液晶顯示器膜厚儀原理

來源: 發(fā)布時間:2020-08-10

Filmetrics 的技術Filmetrics 提供了范圍***的測量生物醫(yī)療涂層的方案:支架: 支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類的儀器。 我們的 F40 在幾十個實驗室內得到使用,測量鈍化和/或藥 物輸送涂層。我們有獨特的測量系統對整個支架表面的自動厚度測繪,只需在測量時旋轉支架。植入件: 在測量植入器件的涂層時,不規(guī)則的表面形狀通常是***挑戰(zhàn)。 Filmetrics 提供這一用途的全系列探頭。導絲和導引針: 和支架一樣,這些器械常常可以用象 F40 這樣的顯微鏡儀器。導液管和血管成型球囊的厚度:大于 100 微米的厚度和可見光譜不透明性決定了 F20-NIR 是這一用途方面全世界眾多實驗室內很受歡迎的儀器。以真空鍍膜為設計目標,F10-RT 只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜。液晶顯示器膜厚儀原理

F50 系列

包含的內容:集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈

型號 厚度范圍*波長范圍

F50:20nm-70μm 380-1050nm

F50-UV:5nm-40μm 190-1100nm

F50-NIR:100nm-250μm 950-1700nm

F50-EXR:20nm-250μm 380-1700nm

F50-UVX:5nm-250μm 190-1700nm

F50-XT:0.2μm-450μm 1440-1690nm

F50-s980:4μm-1mm 960-1000nm

F50-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm

F50-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm

額外的好處:每臺系統內建超過130種材料庫, 隨著不同應用更超過數百種應用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯網)硬件升級計劃 測厚儀膜厚儀值得買F3-sX 系列測厚范圍:10μm - 3mm;波長:960-1580nm。

技術介紹:

紅外干涉測量技術, 非接觸式測量。采用Michaelson干涉方法,紅外波段的激光能更好的穿透被測物體,準確的得到測試結果。


產品簡介:FSM 413EC 紅外干涉測量設備

適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………

應用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度   

溝槽深度

   過孔尺寸、深度、側壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

硅片厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側壁角度...


    1、激光測厚儀是利用激光的反射原理,根據光切法測量和觀察機械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測量產品的厚度,是一種非接觸式的動態(tài)測量儀器。它可直接輸出數字信號與工業(yè)計算機相連接,并迅速處理數據并輸出偏差值到各種工業(yè)設備。2、X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料時,X射線的強度的變化與材料的厚度相關的特性,滄州歐譜從而測定材料的厚度,是一種非接觸式的動態(tài)計量儀器。它以PLC和工業(yè)計算機為**,采集計算數據并輸出目標偏差值給軋機厚度控制系統,達到要求的軋制厚度。主要應用行業(yè):有色金屬的板帶箔加工、冶金行業(yè)的板帶加工。3、紙張測厚儀:適用于4mm以下的各種薄膜、紙張、紙板以及其他片狀材料厚度的測量。4、薄膜測厚儀:用于測定薄膜、薄片等材料的厚度,測量范圍寬、測量精度高,具有數據輸出、任意位置置零、公英制轉換、自動斷電等特點。5、涂層測厚儀:用于測量鐵及非鐵金屬基體上涂層的厚度.6、超聲波測厚儀:超聲波測厚儀是根據超聲波脈沖反射原理來進行厚度測量的,當探頭發(fā)射的超聲波脈沖通過被測物體到達材料分界面時,脈沖被反射回探頭,通過精確測量超聲波在材料中傳播的時間來確定被測材料的厚度。不同的 F50 儀器是根據波長范圍來加以區(qū)分的。

參考材料

備用 BK7 和二氧化硅參考材料。

BG-Microscope顯微鏡系統內取背景反射的小型抗反光鏡

BG-F10-RT平臺系統內獲取背景反射的抗反光鏡

REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準

REF-Al-3mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準

REF-BK71?" x 1?" BK7 反射基準。

REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經處理的石英,用于雙界面基準。

REF-Si-22" 單晶硅晶圓

REF-Si-44" 單晶硅晶圓

REF-Si-66" 單晶硅晶圓

REF-Si-88" 單晶硅晶圓

REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺設計之鋁反射率基準片

REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺設計之BK7玻璃反射率基準片

REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺設計之硅反射率基準片 成功測量光刻膠要面對一些獨特的挑戰(zhàn), 而 Filmetrics 自動測量系統成功地解決這些問題。晶圓片膜厚儀研發(fā)生產

F40-UV范圍:4nm-40μm,波長:190-1100nm。液晶顯示器膜厚儀原理

F50 和 F60 的晶圓平臺提供不同尺寸晶圓平臺。

F50晶圓平臺- 100mm用于 2"、3" 和 4" 晶圓的 F50 平臺組件。

F50晶圓平臺- 200mm用于 4"、5"、 6" 和 200mm 晶圓的 F50 平臺組件。

F50晶圓平臺- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F50 平臺組件。

F50晶圓平臺- 450mmF50 夾盤組件實用于 4", 5", 6", 200mm, 300mm, 以及450mm毫米晶片。

F50晶圓平臺- 訂制預訂 F50 的晶圓平臺,通常在四星期內交貨。

F60晶圓平臺- 200mm用于 4"、5"、6" 和 200mm 晶圓的 F60 平臺組件。

F60晶圓平臺- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F60 平臺組件。 液晶顯示器膜厚儀原理

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