EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。
EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項(xiàng)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動(dòng)化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。實(shí)驗(yàn)室納米壓印聯(lián)系電話
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
注：*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 廣東納米壓印代理商EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。
EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作
EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。
IQ Aligner UV-NIL特征：
用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用
用于全場納米壓印應(yīng)用
三個(gè)**控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償
三個(gè)**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制
利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝
EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型
曝光源：汞光源
對準(zhǔn)：≤±0.5微米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。
NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級圖案的相當(dāng)有成本效益的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。
新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級光學(xué)（WLO）的制造。海南納米壓印研發(fā)可以用嗎
岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。實(shí)驗(yàn)室納米壓印聯(lián)系電話
EVG ® 770特征：
微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®
簡單實(shí)施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償
可選的自動(dòng)盒帶間處理
EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2
對準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印記區(qū)域：長達(dá)50 x 50毫米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：涂層：液滴分配（可選）
實(shí)驗(yàn)室納米壓印聯(lián)系電話
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。