納米壓印光刻（NIL）技術(shù)
EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。
其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細(xì)的參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。
EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
*分辨率取決于過(guò)程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 原裝進(jìn)口納米壓印有哪些應(yīng)用 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法。
EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作
EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫(xiě)入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能，完整的過(guò)程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。
UV納米壓印光刻系統(tǒng)
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制
■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術(shù)
■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動(dòng)化的全場(chǎng)納米壓印解決方案，適用于第3代基材
■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)
■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作
■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式
■適用于所有市售壓印材料的開(kāi)放平臺(tái)
EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。
HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過(guò)程和模板）
■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)
■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作
■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG納米壓印服務(wù)為先
EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎
HERCULES ® NIL特征：
全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過(guò)程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：提供所有預(yù)處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主要經(jīng)營(yíng)范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場(chǎng)口碑。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)等，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn)，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。