NanoScopy輪廓儀干涉測(cè)量應(yīng)用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2020-07-09

    輪廓儀是用容易理解的機(jī)械技術(shù)測(cè)量薄膜厚度。它的工作原理是測(cè)量測(cè)量劃過薄膜的檢測(cè)筆的高度(見右圖)。輪廓儀的主要優(yōu)點(diǎn)是可以測(cè)量所有固體膜,包括不透明的厚金屬膜。更昂貴的系統(tǒng)能測(cè)繪整個(gè)表面輪廓。(有關(guān)我們的低成本光學(xué)輪廓儀的資訊,請(qǐng)點(diǎn)擊這里).獲取反射光譜指南然而輪廓儀也有不足之處。首先,樣本上必須有個(gè)小坎才能測(cè)量薄膜厚度,而小坎通常無法很標(biāo)準(zhǔn)(見圖)。這樣,標(biāo)定誤差加上機(jī)械漂移造成5%-10%的測(cè)量誤差。與此相比,光譜反射儀使用非接觸技術(shù),不需要任何樣本準(zhǔn)備就可以測(cè)量厚度。只需一秒鐘分析從薄膜反射的光就可確定薄膜厚度和折射率。光譜反射儀還可以測(cè)量多層薄膜。輪廓儀和光譜反射儀的主要優(yōu)點(diǎn)列表于下。如需更多光譜反射儀信息請(qǐng)?jiān)L問我們官網(wǎng)。自動(dòng)聚焦范圍 : ± 0.3mm。NanoScopy輪廓儀干涉測(cè)量應(yīng)用

輪廓儀的**團(tuán)隊(duì)

夏勇博士,江蘇省雙創(chuàng)人才


15年ADE,KAL-Tencor半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備公司研發(fā)、項(xiàng)目管理經(jīng)驗(yàn)


SuperSight Inc. CEO/共同創(chuàng)始人,太陽能在線檢測(cè)設(shè)備

唐壽鴻博士,國(guó)家千人****


25年 ADE,KAL-Tencor半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備公司研發(fā)經(jīng)驗(yàn)


KLA-Tencor ***研發(fā)總監(jiān),***圖像處理、算法**

許衡博士,軟件系統(tǒng)研發(fā)


10 年硅谷世界500強(qiáng)研發(fā)經(jīng)驗(yàn)(BD Medical

Instrument)

光學(xué)測(cè)量、軟件系統(tǒng)


岱美儀器與**組為您提供輪廓儀的技術(shù)支持,為您排憂解難。 霍梅爾輪廓儀摩擦學(xué)應(yīng)用三維表面輪廓儀是精密加工領(lǐng)域必不可少的檢測(cè)設(shè)備,它既保障了生產(chǎn)加工的準(zhǔn)確性,又提高了成品的出產(chǎn)效率。

輪廓儀產(chǎn)品應(yīng)用

藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)

高精密材料表面缺 陷超精密表面缺 陷分析,核探測(cè)


Oled 特征結(jié)構(gòu)測(cè)量,表面粗糙度  

外延片表面缺 陷檢測(cè)

硅片外延表面缺 陷檢測(cè)

散熱材料表面粗糙度分析(粗糙度控制)


生物、醫(yī)藥新技術(shù),微流控器件

微結(jié)構(gòu)均勻性 缺 陷,表面粗糙度


移相算法的優(yōu)化和軟件系統(tǒng)的開發(fā) 本作品采用重疊平均移相干涉算法,保證了亞納米量級(jí)的測(cè)量精度;優(yōu)化軟件控制系統(tǒng),使每次檢測(cè)時(shí)間壓縮到10秒鐘以內(nèi),同時(shí)完善的數(shù)據(jù)評(píng)價(jià)系統(tǒng)為用戶評(píng)價(jià)產(chǎn)品面形質(zhì)量提供了方便。

NanoX-2000/3000

系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光

垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗

糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。


使用范圍廣: 兼容多種測(cè)量和觀察需求  

保護(hù)性: 非接觸式光學(xué)輪廓儀

耐用性更強(qiáng), 使用無損 

可操作性:一鍵式操作,操作更簡(jiǎn)單,更方便  

具備異常報(bào)警,急停等功能,報(bào)警信息可儲(chǔ)存。

    超納輪廓儀的主設(shè)計(jì)簡(jiǎn)介:

中組部第十一批“****”****,美國(guó)KLA-Tencor(集成電路行業(yè)檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)的**企業(yè))***研發(fā)總監(jiān),干涉測(cè)量技術(shù)**美國(guó)上市公司ADE-Phaseift的總研發(fā)工程師,創(chuàng)造多項(xiàng)干涉測(cè)量數(shù)字化所需的關(guān)鍵算法,在光測(cè)領(lǐng)域發(fā)表23個(gè)美國(guó)專利和35篇學(xué)術(shù)論文3個(gè)研發(fā)的產(chǎn)品獲得大獎(jiǎng),國(guó)家教育部***批公派研究生,83年留學(xué)美國(guó)。光學(xué)輪廓儀可廣泛應(yīng)用于各類精密工件表面質(zhì)量要求極高的如:半導(dǎo)體、微機(jī)電、納米材料、生物醫(yī)療、精密涂層、科研院所、航空航天等領(lǐng)域??梢哉f只要是微型范圍內(nèi)重點(diǎn)部位的納米級(jí)粗糙度、輪廓等參數(shù)的測(cè)量,除了三維光學(xué)輪廓儀,沒有其它的儀器設(shè)備可以達(dá)到其精度要求。(網(wǎng)絡(luò))。 菜單式系統(tǒng)設(shè)置,一鍵式操作,自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。北京輪廓儀應(yīng)用

輪廓儀可用于Oled 特征結(jié)構(gòu)測(cè)量,表面粗糙度,外延片表面缺 陷檢測(cè),硅片外延表面缺 陷檢測(cè)。NanoScopy輪廓儀干涉測(cè)量應(yīng)用

輪廓儀產(chǎn)品概述:  

NanoX-2000/3000

系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光

垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗

糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。


想要了解更多的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器。 NanoScopy輪廓儀干涉測(cè)量應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主要經(jīng)營(yíng)范圍是儀器儀表,擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場(chǎng)口碑。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司從事儀器儀表多年,有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù),還有一批**的專業(yè)化的隊(duì)伍,確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。在社會(huì)各界的鼎力支持下,持續(xù)創(chuàng)新,不斷鑄造***服務(wù)體驗(yàn),為客戶成功提供堅(jiān)實(shí)有力的支持。