微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-20

所有維度都非常好的數(shù)據(jù)質(zhì)量不論在何種應(yīng)用場(chǎng)合,它都是您的可選的探測(cè)器:高的計(jì)數(shù)率、動(dòng)態(tài)范圍和能量分辨率,峰位精度布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976c)整個(gè)角度范圍內(nèi)的準(zhǔn)直保證,面向未來(lái)的多用途采用了開放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí),將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致,這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì),布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì)極大地簡(jiǎn)化了D8ADVANCE的操作,使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型。為便于用戶使用,該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。該系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù),即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進(jìn)行切換,且無(wú)需人工干預(yù),是在環(huán)境下和非環(huán)境下對(duì)包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)在內(nèi)的所有類型的樣品進(jìn)行分析的理想選擇。這種X射線源可提供高亮度光束,對(duì)mm大小的樣品研究,或使用μm大小光束進(jìn)行微區(qū)X射線衍射研究的理想選擇。微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀

微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀,XRD衍射儀

D8ADVANCEPlus是D8ADVANCE的又一版本,是面向多用途、多用戶實(shí)驗(yàn)室的X射線平臺(tái)。它可理想地滿足您對(duì)所有樣品類型的需求,包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延):典型的X射線粉末衍射(XRD)對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析小角X射線散射(SAXS)和廣角X射線散射(WAXS)X射線反射率(XRR)和高分辨XRD(搖擺曲線,倒易空間掃描)環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下該系統(tǒng)的一大優(yōu)勢(shì)在于它能夠在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行切換:從用于粉末的Bragg-Brentano聚焦幾何到用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何以及兩者之間的切換。您只需按下按鈕,整個(gè)軟件盡在掌握。廣東物相定量分析XRD衍射儀檢測(cè)MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度,與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。

微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀,XRD衍射儀

D8DISCOVER特點(diǎn):微焦源IμS配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線束,非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì):低功耗、無(wú)耗水、使用壽命延長(zhǎng)3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線源,用于產(chǎn)生X射線。6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管,可實(shí)現(xiàn)線焦斑或點(diǎn)焦斑。7.專業(yè)的TWIST-TUBE(旋轉(zhuǎn)光管)技術(shù),可快速簡(jiǎn)便地切換線焦斑和點(diǎn)焦斑。8.微焦斑X射線源(IμS)可提高極小焦斑面積上的X射線通量,而功耗卻很低。9.TURBOX射線源(TXS)旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極可為線焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線通量。10.性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù),可提供無(wú)出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源(TXS-HE)可為點(diǎn)焦斑和線焦斑應(yīng)用提供比較高X射線通量,適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結(jié)合指定使用X射線光學(xué)元件,可高效捕獲X射線,并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線束。

超薄HfO2薄膜XRR測(cè)試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展,薄膜厚度越來(lái)越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的測(cè)量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。無(wú)論面對(duì)何種應(yīng)用,DIFFRAC.DAVINCI都會(huì)指引用戶選擇較好的儀器配置。

微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀,XRD衍射儀

LYNXEYEXE-T具有優(yōu)于380eV的能量分辨率,著實(shí)出色,是市面上性能的熒光過(guò)濾器探測(cè)器系統(tǒng)。借助它,您可在零強(qiáng)度損失下對(duì)由銅輻射激發(fā)的鐵熒光進(jìn)行100%過(guò)濾,而且無(wú)需金屬濾波片,因此數(shù)據(jù)也不會(huì)存在偽影,如殘余K?和吸收邊。同樣,也無(wú)需用到會(huì)消除強(qiáng)度的二級(jí)單色器。布魯克提供獨(dú)有的LYNXEYEXE-T探測(cè)器保證:交貨時(shí)保證無(wú)壞道!LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測(cè)器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測(cè)器,適用于所有波長(zhǎng)(從Cr到Ag),具有準(zhǔn)確的計(jì)數(shù)率和角分辨率,是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。LYNXEYE XE-T主要用于0D、1D和2D數(shù)據(jù)采集,具有始終有效的出色能量鑒別能力,同時(shí)不會(huì)損失二級(jí)單色器信號(hào)。上海微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀推薦咨詢

UMC樣品臺(tái)通常用于分析大塊樣品、掃描測(cè)量應(yīng)用和涂層分析,也能測(cè)量多個(gè)小樣品或用于執(zhí)行非環(huán)境實(shí)驗(yàn)。微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀

對(duì)于需要探索材料極限的工業(yè)金屬樣品,通常需要進(jìn)行殘余應(yīng)力和織構(gòu)測(cè)量。通過(guò)消除樣品表面的拉應(yīng)力或引起壓應(yīng)力,可延長(zhǎng)其功能壽命。這可通過(guò)熱處理或噴丸處理等物理工藝來(lái)完成。構(gòu)成塊狀樣品的微晶的取向,決定了裂紋的生長(zhǎng)方式。而通過(guò)在材料中形成特定的織構(gòu),可顯著增強(qiáng)其特性。這兩種技術(shù)在優(yōu)化制造法(例如增材制造)領(lǐng)域也占有一席之地。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀

標(biāo)簽: XRD衍射儀 顯微CT