HERCULES ® NIL特征：
全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過(guò)程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：提供所有預(yù)處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印聯(lián)系電話
UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統(tǒng)
EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產(chǎn)品線，包括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效，強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于調(diào)整的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期承諾，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。
這個(gè)系列的型號(hào)包括：EVG®610；EVG®620NT；EVG®6200NT；EVG®720；EVG®7200；EVG®7200LA；HERCULES®NIL；EVG®770；IQAligner®。 3D IC納米壓印要多少錢SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。
UV納米壓印光刻系統(tǒng)
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制
■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術(shù)
■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動(dòng)化的全場(chǎng)納米壓印解決方案，適用于第3代基材
■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)
■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作
■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)
EVG ® 7200 LA特征：
專有SmartNIL ®技術(shù)，提供了****的印跡形大面積
經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本
強(qiáng)大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）
解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）
對(duì)準(zhǔn)：可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn)：≤±15 μm
自動(dòng)分離：支持的
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場(chǎng)**的晶圓鍵合技術(shù)。
納米壓印應(yīng)用一：鏡片成型
晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造得到EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復(fù)制來(lái)的工作印模，通過(guò)軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學(xué)聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進(jìn)行大批量晶圓級(jí)鏡頭復(fù)制的優(yōu)先。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。
EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。IQAligner納米壓印學(xué)校會(huì)用嗎
納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù)，大批量替代光刻技術(shù)。掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印聯(lián)系電話
納米壓印設(shè)備哪個(gè)好？預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。
納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。
掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印聯(lián)系電話
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司擁有磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】等多項(xiàng)業(yè)務(wù)，主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺(tái)與成長(zhǎng)空間，為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù)，深受員工與客戶好評(píng)。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)。公司深耕磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。