為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。
通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)
聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時間**快
優(yōu)化的模塊化平臺可實(shí)現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。黑龍江納米壓印國內(nèi)用戶
EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。
EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項(xiàng)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
研究所納米壓印價格怎么樣EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺，可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。
NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開發(fā)周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價值，不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開發(fā)，還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)?！盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá)，支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用，視野更廣，高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后，肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎（SIDDisplayIndustryAward2019）。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的**國際技術(shù)集團(tuán)。公司積累了超過130年的經(jīng)驗(yàn)，是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。
SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。例如，SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標(biāo)準(zhǔn)。SmartNIL還非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備的生產(chǎn)。此外，SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能，**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要。
特征：
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
專有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)
經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對準(zhǔn)能力
室溫過程
開放式材料平臺 岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達(dá)八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準(zhǔn)：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預(yù)處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。三維芯片納米壓印供應(yīng)商家
EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。黑龍江納米壓印國內(nèi)用戶
EVG ® 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)
EV Group的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高
效且靈活的制造技術(shù)，對于尺寸低至50 nm的特征，其復(fù)制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準(zhǔn)的組合可將熱壓紋與預(yù)處理的基板結(jié)構(gòu)對準(zhǔn)。這個系列包含的型號有：EVG®510HE，EVG®520HE。 黑龍江納米壓印國內(nèi)用戶
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等，價格合理，品質(zhì)有保證。公司注重以質(zhì)量為中心，以服務(wù)為理念，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。