IC清潔劑不燃燒、不炸裂，使用安全；清洗劑可以蒸餾回收，反復(fù)使用，比較經(jīng)濟(jì)；清洗工藝流程也與ODS清洗劑相同。烴類(lèi)清洗工藝特點(diǎn)：烴類(lèi)即碳?xì)浠衔铮^(guò)去把通過(guò)蒸餾原油而得的汽油、煤油作為清洗劑使用。烴類(lèi)隨碳數(shù)的增加而閃點(diǎn)提高，增加了安全性，但是干燥性不好；干燥性好的，使用上又不太安全，故兩者十分矛盾。當(dāng)然，作為清洗劑應(yīng)盡量選用防火安全性好的、閃點(diǎn)比較高的清洗劑。其清洗工藝特點(diǎn)是：對(duì)油脂類(lèi)污物清洗能力很強(qiáng)，洗凈能力持久性強(qiáng)，且表面張力低，對(duì)細(xì)縫、細(xì)孔部分清洗效果好。IC封裝藥水作用時(shí)在金屬表面生成一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的。江蘇IC封裝表面處理
有機(jī)物的去除常常在清洗工序的第1步進(jìn)行，金屬污染物：IC電路制造過(guò)程中采用金屬互連材料將各個(gè)單獨(dú)的器件連接起來(lái)，首先采用光刻、蝕刻的方法在絕緣層上制作接觸窗口，再利用蒸發(fā)、濺射或化學(xué)汽相沉積(CVD)形成金屬互連膜，如A-Si，Cu等，通過(guò)蝕刻產(chǎn)生互連線，然后對(duì)沉積介質(zhì)層進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光（CMP)。這個(gè)過(guò)程對(duì)IC制程也是一個(gè)潛在的污染過(guò)程，在形成金屬互連的同時(shí)，也產(chǎn)生各種金屬污染。必須采取相應(yīng)的措施去除金屬污染物。原生氧化物及化學(xué)氧化物：硅原子非常容易在含氧氣及水的環(huán)境下氧化形成氧化層，稱(chēng)為原生氧化層。IC剝錫藥水銷(xiāo)售IC封裝藥水在錫表面沉積一層有機(jī)薄膜，可改善鍍層因儲(chǔ)存或熱處理造成的外觀變色狀況。
半水清洗主要采用有機(jī)溶劑和去離子水，再加上一定量的活性劑、添加劑所組成的清洗劑。該類(lèi)清洗介于溶劑清洗和水清洗之間。這些IC清潔劑都屬于有機(jī)溶劑，屬于可燃性溶劑，閃點(diǎn)比較高，毒性比較低，使用上比較安全，但是須用水進(jìn)行漂洗，然后進(jìn)行烘干。有些清洗劑中添加5%~20%的水和少量表面活性劑，既降低了可燃性，又可使漂洗更為容易。半水清洗工藝特點(diǎn)是：清洗能力比較強(qiáng)，能同時(shí)除去極性污染物和非極性污染物，洗凈能力持久性較強(qiáng)；清洗和漂洗使用兩種不同性質(zhì)的介質(zhì)，漂洗一般采用純水，漂洗后要進(jìn)行干燥。
IC封裝藥液油性封閉劑：閃點(diǎn)（40度）相比有機(jī)封閉劑低，不可兌水使用，使用安全，環(huán)保，無(wú)鉻，無(wú)排放；使用前需干燥新產(chǎn)品；使用壽命長(zhǎng)，可循環(huán)使用，無(wú)需更換；產(chǎn)品封閉處理后，表面為全干性，少量油感，不影響產(chǎn)品后期的導(dǎo)電與焊接性能，耐腐蝕性能提高5-40倍。具有光澤度高，良好的罩光作用。單組分產(chǎn)品，施工方便，附著力強(qiáng)，豐滿度好，保光、保色效果好，耐久，很好的耐候性，為耐黃變產(chǎn)品，可用水調(diào)節(jié)粘度，使用安全方便，經(jīng)濟(jì)使用。經(jīng)兩到四分鐘浸漬后，在金制品或金鍍層表面形成一層單分子膜厚度的防氧化保護(hù)層，依使用運(yùn)輸和儲(chǔ)存條件的不同，在1-3年內(nèi)可防止表面形成硫化物。IC封裝藥水使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達(dá)到防腐蝕的作用。
除銹后的工件自然晾干或晾干。需要油漆的工件應(yīng)在干燥后使用磷化液涂上表面，然后上油漆。IC除銹劑也有保護(hù)作用，因此為了獲得較佳效果，可以根據(jù)工作條件選擇系列(油溶、水溶、硬膜、脫水)好的IC除銹劑。使用一段時(shí)間后，要及時(shí)清理表面的泡沫和沉淀物，進(jìn)行濃度測(cè)試分析，及時(shí)補(bǔ)充新的IC除銹劑，保證除銹效果。IC除銹劑不傷害皮膚，長(zhǎng)期接觸時(shí)，應(yīng)采取適當(dāng)?shù)膭趧?dòng)保護(hù)措施(眼鏡、橡膠手套、勞動(dòng)防護(hù)服、膠鞋)，確保操作員的安全。IC除銹劑不能接觸眼睛，如果意外接觸液體，必須立即用水沖洗或接受療養(yǎng)。IC封裝藥水有機(jī)封閉劑：閃點(diǎn)高（110度），可水溶性，不易燃燒，使用安全，環(huán)保，無(wú)鉻，無(wú)排放。南京IC封裝表面處理液現(xiàn)貨
IC封裝藥水能通過(guò)硫化氫和鹽霧測(cè)試48小時(shí)以上。江蘇IC封裝表面處理
IC清潔劑在諸多的清洗工序中，只要其中某一工序達(dá)不到要求，則將前功盡棄，導(dǎo)致整批芯片的報(bào)廢，所以可以毫不夸張地說(shuō)，沒(méi)有有效的清洗技術(shù)，便沒(méi)有集成電路和超大規(guī)模集成電路的現(xiàn)在。傳統(tǒng)清洗技術(shù)主要使用酸、堿、雙氧水、甲苯、三氯乙烯、氟利昂等化學(xué)試劑，成本高，而且有毒，有腐蝕性，危害安全與健康并污染環(huán)境，特別是氟利昂等ODS物質(zhì)研究破壞地球臭氧層，危及人類(lèi)生態(tài)環(huán)境，是國(guó)際上限期禁止生產(chǎn)和使用的物質(zhì)。多年來(lái)，國(guó)內(nèi)外科學(xué)家就致力于研究無(wú)毒，無(wú)腐蝕性的清洗工藝，但尚未取得突破。江蘇IC封裝表面處理