不斷攪拌。(3)使用方法。使用刻蝕液①或②時,把要蝕刻的玻璃洗凈、晾干,建議用電爐或紅外線燈將玻璃稍微加熱,以便于蝕刻。蝕刻時,用毛筆蘸蝕刻液書寫文字或圖案于玻璃上,2min蝕刻工作即完成。制作毛玻璃時,將玻璃洗凈、晾干,用刷子均勻涂上腐蝕液即可。ITO顯影劑是一種涂在玻璃上的納米技術。

ITO導電玻璃制造工藝:(1)電化學擴散工藝:在玻璃上用電化學擴散方法可獲得摻雜超導薄膜。玻璃在電化學處理裝置中與熔融金屬或化合物接觸,在一定的電場作用下,熔融金屬或化合物中的離子會擴散到玻璃表面,玻璃中的一價堿金屬離子離解處來,等量地擴散至陰極表面,使玻璃表面的化學組成發(fā)生變化。性能隨之改變。(2)高溫噴涂和等離子體噴涂工藝:這種技術是將粉末狀金屬或非金屬、無機材料加熱至熔化或未熔化狀態(tài),并進一步加溫使其霧化,形成高溫高速焰流噴向需噴涂的玻璃基體。采用這種方式可以先在基體上制備YBaGUOx等涂層,在經過熱處理可成為超導性材料。ITO堿性蝕刻液的密度太低會加重側蝕。江蘇TIO清潔劑哪里有賣

ITO酸性蝕刻液較容易再生與回收,從而減少污染。江蘇網格發(fā)黑價格

影響ITO酸性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu+含量的影響:根據蝕刻反應機理,隨著銅的蝕刻就會形成一價銅離子。較微量的Cu+就會明顯的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個低的范圍內。2、Cu2+含量的影響:溶液中的Cu2+含量對蝕刻速率有一定的影響。一般情況下,溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時,蝕刻速率較低;在2mol/L時速率較高。隨著蝕刻反應的不斷進行,蝕刻液中銅的含量會逐漸增加。當銅含量增加到一定濃度時,蝕刻速率就會下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率,必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內。江蘇網格發(fā)黑價格

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