青海納米壓印國內(nèi)用戶

來源: 發(fā)布時間:2020-12-28

    ”EV集團的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說,“通過與供應鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,例如DELO,我們能夠進一步提高效率,作為與工藝和設備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心?!薄癊VG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設備與光學材料的技術(shù)與市場**企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗,”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道。“通過合作,我們將提供自己獨特的技術(shù),將晶圓級工藝技術(shù)應用于光學器件和光電器件制造中,EVG也成為我們***產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務。"晶圓級光學元件的應用解決方案EVG的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產(chǎn)品提供多種新型的光學傳感設備。主要的例子是:3D感應,飛行時間,結(jié)構(gòu)光,生物特征身份認證,面部識別,虹膜掃描,光學指紋,頻譜檢測,環(huán)境感應與紅外線成像。其它應用領(lǐng)域包括汽車照明,光地毯,平視顯示器,車內(nèi)感應,激光雷達,內(nèi)窺鏡照相機醫(yī)學成像,眼科設備與手術(shù)機器人。EVG的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。青海納米壓印國內(nèi)用戶

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


本地納米壓印有誰在用EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學(WLO)的制造。

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


納米壓印設備哪個好?預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。


將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上,從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。


EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。

納米壓印應用三:連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。


**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,這對于實現(xiàn)衍射光學元件(DOE)至關(guān)重要。MEMS納米壓印有哪些應用

EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現(xiàn)。青海納米壓印國內(nèi)用戶

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。


EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)


HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。 青海納米壓印國內(nèi)用戶

岱美儀器技術(shù)服務(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司。公司自創(chuàng)立以來,投身于磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術(shù)服務繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。岱美儀器技術(shù)服務始終關(guān)注儀器儀表市場,以敏銳的市場洞察力,實現(xiàn)與客戶的成長共贏。