SmartNIL技術簡介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有: EVG?610,EVG?620NT,EVG?6200NT,EVG?720,EVG?7200等。**納米壓印價格怎么樣
HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設備和應用程序的生產(chǎn),包括用于增強/虛擬現(xiàn)實(AR / VR)頭戴式耳機的光學設備,3D傳感器,生物醫(yī)學設備,納米光子學和等離激元學。
HERCULES ® NIL特征:
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀,包括3D
適用于高地形(粗糙)表面
*分辨率取決于過程和模板
江西納米壓印圖像傳感器應用EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。
納米壓印光刻設備-處理結果:
新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像
資料來源:EVG與SwissLitho
AG合作(歐盟項目SNM)
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源:EVG
3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層,厚度約為10 nm
資料來源:EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源:EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構化(mc-Si)
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結構50 μm
資料來源:EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源:EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源:EVG(歐盟Saphely項目)
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源:EVG
UV納米壓印光刻系統(tǒng)
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)
■高精度對準臺
■自動楔形誤差補償機制
■電動和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術
■**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材
■體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術
■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作
■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺
HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。
EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準功能,完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。全域納米壓印微流控應用
高 效,強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。**納米壓印價格怎么樣
SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,可用于顯示器,生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新。例如,SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印,以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化,以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備的生產(chǎn)。此外,SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能,**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現(xiàn)衍射光學元件(DOE)至關重要。
特征:
體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術
經(jīng)過生產(chǎn)驗證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對準能力
室溫過程
開放式材料平臺 **納米壓印價格怎么樣
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