D8DISCOVER特點(diǎn):微焦源IμS配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線束,非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì):低功耗、無(wú)耗水、使用壽命延長(zhǎng)3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線源,用于產(chǎn)生X射線。6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管,可實(shí)現(xiàn)線焦斑或點(diǎn)焦斑。7.專(zhuān)業(yè)的TWIST-TUBE(旋轉(zhuǎn)光管)技術(shù),可快速簡(jiǎn)便地切換線焦斑和點(diǎn)焦斑。8.微焦斑X射線源(IμS)可提高極小焦斑面積上的X射線通量,而功耗卻很低。9.TURBOX射線源(TXS)旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極可為線焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線通量。10.性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù),可提供無(wú)出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源(TXS-HE)可為點(diǎn)焦斑和線焦斑應(yīng)用提供比較高X射線通量,適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結(jié)合指定使用X射線光學(xué)元件,可高效捕獲X射線,并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線束。X射線反射法、掠入射衍射(GID)、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析。合肥取向檢測(cè)分析
石墨化度分析引言石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結(jié)構(gòu)的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點(diǎn)陣參數(shù),石墨化度就愈高。布魯克XRD衍射儀推薦咨詢憑借RapidRSM技術(shù),能在 短的時(shí)間內(nèi),測(cè)量大面積倒易空間。在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行倒易點(diǎn)陣轉(zhuǎn)換和分析。
布魯克獨(dú)有的DBO功能為X射線衍射的數(shù)據(jù)質(zhì)量樹(shù)立了全新的重要基準(zhǔn)。馬達(dá)驅(qū)動(dòng)發(fā)散狹縫、防散射屏和可變探測(cè)器窗口的自動(dòng)同步功能,可為您提供的數(shù)據(jù)質(zhì)量——尤其是在低2?角度時(shí)。除此之外,LYNXEYE全系列探測(cè)器均支持DBO:SSD160-2,LYNXEYE-2和LYNXEYEXE-T。LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測(cè)器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上的一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測(cè)器,適用于所有波長(zhǎng)(從Cr到Ag),具有準(zhǔn)確的計(jì)數(shù)率和角分辨率,是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。
超薄HfO2薄膜XRR測(cè)試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展,薄膜厚度越來(lái)越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的測(cè)量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專(zhuān)業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。專(zhuān)為在環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下,對(duì)從粉末、非晶和多晶材料到外延多層薄膜等各種材料進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征而設(shè)計(jì)。
材料研究樣品臺(tái)緊湊型UMC和緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)能夠精確地移動(dòng)樣品,因此擴(kuò)展了D8ADVANCEPlus的樣品處理能力。緊湊型UMC樣品臺(tái)可對(duì)2Kg的樣品進(jìn)行電動(dòng)移動(dòng):X軸25mm、Y軸70mm和Z軸52mm,可用于分析大型塊狀樣品或多個(gè)小樣品;緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)的Phi旋轉(zhuǎn)角度不受限制,Psi傾斜度在-5°到95°之間,可用于應(yīng)力、織構(gòu)和外延薄膜分析。另外,它還具有真空多用途通孔,可通過(guò)小型薄膜樣品架或大型手動(dòng)X-Y樣品臺(tái),將樣品固定在適當(dāng)位置。二者均可用于溫控樣品臺(tái),進(jìn)行非環(huán)境分析。另外,它們還可借助DIFFRAC.DAVINCI樣品臺(tái)卡口安裝系統(tǒng),輕松更換樣品臺(tái)。在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行晶片分析:分析晶片的層厚度和外延層濃度的均勻性。江西購(gòu)買(mǎi)XRD衍射儀
對(duì)較大300 mm的樣品進(jìn)行掃描、安裝和掃描重量不超過(guò)5kg的樣品、自動(dòng)化接口。合肥取向檢測(cè)分析
薄膜和涂層薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒別、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析,從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜等。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射高分辨率X射線衍射倒易空間掃描,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專(zhuān)業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。合肥取向檢測(cè)分析