晶片膜厚儀測樣

來源: 發(fā)布時(shí)間:2020-08-02

FSM膜厚儀簡單介紹:

FSM 128 厚度以及TSV和翹曲變形測試設(shè)備:

美國Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測量設(shè)備,客戶遍布全世界, 主要產(chǎn)品包括:光學(xué)測量設(shè)備: 三維輪廓儀、拉曼光譜、

薄膜應(yīng)力測量設(shè)備、 紅外干涉厚度測量設(shè)備、電學(xué)測量設(shè)備:高溫四探針測量設(shè)備、非接觸式片電阻及 漏電流測量設(shè)備、金屬污染分析、等效氧化層厚度分析 (EOT)。

請(qǐng)?jiān)L問我們的中文官網(wǎng)了解更多的信息。 基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多數(shù)金屬) 上的話,一般不能測量薄膜的折射率。晶片膜厚儀測樣

測量有機(jī)發(fā)光顯示器有機(jī)發(fā)光顯示器 (OLEDs)有機(jī)發(fā)光顯示器正迅速從實(shí)驗(yàn)室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn)。明亮,超薄,動(dòng)態(tài)的特性使它們成為從手機(jī)到電視顯示屏的優(yōu)先。組成顯示屏的多層薄膜的精密測量非常重要,但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀,因?yàn)樗鼤?huì)破壞顯示屏表面。我們的F20-UV,F(xiàn)40-UV,和F10-RT-UV將提供廉價(jià),可靠,非侵入測量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測量大氣敏感材料的化學(xué)變化。

測量透明導(dǎo)電氧化膜不論是銦錫氧化物,氧化鋅,還是聚合物(3,4-乙烯基),我們獨(dú)有的ITO光學(xué)模型,加上可見/近紅外儀器,可以測得厚度和光學(xué)常數(shù),費(fèi)用和操作難度*是光譜橢偏儀的一小部分。 半導(dǎo)體設(shè)備膜厚儀技術(shù)服務(wù)可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。

F50 和 F60 的晶圓平臺(tái)提供不同尺寸晶圓平臺(tái)。

F50晶圓平臺(tái)- 100mm用于 2"、3" 和 4" 晶圓的 F50 平臺(tái)組件。

F50晶圓平臺(tái)- 200mm用于 4"、5"、 6" 和 200mm 晶圓的 F50 平臺(tái)組件。

F50晶圓平臺(tái)- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F50 平臺(tái)組件。

F50晶圓平臺(tái)- 450mmF50 夾盤組件實(shí)用于 4", 5", 6", 200mm, 300mm, 以及450mm毫米晶片。

F50晶圓平臺(tái)- 訂制預(yù)訂 F50 的晶圓平臺(tái),通常在四星期內(nèi)交貨。

F60晶圓平臺(tái)- 200mm用于 4"、5"、6" 和 200mm 晶圓的 F60 平臺(tái)組件。

F60晶圓平臺(tái)- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F60 平臺(tái)組件。

F10-AR易于使用而且經(jīng)濟(jì)有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR 是測試眼科減反涂層設(shè)計(jì)的儀器。 雖然價(jià)格**低于當(dāng)今絕大多數(shù)同類儀器,應(yīng)用幾項(xiàng)技術(shù), F10-AR 使線上操作人員經(jīng)過幾分鐘的培訓(xùn),就可以進(jìn)行厚度測量。

在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進(jìn)行比較低、比較高和平均反射測試。

我們有專門的算法對(duì)硬涂層的局部反射失真進(jìn)行校正。 我們獨(dú)有的 AutoBaseline 能極大地增加基線間隔,提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度。

利用可選的 UPG-F10-AR-HC 軟件升級(jí)能測量 0.25-15um 的硬涂層厚度。 在減反層存在的情況下也能對(duì)硬涂層厚度進(jìn)行測量。 產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備。

參考材料

備用 BK7 和二氧化硅參考材料。

BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡

BG-F10-RT平臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡

REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn)

REF-Al-3mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn)

REF-BK71?" x 1?" BK7 反射基準(zhǔn)。

REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英,用于雙界面基準(zhǔn)。

REF-Si-22" 單晶硅晶圓

REF-Si-44" 單晶硅晶圓

REF-Si-66" 單晶硅晶圓

REF-Si-88" 單晶硅晶圓

REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺(tái)設(shè)計(jì)之鋁反射率基準(zhǔn)片

REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺(tái)設(shè)計(jì)之BK7玻璃反射率基準(zhǔn)片

REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺(tái)設(shè)計(jì)之硅反射率基準(zhǔn)片 F30 系列是監(jiān)控薄膜沉積,**強(qiáng)有力的工具。晶片膜厚儀一級(jí)代理

可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。晶片膜厚儀測樣

F3-CS:

快速厚度測量可選配FILMeasure厚度測量軟件使厚度測量就像在平臺(tái)上放置你的樣品一樣容易, 軟件內(nèi)建所有常見的電介質(zhì)和半導(dǎo)體層(包括C,N和HT型聚對(duì)二甲苯)的光學(xué)常數(shù)(n和k),厚度結(jié)果會(huì)及時(shí)的以直覺的測量結(jié)果顯示對(duì)于進(jìn)階使用者,可以進(jìn)一步以F3-CS測量折射率, F3-CS可在任何運(yùn)行Windows XP到 Windows8 64位作業(yè)系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)上運(yùn)行, USB電纜則提供電源和通信功能.

包含的內(nèi)容:USB供電之光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件內(nèi)置樣品平臺(tái)BK7 參考材料四萬小時(shí)光源壽命

額外的好處:應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng)) 晶片膜厚儀測樣

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè),技術(shù)力量雄厚。公司致力于為客戶提供安全、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務(wù),是一家有限責(zé)任公司企業(yè)。以滿足顧客要求為己任;以顧客永遠(yuǎn)滿意為標(biāo)準(zhǔn);以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo),提供***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品,為彼此贏得全新的未來!