IQ Aligner UV-NIL特征：
用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用
用于全場納米壓印應(yīng)用
三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償
三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制
利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝
EVG專有的全自動浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型
曝光源：汞光源
對準(zhǔn)：≤±0.5微米
自動分離：支持的
前處理：涂層：水坑點膠（可選）
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。貴州納米壓印芯片堆疊應(yīng)用
SmartNIL是一項關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。例如，SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標(biāo)準(zhǔn)。SmartNIL還非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備的生產(chǎn)。此外，SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能，**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對于實現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要。
特征：
體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
專有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)
經(jīng)過生產(chǎn)驗證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對準(zhǔn)能力
室溫過程
開放式材料平臺 官方納米壓印技術(shù)支持**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對于實現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要。
為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。
通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)
聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時間**快
優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板
UV納米壓印光刻系統(tǒng)
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)
■高精度對準(zhǔn)臺
■自動楔形誤差補償機(jī)制
■電動和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術(shù)
■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材
■體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)
■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作
■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺
EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)。
納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印
EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。
EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。福建納米壓印研發(fā)生產(chǎn)
EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實現(xiàn)。貴州納米壓印芯片堆疊應(yīng)用
EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)
具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。
該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間*為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。
貴州納米壓印芯片堆疊應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊和良好的市場口碑。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強大的研發(fā)實力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。