江蘇納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2020-10-20

EVG ® 7200 LA特征:

專有SmartNIL ®技術(shù),提供了****的印跡形大面積

經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強(qiáng)大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容


EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)

對(duì)準(zhǔn):可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn):≤±15 μm

自動(dòng)分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。江蘇納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格

       EVG公司技術(shù)開(kāi)發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說(shuō):“我們開(kāi)發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對(duì)*復(fù)雜的挑戰(zhàn),幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù),我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?!霸诰哂斜Wo(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi),我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案?!?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開(kāi)發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業(yè),企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場(chǎng)領(lǐng)域釋放AR在大眾市場(chǎng)的應(yīng)用,并遵循公司模塊計(jì)劃的推出。 全域納米壓印應(yīng)用EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī),微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用

三個(gè)**控制的Z軸,可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個(gè)**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對(duì)準(zhǔn):≤±0.5微米

自動(dòng)分離:支持的

前處理:涂層:水坑點(diǎn)膠(可選)

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


    NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開(kāi)放式的創(chuàng)新孵化器,從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開(kāi)發(fā)周期和上市時(shí)間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價(jià)值,不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開(kāi)發(fā),還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場(chǎng)中的采用。我們正在攜手肖特開(kāi)展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)?!盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá),支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用,視野更廣,高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎(jiǎng)(SIDDisplayIndustryAward2019)。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的**國(guó)際技術(shù)集團(tuán)。公司積累了超過(guò)130年的經(jīng)驗(yàn),是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。納米壓印設(shè)備可用來(lái)進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個(gè)完全模塊化平臺(tái)®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個(gè)平臺(tái)上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺(tái)和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來(lái)配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件(DOE)至關(guān)重要。芯片納米壓印有哪些品牌

SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。江蘇納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果:

新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個(gè)像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來(lái)源:EVG與SwissLitho

AG合作(歐盟項(xiàng)目SNM)

2.通過(guò)熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來(lái)源:EVG

3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列

由加拿大國(guó)家研究委 員會(huì)提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層,厚度約為10 nm

資料來(lái)源:EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來(lái)源:EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來(lái)源:EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級(jí)封裝

資料來(lái)源:EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來(lái)源:EVG(歐盟Saphely項(xiàng)目)

10.在強(qiáng)光照射下對(duì)HRISmartNIL®烙印進(jìn)行完整的晶圓照相

資料來(lái)源:EVG 江蘇納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),各種專業(yè)設(shè)備齊全。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。公司以用心服務(wù)為重點(diǎn)價(jià)值,希望通過(guò)我們的專業(yè)水平和不懈努力,將磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動(dòng)力,致力于為顧客帶來(lái)***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)。