EVG ® 620 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 620 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
SmartNIL
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
SmartNIL ®：在100毫米范圍
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：
軟NIL：≤±0.5 μm
SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持
SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留可擴展性和易于維護的特點。奧地利納米壓印有哪些品牌
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
注：*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 中國香港納米壓印用于生物芯片EVG ? 610也可以設(shè)計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。
HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）
■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)
■全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作
■用于晶圓級光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類型的母版的簡單實現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
”EV集團的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說，“通過與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作，例如DELO，我們能夠進一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心?！薄癊VG和DELO分別是晶圓級光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場**企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗,”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道?！巴ㄟ^合作，我們將提供自己獨特的技術(shù)，將晶圓級工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中，EVG也成為我們***產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級光學(xué)器件解決方案為移動式消費電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備。主要的例子是：3D感應(yīng)，飛行時間，結(jié)構(gòu)光，生物特征身份認證，面部識別,虹膜掃描，光學(xué)指紋，頻譜檢測，環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明，光地毯，平視顯示器，車內(nèi)感應(yīng)，激光雷達，內(nèi)窺鏡照相機醫(yī)學(xué)成像，眼科設(shè)備與手術(shù)機器人。EVG的晶圓級光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)，是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。
EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝，用于光學(xué)對準的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項
外部浮雕和冷卻站
EVG ® 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù)：
加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米
比較大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：單芯片，100毫米
比較大接觸力：10、20、60 kN
比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C
夾盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標準：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar
EVG先進的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。奧地利納米壓印有哪些品牌
NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟、高 效的方法。奧地利納米壓印有哪些品牌
IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)
應(yīng)用：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設(shè)計可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。
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岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主營品牌有岱美儀器技術(shù)服務(wù)，發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大，該公司其他型的公司。公司是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，以誠信務(wù)實的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團隊、踏實的職工隊伍，努力為廣大用戶提供***的產(chǎn)品。以滿足顧客要求為己任；以顧客永遠滿意為標準；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標，提供***的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來，一直堅持走正規(guī)化、專業(yè)化路線，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。