EVG7200納米壓印供應商家

來源: 發(fā)布時間:2020-06-16

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。


EVG?770可用于連續(xù)重復的納米壓印光刻技術(shù),可進行有效的母版制作。EVG7200納米壓印供應商家

EVG ® 720特征:

體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性

系統(tǒng)外殼,可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:可選的頂部對準

自動分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EVG7200納米壓印供應商家EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術(shù)。

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。EVG7200納米壓印供應商家

HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。EVG7200納米壓印供應商家

    ”EV集團的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說,“通過與供應鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,例如DELO,我們能夠進一步提高效率,作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心?!薄癊VG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設(shè)備與光學材料的技術(shù)與市場**企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗,”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道。“通過合作,我們將提供自己獨特的技術(shù),將晶圓級工藝技術(shù)應用于光學器件和光電器件制造中,EVG也成為我們***產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級光學元件的應用解決方案EVG的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產(chǎn)品提供多種新型的光學傳感設(shè)備。主要的例子是:3D感應,飛行時間,結(jié)構(gòu)光,生物特征身份認證,面部識別,虹膜掃描,光學指紋,頻譜檢測,環(huán)境感應與紅外線成像。其它應用領(lǐng)域包括汽車照明,光地毯,平視顯示器,車內(nèi)感應,激光雷達,內(nèi)窺鏡照相機醫(yī)學成像,眼科設(shè)備與手術(shù)機器人。EVG的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。EVG7200納米壓印供應商家

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊,各種專業(yè)設(shè)備齊全。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。公司堅持以客戶為中心、磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】市場為導向,重信譽,保質(zhì)量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,致力于為顧客帶來***的磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。